雖然繪圖芯片、網(wǎng)通及手機(jī)芯片等市場(chǎng)已進(jìn)入庫(kù)存修正階段,包括日月光、矽品等封測(cè)廠已暫緩擴(kuò)產(chǎn)動(dòng)作,但是晶圓雙雄臺(tái)積電及聯(lián)電仍然擴(kuò)產(chǎn)不停歇,除了65/55納米以下先進(jìn)制程產(chǎn)能仍短缺,40納米及28納米產(chǎn)能更是供不應(yīng)求
臺(tái)積電與聯(lián)電16日雙雙邁入太陽(yáng)能事業(yè)發(fā)展的新里程,讓雙方的競(jìng)爭(zhēng)戰(zhàn)線也隨之?dāng)U大。表面上,兩家公司的布局雖都涵蓋多晶硅與薄膜太陽(yáng)能領(lǐng)域,但不論在事業(yè)發(fā)展的策略、太陽(yáng)能技術(shù)的選擇,以及商業(yè)模式的操作上均大相
臺(tái)積電2009年?duì)I收達(dá)90億美元,取得47.4%的全球市占率,穩(wěn)居晶圓代工產(chǎn)業(yè)第1名位置。聯(lián)電雖然在全球晶圓代工產(chǎn)業(yè)排名第2,但2009年27.7億美元的全年?duì)I收,規(guī)模不及臺(tái)積電的3分之1。然而,2008年10月成立的全球晶圓(Gl
臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)主管部門10日晚宣布,有條件開放6代以上的TFT-LCD面板企業(yè)赴祖國(guó)大陸投資,限量3座,并且要與臺(tái)灣已設(shè)面板廠有1個(gè)世代以上的技術(shù)差距。臺(tái)經(jīng)濟(jì)主管部門同時(shí)宣布,開放并購(gòu)、參股投資大陸晶圓鑄造廠,但制程技
臺(tái)積電2009年?duì)I收達(dá)90億美元,取得47.4%的全球市占率,穩(wěn)居晶圓代工產(chǎn)業(yè)第1名位置。聯(lián)電雖然在全球晶圓代工產(chǎn)業(yè)排名第2,但2009年27.7億美元的全年?duì)I收,規(guī)模不及臺(tái)積電的3分之1。 然而,2008年10月成立的全球晶圓
臺(tái)積電(2330)與聯(lián)電(2303)今(16)日為旗下太陽(yáng)能廠分別舉行動(dòng)土、開幕典禮,隨著兩大廠明年太陽(yáng)能產(chǎn)能陸續(xù)開出,晶圓雙雄在太陽(yáng)能產(chǎn)業(yè)的角力賽正式開打。 除臺(tái)積電外,面板龍頭友達(dá)(2409)最近修正中科二林
全球第4大封測(cè)廠星科金朋(STATS ChipPAC)先前宣布12寸嵌入式晶圓級(jí)球閘陣列(Wafer-Level Ball Grid Array;eWLB)技術(shù)具備量產(chǎn)能力之后,15日進(jìn)行新廠落成啟用典禮,在eWLB領(lǐng)域再邁進(jìn)一步。星科金朋指出,該公司為首家
美國(guó)應(yīng)用材料(AMAT)發(fā)布了掩模檢查設(shè)備“Aera3”。支持22nm工藝,檢測(cè)靈敏度較該公司原機(jī)型“Aera2”提高50%,同時(shí)還配備了可支持ArF液浸及EUV(extreme ultraviolet)兩種光刻技術(shù)的功能。 作為面向ArF液浸的
景氣復(fù)蘇情況未如預(yù)期,內(nèi)存產(chǎn)業(yè)近來(lái)開始彌漫供過(guò)于求的利空氣氛,不論是DRAM以及Flash價(jià)格都未見到止跌。據(jù)悉,業(yè)界傳出,獲利表現(xiàn)較為不佳的 DRAM廠商為維持獲利,回頭砍后段封測(cè)廠的第四季的接單價(jià)格,跌幅落在
半導(dǎo)體廠拼擴(kuò)產(chǎn),帶動(dòng)外圍耗材與化學(xué)材料廠亦接單暢旺,如化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)、光阻劑(Slurry)以及外圍耗材包括光罩盒、晶圓盒等等供應(yīng)商,也紛紛擴(kuò)產(chǎn)因應(yīng)未來(lái)需求?;瘜W(xué)材料大廠陶氏化學(xué)(DowChemical)半導(dǎo)體技術(shù)部門
國(guó)際半導(dǎo)體制造裝置材料協(xié)會(huì)(SEMI)公布了有關(guān)半導(dǎo)體生產(chǎn)線的預(yù)測(cè)“WorldFabForecaST".該預(yù)測(cè)分析了在2010年和2011年兩年內(nèi),包括MEMS、LED、離散半導(dǎo)體、LED和MEMS在內(nèi)的大規(guī)模量產(chǎn)以及少量生產(chǎn)用生產(chǎn)線的新建計(jì)
半導(dǎo)體廠拼擴(kuò)產(chǎn),帶動(dòng)外圍耗材與化學(xué)材料廠亦接單暢旺,如化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)、光阻劑(Slurry)以及外圍耗材包括光罩盒、晶圓盒等等供應(yīng)商,也紛紛擴(kuò)產(chǎn)因應(yīng)未來(lái)需求?;瘜W(xué)材料大廠陶氏化學(xué)(Dow Chemical) 半導(dǎo)體技術(shù)部
半導(dǎo)體廠拼擴(kuò)產(chǎn),帶動(dòng)外圍耗材與化學(xué)材料廠亦接單暢旺,如化學(xué)機(jī)械研磨(CMP)、光阻劑(Slurry)以及外圍耗材包括光罩盒、晶圓盒等等供應(yīng)商,也紛紛擴(kuò)產(chǎn)因應(yīng)未來(lái)需求?;瘜W(xué)材料大廠陶氏化學(xué)(Dow Chemical) 半導(dǎo)體技術(shù)部
凸版印刷宣布已經(jīng)建立了面向22nm及20nm工藝的ArF掩模供應(yīng)體制。在該公司的朝霞光掩模工廠內(nèi),構(gòu)建了22nm/20nm用的ArF掩模生產(chǎn)線,提供給半導(dǎo)體廠家的試制及量產(chǎn)用途。該技術(shù)是與美國(guó)IBM聯(lián)合開發(fā)的。 此次開發(fā)的掩
對(duì)于超薄介質(zhì),由于存在大的漏電和非線性,通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)I-V和C-V測(cè)試不能直接提取氧化層電容(Cox)。然而,使用高頻電路模型則能夠精確提取這些參數(shù)。隨著業(yè)界邁向65nm及以下的節(jié)點(diǎn),對(duì)于高性能/低成本數(shù)字電路,RF電
聯(lián)發(fā)科8月營(yíng)收重回百億,為電子業(yè)帶來(lái)些許曙光,但花旗環(huán)球認(rèn)為晶圓雙雄下季出貨量將開始衰退。瑞銀半導(dǎo)體分析師程正樺進(jìn)一步分析,明年全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)年增率僅2%,多數(shù)晶圓代工業(yè)者明年必須面臨獲利衰退的窘境。瑞銀
國(guó)際半導(dǎo)體制造裝置材料協(xié)會(huì)(SEMI)公布了有關(guān)半導(dǎo)體生產(chǎn)線的預(yù)測(cè)“WorldFabForecast".該預(yù)測(cè)分析了在2010年和2011年兩年內(nèi),包括MEMS、LED、離散半導(dǎo)體、LED和MEMS在內(nèi)的大規(guī)模量產(chǎn)以及少量生產(chǎn)用生產(chǎn)線的新建
國(guó)際半導(dǎo)體制造裝置材料協(xié)會(huì)(SEMI)公布了有關(guān)半導(dǎo)體生產(chǎn)線的預(yù)測(cè)“WorldFabForecast".該預(yù)測(cè)分析了在2010年和2011年兩年內(nèi),包括MEMS、LED、離散半導(dǎo)體、LED和MEMS在內(nèi)的大規(guī)模量產(chǎn)以及少量生產(chǎn)用生產(chǎn)線的新建
晶圓大廠臺(tái)積電(2330-TW)(TSM-US)今(10)日公布8月營(yíng)收,就合并財(cái)務(wù)報(bào)表方面,8月合并營(yíng)收新臺(tái)幣373. 91億元,較上月的372.18億元小幅增加了0.5%,續(xù)創(chuàng)單月歷史新高,和去年同期相比則成長(zhǎng)了25.4%。累計(jì)1-8月營(yíng)收為
諾發(fā)系統(tǒng)日前發(fā)表VECTOR PECVD、INOVA PVD和GxT photoresist strip systems的新機(jī)型,這些新機(jī)型可以和諾發(fā)系統(tǒng)的先進(jìn)金屬聯(lián)機(jī)技術(shù)相輔相成,并且展開晶圓級(jí)封裝技術(shù)(WLP)的需求及市場(chǎng)。這些機(jī)臺(tái)都整合了一些一般傳統(tǒng)