浙江麗水中欣晶圓外延項目建設(shè)工程開工

（全球TMT2021年11月18日訊）2021年11月17日，浙江麗水中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司外延項目建設(shè)工程開工儀式在浙江麗水經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)舉行。項目預(yù)計將于2022年11月竣工，2023年可實現(xiàn)投產(chǎn)運營。 浙江麗水中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司由杭州中欣晶圓半...

浙江麗水中欣晶圓外延項目建設(shè)工程開工儀式隆重舉行

浙江麗水2021年11月18日 /美通社/ -- 2021年11月17日上午10點28分，浙江麗水中欣晶圓半導(dǎo)體科技有限公司外延項目建設(shè)工程開工儀式在浙江麗水經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)隆重舉行。麗水市人大常委會主任李鋒，麗水市政府常務(wù)副市長杜興林，麗水經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)黨工委書記、管委會主任劉志...

加速特征相關(guān)(FD)干法刻蝕的工藝發(fā)展

在干法刻蝕中，由于與氣體分子的碰撞和其他隨機熱效應(yīng)，加速離子的軌跡是不均勻且不垂直的(圖1)。這會對刻蝕結(jié)果有所影響，因為晶圓上任何一點的刻蝕速率將根據(jù)大體積腔室可見的立體角和該角度范圍內(nèi)的離子通量而變化。這些不均勻且特征相關(guān)的刻蝕速率使半導(dǎo)體工藝設(shè)計過程中刻蝕配方的研發(fā)愈發(fā)復(fù)雜。在本文中，我們將論述如何通過在SEMulator3D?中使用可視性刻蝕建模來彌補干法刻蝕這一方面的不足。

中芯國際：今年擬擴建 1 萬片 12 英寸和 4.5 萬 8 英寸晶圓產(chǎn)能

10月18日消息，中芯國際今日在投資者互動平臺回復(fù)問詢時表示，該公司今年擬擴建1萬片成熟12英寸和4.5萬片8英寸晶圓的產(chǎn)能，以滿足更多的客戶需求。IT之家曾報道，集邦咨詢的最新調(diào)查顯示，全球第二季度前十大晶圓代工業(yè)者產(chǎn)值達244.07億美元，季增6.2%，自2019年第三季以來...

為拓展海外業(yè)務(wù)，三星掌門人將親赴美國選址：建廠競賽開始！

全球晶圓代工先進制程領(lǐng)域競爭愈發(fā)白熱化，在臺積電公布亮眼財報，并宣告將赴日本設(shè)廠，用以生產(chǎn)22/28納米特殊制程，成為臺積電繼美國亞利桑那州興建5納米晶圓廠后，又一向海外拓展的重要決策。

中芯國際：公司今年擬擴建1萬片成熟12英寸和4.5萬片8英寸晶圓的產(chǎn)能

10月18日，中芯國際在投資者互動平臺表示，公司今年擬擴建1萬片成熟12英寸和4.5萬片8英寸晶圓的產(chǎn)能，以滿足更多的客戶需求。

中芯國際：今年擬擴建?1?萬片?12?英寸和?4.5?萬?8?英寸晶圓產(chǎn)能

10月18日消息，中芯國際今日在投資者互動平臺回復(fù)問詢時表示，該公司今年擬擴建1萬片成熟12英寸和4.5萬片8英寸晶圓的產(chǎn)能，以滿足更多的客戶需求。IT之家曾報道，集邦咨詢的最新調(diào)查顯示，全球第二季度前十大晶圓代工業(yè)者產(chǎn)值達244.07億美元，季增6.2%，自2019年第三季以來...

臺積電：優(yōu)先考慮供貨給沒囤貨的公司

早前，臺積電董事長劉德音接受專訪時表示，對于芯片短缺問題，臺積電努力用前所未有的方式解決，不過送到工廠的芯片比用于產(chǎn)品多，代表供應(yīng)鏈有人囤積芯片！

再加碼！Cree旗下Wolfspeed與ST擴大現(xiàn)有150mm SiC晶圓供應(yīng)協(xié)議

??點擊上方?“?意法半導(dǎo)體PDSA”，關(guān)注我們????????科銳與意法半導(dǎo)體宣布擴大現(xiàn)有的多年長期碳化硅（SiC）晶圓供應(yīng)協(xié)議?？其J旗下Wolfspeed是全球SiC技術(shù)引領(lǐng)者。意法半導(dǎo)體是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體企業(yè)，橫跨多重電子應(yīng)用領(lǐng)域。根據(jù)該更新的協(xié)議，科銳將在未來數(shù)年向意法半...

打破“卡脖子”！清華大學(xué)第一臺12英寸超精密晶圓減薄機進入生產(chǎn)線

據(jù)清華大學(xué)官方消息，近日，由清華大學(xué)機械系路新春教授帶領(lǐng)清華大學(xué)成果轉(zhuǎn)化項目公司華海清科研發(fā)的首臺12英寸(300mm)超精密晶圓減薄機(Versatile-GP300)，已經(jīng)正式出機，發(fā)往國內(nèi)某集成電路龍頭企業(yè)。這是路新春教授團隊與華海清科解決我國集成電路拋光裝備“卡脖子”問題...

英特爾兩座價值200億美元晶圓廠開工

日前消息顯示，英特爾兩座新晶圓廠舉行了動土奠基儀式，這是該公司轉(zhuǎn)型計劃的一部分，目標(biāo)是成為主要的芯片制造商，并超車競爭對手臺積電。

從夜視到“元宇宙”入口設(shè)備，ALD光學(xué)鍍膜不斷突破技術(shù)和市場邊界

隨著各類鏡頭、顯示設(shè)備、生物識別技術(shù)產(chǎn)品、5G通訊技術(shù)和終端設(shè)備，以及最近備受關(guān)注的未來“元宇宙”重要場景入口設(shè)備的AR/VR等消費類終端的創(chuàng)新發(fā)展，對光學(xué)鍍膜設(shè)備的技術(shù)工藝以及性價比要求也越來越高。

晶圓的缺陷與成因

晶圓分為無圖案晶圓(Bare Wafer)和圖案晶圓(Patterned wafer)?？紤]兩種晶圓的缺陷類型的出發(fā)點有些不同。晶圓表面的缺陷類型很多，既有可能是工藝產(chǎn)生也有可能材質(zhì)本身的缺陷。

晶圓的檢測技術(shù)

半導(dǎo)體工業(yè)對于晶圓表面缺陷檢測的要求，一般是要求高效準(zhǔn)確，能夠捕捉有效缺陷，實現(xiàn)實時檢測。

晶圓的分層劃片過程

硅片劃片方法主要有金剛石砂輪劃片、激光劃片。

晶圓的拋光過程

隨著集成電路(Integrated circuit,IC)制造技術(shù)的不斷發(fā)展，芯片特征尺寸越來越小，互連層數(shù)越來越多，晶圓直徑也不斷增大。要實現(xiàn)多層布線，晶圓表面必須具有極高的平整度、光滑度和潔凈度，而化學(xué)機械拋光(Chemical mechanical polishing, CMP)是目前最有效的晶圓平坦化技術(shù)，它與光刻、刻蝕、離子注入、PVD / CVD 一起被稱為 IC 制造最核心的五大關(guān)鍵技術(shù)。

晶圓的性能參數(shù)

硅晶圓和硅太陽能電池分別是半導(dǎo)體材料和半導(dǎo)體器件的典型代表。半導(dǎo)體特性參數(shù)衡量和表征材料及其器件的性能。

集成電路制造流程

第三代半導(dǎo)體頭部企業(yè)基本半導(dǎo)體完成C1輪融資

9月17日，專注于第三代半導(dǎo)體碳化硅功率器件的深圳基本半導(dǎo)體有限公司完成C1輪融資，由現(xiàn)有股東博世創(chuàng)投、力合金控，以及新股東松禾資本、佳銀基金、中美綠色基金、厚土資本等機構(gòu)聯(lián)合投資。

安徽富樂德長江半導(dǎo)體12英寸再生晶圓項目量產(chǎn)儀式隆重舉行

安徽銅陵2021年9月18日/美通社/--在全球缺芯的大背景下，半導(dǎo)體成為當(dāng)前最熱門的版塊之一，硅片價格不斷攀升、供應(yīng)缺口持續(xù)增大，再生晶圓乘風(fēng)而起，勢不可擋，引起行業(yè)高度重視。9月17日下午3點28分，安徽富樂德長江半導(dǎo)體12英寸再生晶圓項目量產(chǎn)儀式在銅陵市義安經(jīng)開區(qū)隆重舉行。...