全球晶片設計及電子系統(tǒng)軟體暨IP領導廠商新思科技(Synopsys)宣布,新思科技的Laker客制化設計解決方案,通過臺積電(2330)16奈米FinFET制程設計規(guī)則手冊(Design Rule Manual, DRM)第0.5版認證,同時,也將納入臺積電
全球晶片設計及電子系統(tǒng)軟體暨IP領導廠商新思科技(Synopsys)宣布,新思科技的Laker客制化設計解決方案,通過臺積電(2330)16奈米FinFET制程設計規(guī)則手冊(Design Rule Manual, DRM)第0.5版認證,同時,也將納入臺積電
臺積電從20nm級開始只采用一種工藝。在20nm以前的級別中,會根據(jù)用途準備多種工藝,比如,28nm就有“HP”、“HPM”、“HPL”以及“LP”工藝。而20nm只有“20SOC”一種工藝。據(jù)介紹,20SOC是在28nm工藝中備受好評的、
業(yè)界傳出,受英特爾先進制程進度不如預期影響,今年初「變心」轉(zhuǎn)單英特爾的臺積電老客戶阿爾特拉(Altera),近期回頭找臺積電支持,使得臺積電先進制程面臨「爆單」,最快明年第2季展現(xiàn)業(yè)績強勁爆發(fā)力。 隨著大客
臺積電從20nm級開始只采用一種工藝。在20nm以前的級別中,會根據(jù)用途準備多種工藝,比如,28nm就有“HP”、“HPM”、“HPL”以及“LP”工藝。而20nm只有“20SOC”一種工藝。據(jù)介紹,20SOC是在28nm工藝中備受好評的、
比利時微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導體。IMEC的新制程目標是希望能持續(xù)微縮CMOS 至7nm 及其以下,以及實現(xiàn)混合CMOS-RF 與CMOS 光電元件的化合物
比利時微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3DFinFET化合物半導體。IMEC的新制程目標是希望能持續(xù)微縮CMOS至7nm及其以下,以及實現(xiàn)混合CMOS-RF與CMOS光電元件的化合物。隨著
比利時微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導體。IMEC的新制程目標是希望能持續(xù)微縮CMOS 至7nm 及其以下,以及實現(xiàn)混合CMOS-RF 與CMOS 光電元件的化合物
訊:比利時微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導體。IMEC的新制程目標是希望能持續(xù)微縮CMOS 至7nm 及其以下,以及實現(xiàn)混合CMOS-RF 與CMOS 光電元件的化
比利時微電子研究中心(IMEC)宣稱開發(fā)出全球首款在300mm晶圓上整合III-V族與矽晶材料的3D FinFET 化合物半導體。IMEC的新制程目標是希望能持續(xù)微縮 CMOS 至 7nm 及其以下,以及實現(xiàn)混合 CMOS-RF 與 CMOS 光電元件的化
硅半導體工藝的極限在哪里?至少短期內(nèi),各大廠商都還在發(fā)力沖刺。除了即將量產(chǎn)的20nm、16nm、14nm,更遙遠的10nm也早早被列上了議事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立體晶體管),去年底就已經(jīng)取得重大突破,完成了
硅半導體工藝的極限在哪里?至少短期內(nèi),各大廠商都還在發(fā)力沖刺。除了即將量產(chǎn)的20nm、16nm、14nm,更遙遠的10nm也早早被列上了議事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立體晶體管),去年底就已經(jīng)取得重大突破,完成了
硅半導體工藝的極限在哪里?至少短期內(nèi),各大廠商都還在發(fā)力沖刺。除了即將量產(chǎn)的20nm、16nm、14nm,更遙遠的10nm也早早被列上了議事日程。三星的下一步是14nm FinFET(立體晶體管),去年底就已經(jīng)取得重大突破,
訊:臺積電將在2014年初批量投產(chǎn)20nm工藝,并已完成多款產(chǎn)品的流片,而一年之后就會再量產(chǎn)16nm FinFET。今日臺積電又首次向公眾展示了這兩代工藝下的最新晶圓。這是20nm SoC工藝的晶圓。我們知道,臺積電的20n
臺積電將在2014年初批量投產(chǎn)20nm工藝,并已完成多款產(chǎn)品的流片,而一年之后就會再量產(chǎn)16nm FinFET。今日臺積電又首次向公眾展示了這兩代工藝下的最新晶圓。這是20nm SoC工藝的晶圓。我們知道,臺積電的20nm分為兩種版
Imec Demonstrates World’s First III-V FinFET Devices Monolithically Integrated on 300mm Silicon Wafers Technology Achievement Marks Significant Step Towards Monolithic Heterogeneous Integration an
摩爾定律遇到瓶頸、先進工藝投資如同“無底洞”,代工廠在先進工藝的巨大投入與回報之間如何取舍,在性能、成本、尺寸之間如何權(quán)衡,選擇哪一種道路持續(xù)精進,或許未來的格局就在今時的選擇埋下伏筆。大陸
FD SOI(全耗盡型SOI)最近重新進入業(yè)界關注的焦點。Intel、TSMC等企業(yè)已決定在22、14nm節(jié)點走向FinFET之路;而作為FD SOI技術的主要支持者,如IBM、STMicroelectronics、GlobalFoundries等,認為在先進節(jié)點上FD SOI
網(wǎng)通晶片大廠博通(Broadcom)宣布,推出次世代多核心處理器,採用業(yè)界最高效能64位元ARM核心,并將採先進的16奈米FinFET製程生產(chǎn)。博通指出,是利用ARMv8-A架構(gòu)授權(quán),開發(fā)出此款創(chuàng)新的CPU處理器,為網(wǎng)路功能虛擬化(Ne
臺積電今天公布了20nm、16nm這兩種下代工藝的最新進展,同時第一次公開宣稱其實將它們視為同一代工藝。臺積電的20nm會有兩個版本,包括通用的“CLN20G”,以及面向SoC片上系統(tǒng)的“CLN20SOC”,先行量產(chǎn)的是前者。16n