據(jù)美國物理學家組織網(wǎng)報道,韓國科研人員制造出了一種以可伸縮的透明石墨烯作為基底的新型晶體管。由于石墨烯具有出色的光學、機械和電性質(zhì),新型晶體管克服了由傳統(tǒng)半導體材料制成的晶體管面臨的很多問題。相關研究
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-YiChiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達7nm節(jié)點;但在7nm節(jié)點以下
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達 7nm節(jié)點;但在 7nm節(jié)點
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達 7nm節(jié)點;但在 7nm節(jié)點
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達 7納米節(jié)點;但在 7納米
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-YiChiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達7納米節(jié)點;但在7納米節(jié)
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達 7納米節(jié)點,但在 7
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達 7納米節(jié)點,但在 7納米