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[導(dǎo)讀]DISCO還公布了之前未被披露過(guò)的2021財(cái)年的全年預(yù)測(cè)。預(yù)計(jì)全年銷(xiāo)售額將同比增長(zhǎng)32.9%,達(dá)到2431億日元(約人民幣134.17億元),營(yíng)業(yè)利潤(rùn)將增長(zhǎng)56.9%,達(dá)到833億日元(約人民幣45.98億元),純利潤(rùn)將增長(zhǎng)54.0%,達(dá)到602億日元(約人民幣33.23億元)。

2022年1月25日,DISCO公布了2021財(cái)年第三季度(2021年4~12月累計(jì))的財(cái)務(wù)業(yè)績(jī)。得益于半導(dǎo)體需求強(qiáng)勁,半導(dǎo)體制造商增加設(shè)備投資的拉動(dòng),DISCO銷(xiāo)售額同比增長(zhǎng)41.3%,達(dá)到1802.69億日元(約人民幣99.50億元),營(yíng)業(yè)利潤(rùn)同比增長(zhǎng)72.5%,達(dá)到632.50億日元(約人民幣34.91億元),純利潤(rùn)同比增長(zhǎng)77.6%,達(dá)到455.09億日元(約人民幣25.12億元)。DISCO表示:4~12月期間的業(yè)績(jī)達(dá)到了歷史新高。

DISCO還公布了之前未被披露過(guò)的2021財(cái)年的全年預(yù)測(cè)。預(yù)計(jì)全年銷(xiāo)售額將同比增長(zhǎng)32.9%,達(dá)到2431億日元(約人民幣134.17億元),營(yíng)業(yè)利潤(rùn)將增長(zhǎng)56.9%,達(dá)到833億日元(約人民幣45.98億元),純利潤(rùn)將增長(zhǎng)54.0%,達(dá)到602億日元(約人民幣33.23億元)。

DISCO對(duì)這一期的市場(chǎng)狀況進(jìn)行了說(shuō)明:由于半導(dǎo)體的需求強(qiáng)勁,包括5G和汽車(chē)領(lǐng)域,以及在全球去碳化趨勢(shì)的影響下,半導(dǎo)體制造商對(duì)設(shè)備投資意愿強(qiáng)烈。不限地域,包括歐美在內(nèi),全球范圍內(nèi)整體都有強(qiáng)烈的設(shè)備投資意愿,因此對(duì)DISCO的半導(dǎo)體制造后端工序設(shè)備需求也很強(qiáng)勁。

2月9日消息,據(jù)Counterpoint報(bào)道,2021年全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷(xiāo)售額創(chuàng)下5500億美元的新紀(jì)錄,隨著芯片市場(chǎng)需求的增加,荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML公司作為芯片制造關(guān)鍵設(shè)備制造商,儼然成為最大幕后贏家。EUV技術(shù)是目前先進(jìn)光刻機(jī)用到的主要技術(shù)之一,ASML公司目前在這一技術(shù)領(lǐng)域處于壟斷地位,2022年預(yù)計(jì)交付約60套EUV光刻機(jī),實(shí)現(xiàn)快速出貨,填補(bǔ)疫情下的芯片缺口。

近日,ASML公司公布了2021財(cái)年第四季度業(yè)績(jī),其中凈銷(xiāo)售額同比增長(zhǎng)35%,毛利率創(chuàng)下歷史新高,達(dá)到52.7%,其中EUV(極紫外線)光刻機(jī)銷(xiāo)售額達(dá)到63億歐元(約合人民幣458億元)。為應(yīng)對(duì)技術(shù)節(jié)點(diǎn)的縮小,該公司還在大力投資High-NA(高數(shù)值孔徑)光刻機(jī),預(yù)計(jì)2023年出貨5套型號(hào)為EXE:5000的High-NA光刻機(jī)。

2021年,全球半導(dǎo)體行業(yè)總銷(xiāo)售額達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的5500億美元,Counterpoint表示,由于5G、物聯(lián)網(wǎng)、云計(jì)算、高性能計(jì)算、汽車(chē)芯片和其他領(lǐng)域需求的增加,預(yù)計(jì)到 2030 年,半導(dǎo)體行業(yè)總收入將達(dá)到 1 萬(wàn)億美元。光刻技術(shù)是目前芯片生產(chǎn)的核心工藝,其中,EUV技術(shù)被認(rèn)為是當(dāng)前生產(chǎn)芯片的最佳工藝,,ASML公司作為光刻系統(tǒng)行業(yè)的領(lǐng)導(dǎo)者,能憑借對(duì)先進(jìn) EUV 技術(shù)的大量投資和在EUV技術(shù)方面的壟斷地位,以及在老式光刻系統(tǒng)產(chǎn)品線中的主導(dǎo)地位,在未來(lái)繼續(xù)獲得較高市場(chǎng)估值。

ASML公司表示該公司已經(jīng)對(duì)High-NA光刻機(jī)進(jìn)行了大量投資,High-NA光刻機(jī)是EUV光刻機(jī)的進(jìn)一步優(yōu)化,該公司的目標(biāo)是使其能夠?qū)崿F(xiàn)3nm芯片的生產(chǎn)。目前,該公司已經(jīng)收到五個(gè)EXE:5000型號(hào)(High-NA產(chǎn)品型號(hào))的訂單,各光學(xué)掩模、光刻膠供應(yīng)商之間正在密切協(xié)作,預(yù)計(jì)在2023年完成出貨。2024年,AMSL還將推出EXE:5200型號(hào),這是該公司下一代預(yù)計(jì)大批量生產(chǎn)的High-NA光刻機(jī)。此外,ASML公司稱,2022年至2026年,該公司凈銷(xiāo)售額同比增長(zhǎng)將達(dá)到20%左右,這部分的增長(zhǎng)將主要通過(guò)High-NA光刻機(jī)的EUV設(shè)備銷(xiāo)售來(lái)實(shí)現(xiàn),到2025年,High-NA光刻機(jī)將被大規(guī)模用于DRAM芯片(Dynamic Random Access Memory)的生產(chǎn)。

光刻機(jī)全球龍頭ASML在美國(guó)的銷(xiāo)售額連續(xù)3年下降,與此形成鮮明對(duì)比的是,同期ASML在韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)的銷(xiāo)量增幅高達(dá)3倍,證明美國(guó)對(duì)半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施的投資不足。

據(jù)ETNews報(bào)道,ASML占全球光刻機(jī)市場(chǎng)的84%,并獨(dú)家供應(yīng)先進(jìn)工藝所需的EUV光刻機(jī)。引進(jìn)其設(shè)備的數(shù)量會(huì)影響半導(dǎo)體生產(chǎn)能力,因此其銷(xiāo)售額能夠被用于衡量各地區(qū)對(duì)半導(dǎo)體設(shè)備投資情況。

財(cái)報(bào)顯示,2019年到2021年,ASML在美國(guó)的收入下降了約20%。從2019年的19.8億歐元,到2020年和2021年分別減少到16.57億歐元和15.83億歐元。同期,ASML在亞洲的銷(xiāo)售額顯著增長(zhǎng)。在主要的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地韓國(guó),銷(xiāo)售額從2019年的22.02億歐元增長(zhǎng)到2021年的62.23億歐元,增長(zhǎng)了近兩倍。

中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)也從2019年的53.57億歐元增長(zhǎng)到去年的73.27億歐元,增幅為37%。這是三星電子和SK海力士為擴(kuò)大尖端微處理能力,引進(jìn)了大量EUV光刻機(jī)的結(jié)果。臺(tái)積電大舉投資半導(dǎo)體設(shè)備,也推動(dòng)了銷(xiāo)售的增長(zhǎng)。在美國(guó)禁止出口ASML核心設(shè)備EUV曝光設(shè)備的中國(guó)大陸,其年銷(xiāo)售額也翻了一番,從2019年的13.77億歐元增至2021年的27.4億歐元。據(jù)分析,中國(guó)大陸購(gòu)買(mǎi)的光刻設(shè)備比美國(guó)還多。除受管制的EUV設(shè)備外,主要引進(jìn)了ArF、KrF、i線等光刻設(shè)備。

ASML在美國(guó)的銷(xiāo)量下降證明,美國(guó)在半導(dǎo)體生產(chǎn)基礎(chǔ)設(shè)施方面的投資到目前為止還不夠。到2020年,美國(guó)缺乏投資半導(dǎo)體晶圓廠的意愿。據(jù)分析,這是因?yàn)橛⑻貭栃歼M(jìn)入代工領(lǐng)域的時(shí)間較晚,以及美光曾經(jīng)對(duì)EUV設(shè)備持懷疑態(tài)度。隨著美國(guó)吸引本國(guó)的半導(dǎo)體生產(chǎn)基地,ASML設(shè)備的引進(jìn)預(yù)計(jì)將會(huì)加速。英特爾計(jì)劃到2025年采用ASML下一代曝光設(shè)備,美光也正式使用EUV設(shè)備。

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