臺(tái)灣媒體報(bào)道,爾必達(dá)總裁兼CEO阪本幸雄上周表示,瑞晶電子將在今年5月份使用爾必達(dá)工藝設(shè)計(jì)試產(chǎn)移動(dòng)DRAM(mobileDRAM)芯片產(chǎn)品。阪本幸雄稱,為了滿足日益增長(zhǎng)的移動(dòng)DRAM需求,旗下子工廠瑞晶計(jì)劃在三季度開始為其
市場(chǎng)研究公司IDC的數(shù)據(jù)顯示,2010年全球處理器芯片出貨量增長(zhǎng)17.1%;銷售額達(dá)363億美元,增長(zhǎng)26.7%。值得注意的是,去年第四季度,全球處理器芯片出貨量環(huán)比下滑0.04%,同比下滑0.21%。IDC分析師謝恩-勞(ShaneRau)說
21ic訊 Fox Electronics Asia Ltd.宣布其廣泛產(chǎn)品系列的銷售顯著增長(zhǎng)。Fox Electronic產(chǎn)品系列包括石英晶體、溫控和壓控晶體振蕩器(TCXO和VCXO),時(shí)鐘振蕩器,單片式晶體濾波器,以及創(chuàng)新的XpressO®晶體振蕩器產(chǎn)
應(yīng)用于高能效電子產(chǎn)品的首要高性能硅方案供應(yīng)商安森美半導(dǎo)體(ON Semiconductor,美國(guó)納斯達(dá)克上市代號(hào):ONNN)已完成向賽普拉斯半導(dǎo)體以全現(xiàn)金交易收購(gòu)CMOS圖像傳感器業(yè)務(wù)部(ISBU),金額為約3,140萬美元,以購(gòu)買協(xié)議為
比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC最近宣布在其設(shè)在比利時(shí)魯汶的研究設(shè)施中安裝了一臺(tái)ASML生產(chǎn)的NXE:3100試產(chǎn)型EUV光刻機(jī)。IMEC機(jī)構(gòu)的總裁 兼CEO Luc Van den hove會(huì)在今天召開的SPIE高級(jí)光刻技術(shù)會(huì)議(SPIE advanced lithog
2010年底決定于美國(guó)奧勒岡州興建一座新12寸晶圓廠D1X的英特爾(Intel),2月中旬再度宣布將砸下50多億美元的巨資于亞歷桑納州打造另一座12寸晶圓廠Fab 42。由于新廠房產(chǎn)能規(guī)模龐大,加上英特爾已宣布為現(xiàn)場(chǎng)可編程閘陣列
在經(jīng)歷了繁榮的2010年之后, NOR閃存市場(chǎng)營(yíng)收可能會(huì)在 2011年衰退近6%,來到48億美元規(guī)模;市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu) iSuppli 表示,這意味著該市場(chǎng)將因價(jià)格下跌影響,開始進(jìn)入一段艱困時(shí)期。雖然 NOR閃存因?yàn)閼?yīng)用領(lǐng)域擴(kuò)增、出貨
介紹了一種基于Cortex-M3(STM32F103C8)芯片的高速度、低功耗、多功能數(shù)字可調(diào)共振源,以及系統(tǒng)的CPU部分、信號(hào)發(fā)生、濾波及放大部分及相應(yīng)的軟件設(shè)計(jì)。實(shí)測(cè)表明,與傳統(tǒng)的模擬式共振源相比具有USB接口、分辨率高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn),可用于完成共振實(shí)驗(yàn),并具有廣闊的應(yīng)用前景。
概要 常見的多級(jí)低通有源濾波器的增益排序方法是把大部分乃至全部增益放在第一級(jí)。如果只考慮要降低低頻的輸入?yún)⒖荚肼?,這是正確的設(shè)計(jì)方法。然而,其它的幾種考慮因素可能會(huì)使您改變這種增益排序,以實(shí)現(xiàn)更為出
在“ISSCC2011”Session4“EnterpriseProcessors&Components”的分科會(huì)上,匯集了有關(guān)服務(wù)器和超級(jí)計(jì)算機(jī)用高端處理器的技術(shù)報(bào)告。IBM就“zEnterprise”處理器、英特爾就Westmere-EXXeon處理器和安騰處理器Poulson、
日系存儲(chǔ)器大廠爾必達(dá)(Elpida)的臺(tái)灣存托憑證(TDR)即將于25日,以每股新臺(tái)幣21.3元掛牌,預(yù)計(jì)籌得42.6億元資金,社長(zhǎng)坂本幸雄在24日掛牌前法說會(huì)中指出,看好3月DRAM價(jià)格可逐漸上漲,爾必達(dá)也計(jì)劃在3月初調(diào)漲DRAM報(bào)價(jià)
韓國(guó)三星公司于日前對(duì)外表示,該公司正計(jì)劃在今年開始測(cè)試性生產(chǎn)基于20nm工藝的芯片產(chǎn)品。三星公司將會(huì)在今年下半年開始為客戶提供測(cè)試生產(chǎn),而這也將會(huì)使得三星公司成為第一家承諾在2011年推出20nm工藝的公司。三星
摘要:Multisim軟件以其強(qiáng)大的仿真功能,在電路設(shè)計(jì)中已經(jīng)廣泛應(yīng)用。文章基于NI公司的推出的新版本Multisim 10設(shè)計(jì)了函數(shù)發(fā)生器,并對(duì)設(shè)計(jì)進(jìn)行仿真和理論分析,縮短了電路開發(fā)的周期,更加方便地計(jì)算電路以及調(diào)整參數(shù)
加快產(chǎn)品設(shè)計(jì),背景在于微細(xì)LSI的通用化 日本電子信息技術(shù)產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(JEITA)制定了與半導(dǎo)體產(chǎn)品熱特性相關(guān)的指南“JEITA EDR-7336”。該指南明確了封裝半導(dǎo)體產(chǎn)品的印刷基板的性能參數(shù)、使用的環(huán)境溫度、半導(dǎo)體產(chǎn)
針對(duì)高分辨導(dǎo)引頭雷達(dá)在近距離跟蹤目標(biāo)時(shí)出現(xiàn)角閃爍問題,采用基于角閃爍抑制的高分辨測(cè)角算法。對(duì)回波信號(hào)進(jìn)行一維成像處理,以距離像幅度作為單脈沖測(cè)角幅度,利用單脈沖測(cè)角方法得到目標(biāo)在各個(gè)距離單元內(nèi)的角度信息,通過加權(quán)平均處理,得到目標(biāo)幾何中心空間角度。仿真結(jié)果表明,該方法可以抑制角閃爍偏差,提高導(dǎo)引頭角跟蹤精度。