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照亮半導(dǎo)體創(chuàng)新之路
上海2024年9月5日 /美通社/ -- 全球半導(dǎo)體行業(yè)正處于爆炸性增長的軌道上，預(yù)計到2030年市場規(guī)模將達(dá)到驚人的1萬億美元（2023年超過5000億美元）。這種擴(kuò)張主要由微處理器的持續(xù)小型化和不斷增強(qiáng)的性能所推動。每一代更小、更強(qiáng)大的芯片都使得全新的技術(shù)成為可能，同時也降低...
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英特爾完成全球首臺ASML High NA EUV光刻機(jī)組裝！
業(yè)內(nèi)消息，近日英特爾表示其已成為第一家完成組裝荷蘭ASML的新型“High NA”（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外）光刻設(shè)備的公司，目前已轉(zhuǎn)向光學(xué)系統(tǒng)校準(zhǔn)階段。這是這家美國芯片制造商超越競爭對手的重要舉措。
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ASML已交付第三代EUV，用于制造2nm芯片！
業(yè)內(nèi)消息，最近ASML（阿斯麥）交付了第三代極紫外（EUV）光刻工具，新設(shè)備型號為Twinscan NXE:3800E，配備了0.33數(shù)值孔徑透鏡。相比于之前的Twinscan NXE:3600D，性能有了進(jìn)一步的提高，可以支持未來幾年3nm及2nm芯片的制造。
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三星斥資 10 萬億大量采購 ASML 光刻機(jī)
日前韓國今日電子新聞報道稱三星計劃斥巨資進(jìn)口大量的半導(dǎo)體設(shè)備，其中包括更多的 ASML 極紫外（EUV）光刻設(shè)備。盡管因為合同中的保密條款未能披露具體細(xì)節(jié)，但證券市場消息稱，該協(xié)議將使 ASML 在五年內(nèi)提供總共 50 套設(shè)備，而每臺單價約為 2000 億韓元（當(dāng)前約合人民幣 11.16 億），總價值可達(dá) 10 萬億韓元（當(dāng)前約合人民幣 558 億）。
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佳能 CEO：納米壓印“光刻機(jī)”無法出口中國！
上個月佳能（Canon）發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號稱通過納米壓印光刻（NIL）技術(shù)實現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。然而，近日佳能首席執(zhí)行官三井藤夫在采訪中表示，該設(shè)備無法出口到中國。
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挑戰(zhàn) EUV！佳能發(fā)布新型 2nm 光刻機(jī)
最新消息，近日佳能(Canon)發(fā)布了一個名為 FPA-1200NZ2C 的納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備，號稱通過納米壓印光刻(NIL)技術(shù)實現(xiàn)了目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體工藝。
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國產(chǎn)“光刻廠”落地？官方正式回應(yīng)！
近日，網(wǎng)傳清華大學(xué)的國產(chǎn) EUV 方案通過用“空間”換“時間”的方式，通過將光刻機(jī)放大為光刻廠的方案來規(guī)避技術(shù)難點，實現(xiàn)“換道超車”。對此，昨天下午中國電子工程設(shè)計院官方表示，該項目并非網(wǎng)傳的國產(chǎn)光刻機(jī)工廠，而是北京高能同步輻射光源項目(HEPS)。
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臺積電美國鳳凰城工廠導(dǎo)入第一臺 EUV
業(yè)內(nèi)消息，臺積電亞利桑那鳳凰城的晶圓廠已經(jīng)導(dǎo)入了當(dāng)?shù)氐谝慌_極紫外光(EUV)設(shè)備。
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ASML 和 IMEC 將合作研發(fā) high-NA EUV 光刻技術(shù)
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 和比利時微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強(qiáng)合作，為使用半導(dǎo)體技術(shù)的行業(yè)提供原型設(shè)計平臺和未開發(fā)的未來機(jī)遇。
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在日本援助下，美光將在廣島 DRAM 工廠安裝 EUV
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，美光在日本政府的援助下向其位于廣島的 DRAM 工廠投資了 37 億美元，該公司計劃在廣島工廠安裝 EUV 設(shè)備來升級工藝，進(jìn)而使廣島工廠能夠制造美光最新一代 DRAM(1-gamma)，這將是日本首次使用 EUV 設(shè)備。
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為減少支出，美光1γnm DRAM推遲到2025年
因為計算機(jī)內(nèi)存芯片需求下降的狀況下產(chǎn)生眾多供應(yīng)和開支方面的問題，美光明年將裁員10%，并采取其他削減成本的措施，比如將1γnm DRAM推遲到2025年。
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ASML：2022年EUV出貨超50臺，下一代2年后面世
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，近日全球光刻機(jī)巨頭ASML在今年的半導(dǎo)體EUV生態(tài)系統(tǒng)全球大會上表示，EUV設(shè)備出貨量這幾年來不斷上升，去年大約為42臺，而今年預(yù)測將超過50臺。2024年年底預(yù)計推出下一代High-NA EUV設(shè)備。
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日本拋橄欖枝：邀請臺積電擴(kuò)建二廠并引入EUV
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日日本政府再次對臺積電拋出橄欖枝，希望臺積電在日本建設(shè)第二座芯片代工廠，同時日本表示希望ASML公司在先進(jìn)制程方面和臺積電合作。
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采用6nm EUV先進(jìn)制程，紫光展銳發(fā)布T820處理器
據(jù)業(yè)內(nèi)信息，紫光展銳發(fā)布了采用6nm EUV先進(jìn)制程的T820處理器，該處理器是系統(tǒng)級安全高性能5G SoC 8核心CPU芯片。
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最近申請的一項光刻裝置專利到底是什么呢？公開圖紙，我們也造不出來？
11 月 19 日消息，在半導(dǎo)體行業(yè)，極紫外光刻技術(shù) (Extreme Ultraviolet，EUV) 對于未來光刻技術(shù)乃至于先進(jìn)制程有著重要意義。
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ASML再次拒絕，美國對荷蘭的游說又失敗?
據(jù)業(yè)內(nèi)信息報道，本月美國和荷蘭談判并游說ASML不要將光刻機(jī)設(shè)備出口給中國，但是遭到了ASML的再次拒絕。
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禁止向中國出口光刻機(jī)！華盛頓談判施壓荷蘭，首相表態(tài)
自從美國出口管制措施后，荷蘭ASML對我國的光刻機(jī)貿(mào)易就受到了一些限制，但近日華盛頓當(dāng)局將從光刻機(jī)領(lǐng)域?qū)で髮θA的進(jìn)一步技術(shù)封鎖。
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阿斯麥第三季度凈銷售額同比增長10.24%
荷蘭光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)發(fā)布2022年第三季度業(yè)績。期內(nèi)凈銷售額58億歐元，同比增長10.24%；凈利潤17億歐元，同比下降2.24%。第三季度，ASML賣出了80臺全新的光刻系統(tǒng)，以及6臺二手光刻系統(tǒng)。三季度新增訂單金額達(dá)到約89億歐元，創(chuàng)下歷史新高，這其中38億歐元來...
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AMD笑而不語 Intel CPU將實現(xiàn)10年來最大升級：首次128核+“3nm EUV”
在桌面級處理器上，AMD多年來一直在多核上有優(yōu)勢，不過12代酷睿開始，Intel通過P、E核異構(gòu)實現(xiàn)了反超，13代酷睿做到了24核32線程，核心數(shù)已經(jīng)超過了銳龍7000的最大16核。在服務(wù)器處理器上，AMD優(yōu)勢更大，64核128線程的都用了兩代了，Zen4這一代的Genoa做到了...
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目前最高制造精度，美Zyvex產(chǎn)出0.7nm線寬芯片
據(jù)業(yè)內(nèi)消息，近日美國一家商業(yè)精密制造公司Zyvex表示制出了亞納米分辨率光刻系統(tǒng)ZyvexLitho1，這個系統(tǒng)沒有采用EUV光刻技術(shù)，但是卻能產(chǎn)出只有0.7nm線寬的芯片，是目前最高制造精度。
