Cadence、Synopsys(新思)和Mentor Graphics三大廠商占了全球EDA行業(yè)70%的市場(chǎng)份額。然而,三大廠商背后是上百家各有特色的EDA公司。其中不乏佼佼者,比如SpringSoft(思源)在波形顯示、查錯(cuò)及某些全定制板圖設(shè)計(jì)應(yīng)用上
Cadence 設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司日前宣布,中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中芯國(guó)際”)采用了 Cadence(R) Litho Physical Analyzer 與 Cadence Litho Electrical Analyzer,從而能夠更準(zhǔn)確地預(yù)測(cè)壓力和光刻差異對(duì)65
中芯國(guó)際將采用Cadence Design Systems公司的“Litho Physical Analyzer”和“Litho Electrical Analyzer”作為65nm和45nm制程的設(shè)計(jì)工具。這兩款工具可更好地模擬光刻工藝對(duì)器件制造的影響。SMIC is to adopt Caden
今天宣布,中芯國(guó)際集成電路制造有限公司采用了 Cadence(R) Litho Physical Analyzer 與 Cadence Litho Electrical Analyzer,從而能夠更準(zhǔn)確地預(yù)測(cè)壓力和光刻差異對(duì)65和45納米半導(dǎo)體設(shè)計(jì)性能的影響。Cadence Litho
style=" padding-left:8px; padding-right:8px; margin-top:5px; line-height: 24px; clear:both;">全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè) Cadence 設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司今天宣布,中芯國(guó)際集成電路制造有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“中芯國(guó)際”)
芯片設(shè)計(jì)解決方案供應(yīng)商微捷碼(Magma)設(shè)計(jì)自動(dòng)化有限公司日前宣布,Talus® IC實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)已被納入臺(tái)積電(TSMC)Reference Flow 10.0。采用微捷碼軟件和最新臺(tái)積電參考流程(Reference Flow),設(shè)計(jì)師可使用“Fast
全球電子設(shè)計(jì)創(chuàng)新領(lǐng)先企業(yè)Cadence設(shè)計(jì)系統(tǒng)公司日前宣布 ,恩智浦半導(dǎo)體采用了新的Cadence Encounter數(shù)字實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)(EDI System)及其無(wú)縫的可制造性(DFM)設(shè)計(jì)技術(shù),來(lái)確保它先進(jìn)的45納米PNX85500數(shù)字電視處理器芯片
當(dāng)今席卷全球的金融危機(jī)給電子制造企業(yè)帶來(lái)了更大的挑戰(zhàn)。提升產(chǎn)品的成品率,減少PCB設(shè)計(jì)的改版次數(shù),降低產(chǎn)品制造成本,是電子企業(yè)提高競(jìng)爭(zhēng)力的有效途徑。為了幫助企業(yè)了解和掌握DFM技術(shù),全球DFM技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)者Valor公
專(zhuān)為電子業(yè)提供強(qiáng)化生產(chǎn)力解決方案的廠商華爾萊科技(Valor)與Cybernet近日簽署合作協(xié)議,Cybernet將在亞太地區(qū)(中國(guó)、日本、臺(tái)灣)代理經(jīng)銷(xiāo)Valor的用于PCB板的DFM驗(yàn)證系統(tǒng)“Enterprise 3000”及提供技術(shù)支持。
“DFM”- 一個(gè)由三個(gè)字母組成的縮寫(xiě),其意義依據(jù)你在設(shè)計(jì)及制造流程鏈中所扮演的角色不同而不同,或是微不足道,或是舉足輕重。 在今天的電子業(yè),有幾種力量正在推動(dòng)著可制造性設(shè)計(jì)(DFM)的進(jìn)程,其中最常見(jiàn)的三種
近兩年,國(guó)際上大的半導(dǎo)體公司都推出了65納米產(chǎn)品,并開(kāi)始了45納米/40納米產(chǎn)品的研發(fā),而國(guó)內(nèi)也已經(jīng)有五六家企業(yè)開(kāi)始了65納米的設(shè)計(jì)。但總體來(lái)說(shuō),65納米/40納米設(shè)計(jì)目前仍然還是一個(gè)新生事物,企業(yè)要解決一系列的技
摘要:分析了IC業(yè)的眾多特點(diǎn),例如從90nm向65nm、45nm、32nm、22nm等拐點(diǎn)演進(jìn)的困難,以及ESL、DFM拐點(diǎn),制造是設(shè)計(jì)的拐點(diǎn),F(xiàn)PGA與ASIC之間的拐點(diǎn)等熱門(mén)問(wèn)題。 關(guān)鍵詞:EDA;65nm;45nm;22nm;光刻在IC(集成電路