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[導(dǎo)讀]國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)組織(SICAS)發(fā)布的報(bào)告顯示,第三季度半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能利用率繼續(xù)走低。然而,不同類(lèi)別產(chǎn)品之間的差異之大讓人吃驚。 第三季度產(chǎn)能利用率從第二季度的88.5%降低至86.9%。這是近兩年來(lái)的新低,2

國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)能統(tǒng)計(jì)組織(SICAS)發(fā)布的報(bào)告顯示,第三季度半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)能利用率繼續(xù)走低。然而,不同類(lèi)別產(chǎn)品之間的差異之大讓人吃驚。

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第三季度產(chǎn)能利用率從第二季度的88.5%降低至86.9%。這是近兩年來(lái)的新低,2006年第四季度產(chǎn)能利用率曾低至86.8%。第三季度分立器件產(chǎn)能利用率為83.8%,第二季度和第一季度分別為83.9%和81.9%。

從工藝尺寸來(lái)看,第三季度0.7微米及以上的產(chǎn)能利用率最低,為74.1%,較第二季度的76.3%有所下降。這部分產(chǎn)能利用率穩(wěn)步下滑。

然而微小尺寸制程方面,產(chǎn)能利用率保持高位,表明需求的強(qiáng)勢(shì)。第三季度80納米及以下制程產(chǎn)能利用率為95.2%,與上季度持平。第一季度,該類(lèi)制程產(chǎn)能利用率曾達(dá)到96.7%。

同樣,晶圓尺寸也是一個(gè)因素。200mm晶圓產(chǎn)能利用率從第二季度的75.9%降至第三季度的64.3%。300mm晶圓需求依然強(qiáng)勁,產(chǎn)能利用率從第二季度的94.8%升至第三季度的96.5%。除了06年第三季度和07年第一季度,300mm晶圓產(chǎn)能利用率始終高于95%,07年第四季度曾達(dá)到98%。

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