芯片行或?qū)ⅰ跋磁啤?，芯片將成人類智慧皇冠上的明?/a>

三星掌門人帶高層兩赴ASML，這次能爭得18臺EUV？

6月17日，據(jù)臺媒《經(jīng)濟(jì)日報(bào)》報(bào)道，三星電子副會長李在镕在荷蘭訪問ASML之后，已經(jīng)確保取得“額外”的極紫外光(EUV)光刻機(jī)設(shè)備。

密度僅僅提升10%！摩爾定律工藝在晶體管密度上開啟擠牙膏之旅

摩爾定律表明：每隔 18~24 個(gè)月，封裝在微芯片上的晶體管數(shù)量便會增加一倍，芯片的性能也會隨之翻一番。當(dāng)FinFET結(jié)構(gòu)走到了無法突破物理極限的時(shí)候，對新的晶體管技術(shù)提出了需求。

2nm制程全球爭奪戰(zhàn)升級！ 2nm王冠究竟花落誰家？

不得不說，科技的發(fā)展真是日新月異，這點(diǎn)在手機(jī)行業(yè)上體現(xiàn)的淋漓盡致。目前手機(jī)芯片的制程已經(jīng)來到了4納米，得益于如此先進(jìn)的工藝，手機(jī)性能相比以前有了突飛猛進(jìn)的提升。

ARM的控制權(quán)歸屬成疑問，英國欲讓Arm倫敦上市

據(jù)報(bào)道，英國正在全力以赴，以確保Arm在倫敦上市。作為英國高科技產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠，Arm如果選擇在納斯達(dá)克上市，有損倫敦金融中心的聲譽(yù)。

游戲顯示器市場的競爭正在加劇，OLED面板成未來核心增長引擎

1995年，以TFT-LCD的研究向LCD領(lǐng)域邁進(jìn)第一步之后的第8年，第一次展示了LCD模塊(Module)。1999年與飛利浦合作的

臺積電先進(jìn)工藝產(chǎn)能將緊缺？3nm及2nm先進(jìn)工藝的產(chǎn)能將面臨挑戰(zhàn)

全球半導(dǎo)體行業(yè)在過去兩年中遭遇了成熟產(chǎn)能緊缺危機(jī)，導(dǎo)致電源管理、顯示驅(qū)動(dòng)IC,MOSFET、MCU和傳感器等相關(guān)芯片都出現(xiàn)了缺貨、漲價(jià)的情況，對汽車、消費(fèi)電子等多個(gè)行業(yè)的影響依然仍在發(fā)酵。

三星與Intel是半導(dǎo)體領(lǐng)域激烈競爭的對手：罕見的會面密謀重要合作

從三星官方獲悉，三星副董事長李在镕與Intel CEO基辛格在首爾進(jìn)行了罕見的會面，兩人對半導(dǎo)體領(lǐng)域的合作方式進(jìn)行了探討。

臺積電繼續(xù)推動(dòng)2nm制程工藝量產(chǎn)：堅(jiān)守海外建廠落后兩代原則

臺灣積體電路制造股份有限公司，中文簡稱：臺積電，英文簡稱：tsmc，屬于半導(dǎo)體制造公司。成立于1987年，是全球第一家專業(yè)積體電路制造服務(wù)(晶圓代工foundry)企業(yè)，總部與主要工廠位于中國臺灣省的新竹市科學(xué)園區(qū)。

在半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)，薄膜沉積設(shè)備成晶圓制造的核心設(shè)備之一

光刻是在掩模中轉(zhuǎn)移幾何形狀圖案的過程，是覆蓋在表面的一層薄薄的輻射敏感材料(稱為抗輻射劑) ，也是一種半導(dǎo)體晶片。 圖5.1簡要說明了光刻用于集成電路制造的工藝。

日本重回半導(dǎo)體行業(yè)巔峰夢想又有最新進(jìn)展：力求2025年本土量產(chǎn)2納米芯片

在下一代制程競爭中，IBM宣布拔得頭籌，成功推出世界上第一組2納米芯片制程。

鴻海全球首個(gè)電芯研發(fā)中心成立：預(yù)計(jì)2024年產(chǎn)能可達(dá)1GWh

指單個(gè)含有正、負(fù)極的電化學(xué)電芯，一般不直接使用。區(qū)別于電池含有保護(hù)電路和外殼，可以直接使用。鋰離子二次充電電池的組成是這樣的：電芯+保護(hù)電路板。充電電池去除保護(hù)電路板就是電芯了。他是充電電池中的蓄電部分。電芯的質(zhì)量直接決定了充電電池的質(zhì)量。

摩爾定律不會終結(jié)，阿斯麥爾的春天來了！

根據(jù)外媒《eeNews》的報(bào)導(dǎo)，比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)執(zhí)行長Luc van den Hove日前在Futures conference大會上表示，相信摩爾定律(Moore’s law)不會終結(jié)，但需要很多方面共同做出貢獻(xiàn)。

腰桿硬起來了 國產(chǎn)16核CPU即將發(fā)布,性能逼近國際主流水平

近日，有消息稱，龍芯將在 2022 年 LoongArch 生態(tài)發(fā)展上發(fā)布完全自主架構(gòu)、為高性能計(jì)算而生的龍芯 3C5000 以及新一代服務(wù)器基礎(chǔ)軟硬件平臺。

不少芯片都已經(jīng)進(jìn)入了納米級制程，EUV光刻機(jī)并非必需品？

EUV光刻機(jī)的面世靠的不僅僅是ASML一家的努力，還有蔡司和TRUMPF(通快)兩家歐洲光學(xué)巨頭的合作才得以成功。他們的技術(shù)分別為EUV光刻機(jī)的鏡頭和光源做出了不小的貢獻(xiàn)，也讓歐洲成了唯一能夠造出此類精密半導(dǎo)體設(shè)備的地區(qū)。