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臺積電2016年10nm制程才將采用EUV技術(shù)
繼英特爾日前宣布，將投資荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML，取得其15%股權(quán)后，臺積電也于5日正式宣布，將投資8.38億歐元(相當(dāng)于臺幣308億元)吃下ASML5%的股權(quán)，且未來5年將投入2.76億歐元(相當(dāng)臺幣102億元)，來挹注ASML對18寸
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臺積電砸407億爭奪18寸門票
晶圓代工龍頭臺積電5日宣布加入微影設(shè)備大廠荷商艾司摩爾（ASML）的「客戶聯(lián)合投資專案」（CustomerCo-InvestmentProgram），總投資金額高達(dá)11.14億歐元（約新臺幣407億元），包括取得ASML的5％股權(quán)，并加入極紫外光
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臺積入股ASML 回收利益可期
臺積電董事長張忠謀昨（7）日表示，入股艾司摩爾（ASML）是自然的決定，也義不容辭，臺積電一度是ASML最大客戶，ASML的研發(fā)表現(xiàn)出色，「未來ASML股價上漲，臺積電也會同享其利」。 臺積電將斥資 8.38億歐元取得AS
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臺積入股ASML 回收利益可期
臺積電董事長張忠謀昨（7）日表示，入股艾司摩爾（ASML）是自然的決定，也義不容辭，臺積電一度是ASML最大客戶，ASML的研發(fā)表現(xiàn)出色，「未來ASML股價上漲，臺積電也會同享其利」。 臺積電將斥資 8.38億歐元取得ASML
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外資：臺積電2016年10nm制程才將采用EUV技術(shù)
繼英特爾日前宣布，將投資荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML，取得其15%股權(quán)后，臺積電(2330)也于5日正式宣布，將投資8.38億歐元(相當(dāng)于臺幣308億元)吃下ASML 5%的股權(quán)，且未來5年將投入2.76億歐元(相當(dāng)臺幣102億元)，來挹注AS
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張忠謀：資助ASML義不容辭
臺積電董事長張忠謀7日表示，臺積電加入半導(dǎo)體設(shè)備廠艾司摩爾（ASML）客戶聯(lián)合投資專案，資助其研究發(fā)展，是「義不容辭」。 至于媒體追問，臺積電資本支出暴增是否會損及股東權(quán)益？張忠謀指出，臺積電對任何財(cái)
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外資：臺積電2016年10nm制程才將采用EUV技術(shù)
繼英特爾日前宣布，將投資荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備大廠ASML，取得其15%股權(quán)后，臺積電 (2330)也于5日正式宣布，將投資8.38億歐元 (相當(dāng)于臺幣308億元)吃下ASML 5%的股權(quán)，且未來5年將投入2.76億歐元(相當(dāng)臺幣102億元)，來挹注
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臺積電投資ASML 張忠謀：資助研究發(fā)展義不容辭
臺積電(US-TSM)(2330-TW)董事長暨總執(zhí)行長張忠謀今(7)日表示，臺積電加入艾司摩爾(ASML)(ASML-NL)「客戶聯(lián)合投資專案」資助其研究發(fā)展，是「義不容辭」。 根據(jù)雙方協(xié)議，臺積電將投資ASML8.38億歐元(約新臺幣310.64
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臺積電投11.14億歐元入伙ASML
ASMLHoldingNV公司宣布，臺積電(TSMC)已加入其客戶合作投資創(chuàng)新專案，將投資2.76億歐元，在未來五年內(nèi)共同開發(fā)超紫外光(EUV)技術(shù)和450mm微影工具，并將投入8.38億歐元取得ASML公司5%股權(quán)。ASML與臺積公司延續(xù)之前193
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SEMI：2013年全球光刻掩膜板市場預(yù)計(jì)可達(dá)33.5億美元規(guī)模
SEMI最新研究報告顯示，2011年全球半導(dǎo)體光刻掩膜板市場達(dá)到了31.2億美元規(guī)模，預(yù)估2013年這一數(shù)字可達(dá)33.5億美元。繼2010年達(dá)到高峰以后，光刻掩膜板市場2011年再次增長了3%，創(chuàng)下歷史新高。而未來兩年光刻掩膜板市
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SEMI：2013年全球光刻掩膜板市場預(yù)計(jì)可達(dá)33.5億美元規(guī)模
SEMI最新研究報告顯示，2011年全球半導(dǎo)體光刻掩膜板市場達(dá)到了31.2億美元規(guī)模，預(yù)估2013年這一數(shù)字可達(dá)33.5億美元。繼2010年達(dá)到高峰以后，光刻掩膜板市場2011年再次增長了3%，創(chuàng)下歷史新高。而未來兩年光刻掩膜板市
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臺積砸407億搶18寸門票
晶圓代工龍頭臺積電昨（5）日宣布加入微影設(shè)備大廠荷商艾司摩爾（ASML）的「客戶聯(lián)合投資專案」（Customer Co-Investment Program），總投資金額高達(dá)11.14億歐元（約新臺幣407億元），包括取得ASML的5％股權(quán)，并加入
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搶下先進(jìn)制程門票 臺積電資金壓力不小
臺積電宣布入股艾司摩爾（ASML），雖可化解外界憂心先進(jìn)制程先被英特爾卡位的疑慮，但這次臺積電總投資金額逾410億元，未來還有擴(kuò)產(chǎn)資金需求，在景氣仍混沌下，臺積電未來資金調(diào)度壓力不小。 據(jù)了解，臺積電一開始對
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臺積電加入ASML投資專案
晶圓代工廠臺積電今天宣布，加入半導(dǎo)體設(shè)備廠艾司摩爾(ASML)客戶聯(lián)合投資專案，盼加速極紫外光(EUV)微影技術(shù)與18寸晶圓微影設(shè)備開發(fā)及量產(chǎn)。 為讓關(guān)鍵微影技術(shù)發(fā)展順利，且加速進(jìn)行，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備廠ASML于7月9日
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SEMI研究報告稱2013年全球光刻掩膜板市場可達(dá)33.5億美元規(guī)模
SEMI最新研究報告顯示，2011年全球半導(dǎo)體光刻掩膜板市場達(dá)到了31.2億美元規(guī)模，預(yù)估2013年這一數(shù)字可達(dá)33.5億美元。繼2010年達(dá)到高峰以后，光刻掩膜板市場2011年再次增長了3%，創(chuàng)下歷史新高。而未來兩年光刻掩膜板市
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英特爾公司投資41億美元促進(jìn)EUV光刻技術(shù)的研發(fā)
據(jù)英國《自然》雜志網(wǎng)站7月25日（北京時間）報道，芯片制造商英特爾公司表示，將向總部設(shè)在荷蘭的半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥投資41億美元，其中10億美元專門用于極紫外線（EUV）光刻技術(shù)的研發(fā)，新技術(shù)有望讓晶體管的大
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ASML預(yù)計(jì)2018開始生產(chǎn)EUV設(shè)備
微影設(shè)備供應(yīng)商ASML Holding NV表示，近日向領(lǐng)先的晶片制造商釋出股權(quán)的計(jì)畫，是為了籌措450mm 晶圓技術(shù)和超紫外光 ( EUV )微影技術(shù)的研發(fā)資金，該公司預(yù)計(jì)2018年可開始生產(chǎn)EUV設(shè)備。另外， ASML也指出，此次的籌資計(jì)
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英特爾與ASML達(dá)成協(xié)議 加速開發(fā)下一代半導(dǎo)體關(guān)鍵制造技術(shù)
2012年7月9日，英特爾公司宣布與ASML控股公司簽署一系列價值總計(jì)33億歐元（約41億美元）的協(xié)議，以加速450毫米晶圓技術(shù)和超紫外線（EUV）光刻技術(shù)的開發(fā)，力爭提前兩年實(shí)現(xiàn)支持這些技術(shù)的光刻設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，從而
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英特爾與ASML達(dá)成協(xié)議開發(fā)下一代半導(dǎo)體關(guān)鍵制造技術(shù)
英特爾公司日前宣布與ASML控股公司簽署一系列價值總計(jì)33億歐元(約41億美元)的協(xié)議，以加速450毫米晶圓技術(shù)和超紫外線(EUV)光刻技術(shù)的開發(fā)，力爭提前兩年實(shí)現(xiàn)支持這些技術(shù)的光刻設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，從而為半導(dǎo)體制造商
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英特爾計(jì)劃41億美元投資ASML 加速450毫米晶圓技術(shù)研發(fā)
英特爾宣布與ASML控股公司簽署一系列價值總計(jì)33億歐元（約41億美元）的協(xié)議，以加速450毫米晶圓技術(shù)和超紫外線（EUV）光刻技術(shù)的開發(fā)，力爭提前兩年實(shí)現(xiàn)支持這些技術(shù)的光刻設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用，從而為半導(dǎo)體制造商大幅
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