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搶吃EUV商機(jī) 臺積大聯(lián)盟成軍了
為對抗三星，臺積電計(jì)劃導(dǎo)入極紫外光(EUV)微影設(shè)備，決定在7納米強(qiáng)化版提供客戶設(shè)計(jì)、并在5納米全數(shù)導(dǎo)入。這項(xiàng)決定引發(fā)群聚效應(yīng)，激勵(lì)相關(guān)設(shè)備供應(yīng)鏈和材料廠全數(shù)動起來，搶進(jìn)「臺積大聯(lián)盟」，以分到市場。
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7nm晶圓代工：三星還是“斗不過”臺積電？
韓媒報(bào)導(dǎo)，三星華城廠的18號線原定明年動工，如今三星決定提前至今年11月破土。18號線的建筑面積為40,536平方公尺，總樓面面積為298,114平方公尺。投資金額為6兆韓圜(54億美元)，預(yù)定2019年下半完工，生產(chǎn)存儲器以外的半導(dǎo)體產(chǎn)品。
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摩爾定律在半導(dǎo)體行業(yè)正在逐漸消失？
摩爾定律是由英特爾(Intel)創(chuàng)始人之一戈登·摩爾(Gordon Moore)提出來的。其內(nèi)容為：當(dāng)價(jià)格不變時(shí)，集成電路上可容納的元器件的數(shù)目，約每隔18-24個(gè)月便會增加一倍，性能也將提升一倍。換言之，每一美元所能買到的電腦性能，將每隔18-24個(gè)月翻一倍以上。這一定律揭示了信息技術(shù)進(jìn)步的速度。
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要想留住臺積電3nm廠，這些問題不解決是不行滴
據(jù)了解，臺積電最尖端的3納米新廠擴(kuò)建計(jì)劃雖然要到明年上半年才會公布設(shè)廠地點(diǎn)，惟仍有環(huán)評、電力、用水、設(shè)廠地點(diǎn)等四大問題需要政府盡速解決。
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三星的半導(dǎo)體代工之路的“鮮花”與“荊棘”
張忠謀曾比喻說：“三星是一只700磅的大猩猩”，表示它十分強(qiáng)悍。然而在現(xiàn)階段的代工業(yè)中三星尚是“新進(jìn)者”，需要時(shí)間的積累。據(jù)分析三星只要肯下賭注，加強(qiáng)投資，依目前的態(tài)勢爭奪代工老二的地位是有可能。但是建議三星應(yīng)該雙管齊下，不可把賭注全部壓在EUV光刻中。歷史的經(jīng)驗(yàn)EUV己經(jīng)反復(fù)多次，與它關(guān)連的因素太多，會增加變數(shù)。
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半導(dǎo)體行業(yè)：“新入局者”帶來“芯”未來
據(jù)報(bào)道，世界的半導(dǎo)體市場此前一直以美韓日廠商唱主角，現(xiàn)在中國企業(yè)正試圖參與進(jìn)來，而中國企業(yè)的巨額投資很有可能成為半導(dǎo)體市場混亂的風(fēng)險(xiǎn)因素。
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半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)福音！EUV極紫外光時(shí)代真的快來了
盡管所花的時(shí)間與成本幾乎比所有人預(yù)期得要多，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)終于還是快要盼到極紫外光(extreme ultraviolet，EUV)微影技術(shù)的大量生產(chǎn)──在近日于美國舊金山舉行的2017年度Semicon West半導(dǎo)體設(shè)備展，微影設(shè)備大廠A
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三星又要搞事情??！要趕超臺積電？
三星晶圓代工自立門戶后信心大增，不僅看好明年?duì)I收將大幅成長，且在晶圓制造技術(shù)方面，也務(wù)求超越領(lǐng)頭羊臺積電。
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芯片界的“霸主”英特爾，最近可能有點(diǎn)“上火”
目前在公開資料的制程工藝進(jìn)展中，GF和臺積電的7nm進(jìn)展最速，由此，傳出高通把驍龍845的代工轉(zhuǎn)交給了臺積電，而和好伙伴三星分道揚(yáng)鑣。
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芯片制造關(guān)鍵的EUV光刻機(jī)單價(jià)為何能超1億歐元?
每每提到半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展，免不了要說下中國最近兩年發(fā)展集成電路的決心之強(qiáng)、投資之大，國內(nèi)公司對人才也求賢若渴，不惜高薪挖人，但在關(guān)鍵技術(shù)上，我們落后歐美公司還是挺多的，特別是在半導(dǎo)體制造裝備上，先進(jìn)的光刻機(jī)還被歐美封鎖，有錢也買不到。進(jìn)入10nm工藝節(jié)點(diǎn)之后，EUV光刻機(jī)越來越重要，全球能產(chǎn)EUV光刻機(jī)的就是荷蘭ASML公司了，他們總共賣出18臺EUV光刻機(jī)，總價(jià)值超過20億歐元，折合每套系統(tǒng)售價(jià)超過1億歐元，可謂價(jià)值連城。
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臺積電、三星 EUV ，7納米技術(shù)展開競賽
三星、臺積電 10 納米技術(shù)量產(chǎn)，7 納米制程戰(zhàn)火持續(xù)升高!而且隨著關(guān)鍵的微影技術(shù)來到瓶頸，7 納米制程技術(shù)也變成新一輪制程技術(shù)的關(guān)鍵之戰(zhàn)。
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7nm爭奪戰(zhàn)即將打響 EUV是否夠成熟?
近日，臺積電對外公布財(cái)報(bào)，其2016年年?duì)I收創(chuàng)下歷史新高，達(dá)到299.57億美元。其中，先進(jìn)工藝制程營收貢獻(xiàn)顯著。16/20納米制程去年第四季度出貨占比達(dá)到33%，28納米制程第四季度出貨占比達(dá)到24%。
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兩大武器助力摩爾定律回歸: EUV＋三五族
摩爾定律能否持續(xù)走下去，主要關(guān)鍵在于微影技術(shù)難度愈來愈高。目前包括英特爾、臺積電、三星等大廠，主要采用多重曝光(multi-patterning)的浸潤式微影(immersionlithography)技術(shù)，但當(dāng)制程技術(shù)走到10奈米世代時(shí)，高密度的邏輯IC需要進(jìn)行至少4次的曝光制程，制造成本自然大幅拉高。
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21ic新聞大爆炸：Intel——沒有EUV 依然7nm!
1、Intel：沒有EUV 依然7nm!盡管困難和阻力越來越大，Intel以其無與倫比的技術(shù)實(shí)力，仍在努力推進(jìn)半導(dǎo)體工藝的深發(fā)展，14nm剛剛開始登場，就已經(jīng)在大談特談7nm了。Intel院士Mark Bohr表示：“我的日常工作就是
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Intel：沒有EUV 依然7nm！
和我拼工藝，7nm你有嗎?盡管困難和阻力越來越大，Intel以其無以倫比的技術(shù)實(shí)力，仍在努力推進(jìn)半導(dǎo)體工藝的深發(fā)展，14nm剛剛開始登場，就已經(jīng)在大談特談7nm了。Intel院士Mark Bohr表示：“我的日常工作就是研究7
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歐洲半導(dǎo)體代表IMEC：臺灣仍為先進(jìn)制程技術(shù)領(lǐng)先者
近日，大陸半導(dǎo)體積極布局發(fā)展是否會對臺灣半導(dǎo)體業(yè)者構(gòu)成威脅的問題引來了全球半導(dǎo)體的討論。在SEMICON Taiwan 2014上，比利時(shí)微電子(IMEC)執(zhí)行長Luc Van Den Hove表示，大陸半導(dǎo)體業(yè)者雖然積極，但先進(jìn)制程腳步仍慢
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超級光阻劑可望實(shí)現(xiàn)10nm節(jié)點(diǎn)EUV微影
在英特爾(Intel)與美國能源部(DoE)勞倫斯柏克萊國家實(shí)驗(yàn)室(Lawrence Berkeley National Lab；LBNL)的合作下，已經(jīng)發(fā)展出一種全新的超級光阻劑(super-resist)，可望滿足10nm及其以下先進(jìn)制程節(jié)點(diǎn)使用超紫外光 (EUV)微
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明導(dǎo)CEO：如何解決制程工藝帶來的新挑戰(zhàn)
隨著20nm SoC已進(jìn)入開發(fā)階段，14nm、10nm甚至7nm工藝均在逐步推進(jìn)中。眾所周知，在EDA行業(yè)，20nm工藝要解決的是支持雙重圖形(Double Patterning)的問題。明導(dǎo)公司(Mentor
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【科普專欄】論半導(dǎo)體技術(shù)與我們的生活
半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展半導(dǎo)體是一個(gè)技術(shù)日新月異的產(chǎn)業(yè)。最新半導(dǎo)體采用以納米為單位的技術(shù)，1納米相當(dāng)于1米的十億分之一。用目前的20納米工藝舉例，意味著在作為半導(dǎo)體原料的直徑為30cm的晶圓上畫出一條線，然后把這張晶
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臺系內(nèi)存廠商20nm制程轉(zhuǎn)換恐處不利境地
【導(dǎo)讀】臺系內(nèi)存廠商在遷移至20nm及更高級節(jié)點(diǎn)制程時(shí)，可能會由于資金籌措方面的困難抽不出手來購買價(jià)格高昂的EUV極紫外光刻設(shè)備，而在制程轉(zhuǎn)換技術(shù)升級方 面處于不利地位。 臺系內(nèi)存廠商在遷移至20nm及更高級節(jié)
