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Inpria與SK hynix聯(lián)合開(kāi)發(fā)金屬氧化物抗蝕劑，降低新一代DRAM的制版復(fù)雜性
JSR株式會(huì)社(JSR Corporation)今天宣布加速與SK hynix Inc.的合作開(kāi)發(fā)進(jìn)程，以便將JSR旗下公司Inpria的極紫外光刻(EUV)金屬氧化物抗蝕劑(MOR)應(yīng)用于制造先進(jìn)的DRAM芯片。Inpria擁有廣泛專(zhuān)利的EUV金屬氧化物光刻膠平臺(tái)使客戶(hù)能夠高效地對(duì)先進(jìn)節(jié)點(diǎn)設(shè)備架構(gòu)進(jìn)行制版。
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美國(guó)要求ASML擴(kuò)大對(duì)華光刻機(jī)的禁售范圍
為了遏制中國(guó)的發(fā)展，美國(guó)近年來(lái)對(duì)華采取一系列的干預(yù)和打壓措施已經(jīng)屢見(jiàn)不鮮，在高新科技領(lǐng)域的技術(shù)封鎖/貿(mào)易封鎖更是美國(guó)的慣用伎倆，半導(dǎo)體就是這樣的一個(gè)領(lǐng)域。據(jù)近日?qǐng)?bào)道，美國(guó)為了全面遏制中國(guó)的半導(dǎo)體業(yè)發(fā)展，已經(jīng)向荷蘭政府施壓，要求荷蘭光刻機(jī)公司阿斯麥(ASML)擴(kuò)大對(duì)華的禁售范圍，在禁止向中國(guó)出售最先進(jìn)的極紫外線(xiàn)光刻機(jī)(EUV)基礎(chǔ)上，進(jìn)一步將禁售范圍擴(kuò)大到上一代技術(shù)深紫外線(xiàn)光刻機(jī)(DUV)的出口。
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一季度5nm及更先進(jìn)處理器三星占據(jù)高達(dá)60%的代工
這些年，手機(jī)芯片成為領(lǐng)跑先進(jìn)制程的代表，當(dāng)前，高通驍龍、聯(lián)發(fā)科天璣等均已進(jìn)入4nm，年內(nèi)甚至有望迎來(lái)首顆3nm手機(jī)處理器。
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三星李在镕本周或到訪(fǎng)阿斯麥：搶購(gòu)EUV光刻機(jī)
據(jù)外媒消息，三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕有望在本周到訪(fǎng)荷蘭光刻機(jī)制造商阿斯麥(ASML)，媒體認(rèn)為他此行是為了搶購(gòu)EUV光刻機(jī)。 據(jù)悉，李在镕的荷蘭商務(wù)旅行將從6月7日開(kāi)始，一直持續(xù)到6月18日。
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在高端半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)上，JSR在ArF光刻膠領(lǐng)域以24%的市場(chǎng)份額位居全球第一
極紫外線(xiàn)光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。
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日本光刻膠巨頭JSR："中國(guó)很難發(fā)展自己的EUV"
5月23日消息，據(jù)報(bào)道，近日日本光刻膠巨頭JSR的首席執(zhí)行官埃里克約翰遜(Eric Johnson)在接受采訪(fǎng)時(shí)表示，盡管中國(guó)在努力推動(dòng)芯片的自給自足，但中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)必要的基礎(chǔ)設(shè)施不足，比如很難掌握基于極紫外(EUV)光刻的復(fù)雜芯片制造技術(shù)，發(fā)展先進(jìn)制程的芯片制造技術(shù)將非常困難。
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19億一臺(tái)光刻機(jī)賣(mài)爆了！ ASML預(yù)計(jì)只能滿(mǎn)足60%左右深紫外(DUV)光刻機(jī)訂單需求
數(shù)據(jù)顯示，公司一季度凈收入35億歐元，毛利率49%，凈利潤(rùn)6.95億歐元，新增凈訂單額70億歐元，其中來(lái)自0.33NA+0.55NA EUV光刻機(jī)的量達(dá)到25億歐元。
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應(yīng)用材料公司以技術(shù)助力極紫外光和三維環(huán)繞柵極晶體管實(shí)現(xiàn)二維微縮
2022 年 4 月 21 日，加利福尼亞州圣克拉拉市——應(yīng)用材料公司推出了旨在幫助客戶(hù)利用極紫外光(EUV)繼續(xù)推進(jìn)二維微縮的多項(xiàng)創(chuàng)新技術(shù)，并詳細(xì)介紹了業(yè)內(nèi)最廣泛的下一代三維環(huán)繞柵極晶體管制造技術(shù)的產(chǎn)品組合。
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5nm EUV工藝,三星Exynos 1280處理器發(fā)布
日前，三星悄然公布了一款新手機(jī)處理器，并已經(jīng)搭載在Galaxy A33/A53/M53等中端產(chǎn)品上。
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繞過(guò)EUV光刻機(jī)？國(guó)產(chǎn)企業(yè)紛紛投身于光刻機(jī)領(lǐng)域，DUV光刻機(jī)突破指日可待
極紫外線(xiàn)光刻機(jī)是芯片生產(chǎn)工具，是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，對(duì)芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)。
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俄羅斯計(jì)劃6.7億盧布研發(fā)全新EUV光刻機(jī)
光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一，EUV光刻機(jī)全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn)，但它的技術(shù)限制也很多，俄羅斯計(jì)劃開(kāi)發(fā)全新的EUV光刻機(jī)，使用的是X射線(xiàn)技術(shù)，不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。
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為了未來(lái)還是汽車(chē)芯片？英特爾芯片廠(chǎng)已安裝多臺(tái)EUV設(shè)備
考慮到 EUV 光刻機(jī)的產(chǎn)能有限，因此各大晶圓廠(chǎng)商都希望能夠第一時(shí)間入手最新一代的光刻機(jī)，從而提升自家晶圓的產(chǎn)能，英特爾也正不斷地采購(gòu) EUV 光刻機(jī)，以滿(mǎn)足先進(jìn)制程晶圓的制造。
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EUV光刻機(jī)工廠(chǎng)突發(fā)大火,暫無(wú)人員損傷
這一年多來(lái)，全球半導(dǎo)體產(chǎn)能緊張，臺(tái)積電等芯片制造公司也在積極擴(kuò)大產(chǎn)能，光刻機(jī)之類(lèi)的設(shè)備很搶手，在這個(gè)關(guān)鍵時(shí)刻，全球光刻機(jī)一哥ASML的工廠(chǎng)發(fā)生火災(zāi)，目前損失還在評(píng)估中。
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早年被EUV聯(lián)盟孤立 臺(tái)積電大佬講述翻身內(nèi)幕
這幾年中，臺(tái)積電一躍成為半導(dǎo)體制造行業(yè)的大哥，不僅是全球晶圓代工的絕對(duì)主力，而且先進(jìn)工藝也超越了Intel、三星等對(duì)手，更是首發(fā)了EUV光刻工藝，明年還要量產(chǎn)3nm工藝。
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ASML所生產(chǎn)的EUV光刻機(jī)仍供不應(yīng)求 ,更新型的光刻機(jī)即將發(fā)布
受市場(chǎng)缺芯影響，不少半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)都上調(diào)了業(yè)績(jī)預(yù)期，ASML公司便是其中之一。在10月3號(hào)舉辦的在線(xiàn)投資者活動(dòng)中，ASML表示， 2025年公司總營(yíng)收預(yù)計(jì)會(huì)在240億歐元到300億歐元之間。
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三星和臺(tái)積電已經(jīng)開(kāi)始接受5nm訂單，沒(méi)有EUV也能突破5nm？
三星和臺(tái)積電已經(jīng)開(kāi)始接受5nm的訂單，今年的風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)和明年的批量生產(chǎn)。我們預(yù)計(jì)兩家公司將在5納米采用更多的EUV層，三星為12層，臺(tái)積電為14層。
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EUV光刻機(jī)再出新規(guī)：臺(tái)積電、三星、英特爾都在爭(zhēng)奪EUV光刻機(jī)訂單
伴隨著芯片危機(jī)和科技制裁等熱議話(huà)題的出現(xiàn)，光刻機(jī)尤其是極紫外和深紫外EUV光刻機(jī)不可避免的成為時(shí)下科技界議論與發(fā)展的對(duì)象。
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全球最頂尖光刻機(jī)巨頭出貨超 100 臺(tái)：EUV 時(shí)代全面加速！
ASML大家都不陌生，它是全球最頂尖的光刻機(jī)巨頭，旗下的EUV光刻機(jī)更是目前最先進(jìn)的半導(dǎo)體設(shè)備之一，可用于生產(chǎn)7nm和5nm芯片。之前，國(guó)內(nèi)一直都想要從ASM那里進(jìn)口一臺(tái)EUV光刻機(jī)，但卻始終買(mǎi)不到，這也導(dǎo)致國(guó)人對(duì)ASML這家公司的態(tài)度并不是很好。
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新一代EUV光刻機(jī)曝光：巴士大小，造價(jià)近10億
近日，ASML方面?zhèn)鞒鱿?，新一代極紫外光刻機(jī)（EUV）已研發(fā)完成，現(xiàn)階段正在進(jìn)行最后一部分的安裝工作。
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Liftoff 和 Vungle 強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)手，合力打造領(lǐng)先的獨(dú)立移動(dòng)增長(zhǎng)平臺(tái)
通過(guò)合并互補(bǔ)科技賦能，邁入全球最大移動(dòng)增長(zhǎng)平臺(tái)行列，為5,000億美元規(guī)模的全球移動(dòng)應(yīng)用生態(tài)系統(tǒng)供能。美國(guó)加州紅木城和舊金山2021年8月25日/美通社/--全球領(lǐng)先的效果導(dǎo)向移動(dòng)應(yīng)用營(yíng)銷(xiāo)平臺(tái) Liftoff ，和國(guó)際領(lǐng)先的綜合性移動(dòng)應(yīng)用營(yíng)銷(xiāo)平臺(tái) V...
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