14nm會是硅芯片的盡頭？

盡管英特爾依然樂觀地預測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片，但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來，芯片的發(fā)展進程始終嚴格遵守著“摩爾定律”，并有條不紊地進行著，直到14nm制

14nm會是硅芯片的盡頭？

盡管英特爾依然樂觀地預測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片，但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來，芯片的發(fā)展進程始終嚴格遵守著“摩爾定律”，并有條不紊地進行著，直到14nm制

14nm會是硅芯片的盡頭？

盡管英特爾依然樂觀地預測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片，但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。近年來，芯片的發(fā)展進程始終嚴格遵守著“摩爾定律”，并有條不紊地進行著，直到14nm制造工藝的芯

14nm會是硅芯片的盡頭？

盡管英特爾依然樂觀地預測將于2015年之前推出8nm制程工藝的芯片，但人們還是懷疑14nm可能將成為硅芯片尺寸的最終盡頭。 近年來，芯片的發(fā)展進程始終嚴格遵守著“摩爾定律”，并有條不紊地進行著，直到14nm制造工藝

晶體管驅(qū)動TTL的接口電路

CMOS與晶體管的互接口電路

英特爾：14nm工藝的Atom移動芯片2014年問世

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差分放大器中的不匹配效應及消除方法研究

隨著微電子制造業(yè)的發(fā)展，制作高速、高集成度的CMOS電路已迫在眉睫，從而促使模擬集成電路的工藝水平達到深亞微米級。因為諸如溝道長度、溝道寬度、閾值電壓和襯底摻雜濃度都未隨器件尺寸的減小按比例變化，所以器件

車載數(shù)碼相機充電適配器設計

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PWM調(diào)光技術(shù)：如何優(yōu)化LED色彩穩(wěn)定度

本文探討提供發(fā)光二極體(LED)調(diào)光的方法，分析LED調(diào)光對其長期性能及所發(fā)射出光的色彩穩(wěn)定性之影響，并特別探討如何結(jié)合使用線性恒流穩(wěn)流器(CCR)及數(shù)位電晶體來提供脈沖寬度調(diào)變(PWM)調(diào)光。PWM為改變LED光輸出首要方

模擬設計的未來

摩爾定律告訴我們硅制造業(yè)的改進可使我們在同樣的成本下，每兩年就使晶體管的數(shù)量翻一番。換個觀察的角度就是硅晶圓的價格從未上升，并且硅晶圓的固定價格使我們不得不去構(gòu)想如何最好地使用每兩年翻一倍的晶體管。然

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澳大利亞科學家研制出完美的“單原子晶體管”

澳大利亞科學家表示，他們研制出一種單原子晶體管，其由蝕刻在硅晶體內(nèi)的單個磷原子組成，擁有控制電流的門電路和原子層級的金屬接觸，有望成為下一代量子計算機的基礎元件。研究發(fā)表在2月19日出版的《自然·納

可驅(qū)動50歐負載的寬帶緩沖放大器電路及工作原理分析

電路的功能本電路是SEPP輸出電路，輸出級由NPN晶體管構(gòu)成，可工作于高頻，它可作為輸入阻抗較高的OP放大器的電流增強器或作為驅(qū)動50歐負載的輸出緩沖放大器用。電路工作原理由于輸入級的射級輸出器TT1和輸出晶體管TT

SoC用低電壓SRAM技術(shù)

東芝在“2010 Symposium on VLSITechnology”上，發(fā)布了采用09年開始量產(chǎn)的40nm工藝SoC的低電壓SRAM技術(shù)。該技術(shù)為主要用于便攜產(chǎn)品及消費類產(chǎn)品的低功耗工藝技術(shù)。通過控制晶體管閾值電壓的經(jīng)時變化，可抑

設計自由度很大的二級直耦寬帶放大器電路及其工作原理

電路的功能雖然很多單片IC也被稱為寬帶放大器，但往往因具特性與使用要求不匹配，設計上又沒有自由度，因而無法應用。用晶體管組合而成的放大器可以按使用要求進行組合，設計自由度大，所以在圖象電路中得到廣泛的應

高頻特性得到改善的功率MOSFET放大器電路及其工作原理

電路的功能用于大功率的MOSFET功率放大器，其轉(zhuǎn)換速度比單級晶體管快，適合在高頻條件下工作。本電路使用了決定轉(zhuǎn)換速度的激勵器，而且還在輸出級采用了MOSFET，使高頻特性得以改善。輸出功率取決于電源電壓和負載。

與非門組成晶體管速測器電路圖及其原理分析

圖中所示是用CMOS反相器組成的晶體管速測器.CMOS電路采用J330,該電路在設計上考慮到要驅(qū)動TTL門電路,故輸出電流可達10MA以上.該晶體管速測器既可測晶體管的好壞,還可自動指示出晶體管的類型,基極位置或二極管的極性等

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