當(dāng)?shù)貢r(shí)間2024年1月1日,光刻機(jī)大廠ASML發(fā)布聲明稱,荷蘭政府最近已經(jīng)部分吊銷了2023年發(fā)貨NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)的許可證,影響到了少數(shù)中國客戶。
● ASML聯(lián)席總裁Peter Wennink和Martin van den Brink將于2024年4月24日榮休; ● Jim Koonmen將被任命為首席客戶官,加入管理委員會(huì)。
日前韓國今日電子新聞報(bào)道稱三星計(jì)劃斥巨資進(jìn)口大量的半導(dǎo)體設(shè)備,其中包括更多的 ASML 極紫外(EUV)光刻設(shè)備。盡管因?yàn)楹贤械谋C軛l款未能披露具體細(xì)節(jié),但證券市場(chǎng)消息稱,該協(xié)議將使 ASML 在五年內(nèi)提供總共 50 套設(shè)備,而每臺(tái)單價(jià)約為 2000 億韓元(當(dāng)前約合人民幣 11.16 億),總價(jià)值可達(dá) 10 萬億韓元(當(dāng)前約合人民幣 558 億)。
ASML預(yù)計(jì)2023年第四季度的凈銷售額在67億至71億歐元之間,毛利率在50%至51%之間。
9月7日消息,ASML宣布,將在今年底發(fā)貨第一臺(tái)支持高NA(數(shù)值孔徑)的EUV極紫外光刻機(jī),型號(hào)“Twinscan EXE:5000”。
今年 6 月的時(shí)候,荷蘭政府正式宣布了針對(duì)先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī),即相關(guān)企業(yè)(ASML)在出口先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備之前必須獲得政府的許可證,否則將被禁止。該規(guī)定已于上周五(9 月 1 日)生效,但近日荷蘭政府通過了 ASML 的許可證,即年底之前 ASML 的先進(jìn)浸沒式深紫外光刻設(shè)備 (DUV) 將繼續(xù)出口中國。
作為半導(dǎo)體制造中的核心裝備之一,光刻機(jī)至關(guān)重要,7nm以下工藝所需的EUV光刻機(jī)只有ASML公司能生產(chǎn),售價(jià)達(dá)到10億以上,不過今年EUV的勢(shì)頭熄火了,DUV光刻機(jī)需求反而暴漲。
2023年第二季度,ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額69億歐元(約合人民幣555億元),同比增長27%。對(duì)此,ASML總裁兼CEO彼得·溫寧克(Peter Wennink)表示,這主要得益于本季度浸潤式DUV光刻機(jī)的超額營收,以及在第二季度開始浸潤式設(shè)備快速發(fā)貨帶來的收入確認(rèn)。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 發(fā)布了今年二季度的營收數(shù)據(jù)報(bào)表,其中凈銷售額為 69 億歐元,超過了之前預(yù)期的 66.9 億歐元,同比上漲 19.4%。
光刻機(jī)巨頭阿斯麥(ASML)在官網(wǎng)公布了2023年二季度的營收數(shù)據(jù),由于DUV光刻機(jī)收入增加,該季度營收為69億歐元,超出市場(chǎng)預(yù)期(66.9億歐元),凈利潤19億歐元,毛利率為51.3%;第二季度訂單額45億歐元,同樣超出市場(chǎng)預(yù)期(39.8億歐元),其中EUV光刻機(jī)訂單價(jià)值16億歐元。
ASML總裁兼首席執(zhí)行官Peter Wennink表示:“我們第二季度的凈銷售額為69億歐元,處于預(yù)測(cè)營收區(qū)間的高位;毛利率為51.3%,超出預(yù)期目標(biāo)。這主要得益于本季度浸潤式DUV光刻機(jī)的超額營收?!?/p>
7月13日消息,《歐洲芯片法案》的結(jié)果已經(jīng)出爐,高達(dá)近500億元的補(bǔ)貼將啟動(dòng),為的是打造自主半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。
日前有報(bào)道稱,ASML將面向中國市場(chǎng)推出特別版DUV光刻機(jī),不過此事已經(jīng)辟謠,ASML表示一直以來ASML都遵守所適用的法律條例,公司并沒有面向中國市場(chǎng)推出特別版的光刻機(jī)。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,在荷蘭對(duì)光刻機(jī)實(shí)施了出口管制措施之后,業(yè)內(nèi)頻傳言 ASML 將規(guī)避該措施為中國市場(chǎng)推出特供 DUV 光刻機(jī),近日 ASML 官方專門對(duì)此進(jìn)行了回應(yīng)。
近日,ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱,該公司未來出口其先進(jìn)的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)(即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng))時(shí),將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。
據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 和比利時(shí)微電子研究中心(IMEC)宣布雙方將在開發(fā)最先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗(yàn)線的下一階段加強(qiáng)合作,為使用半導(dǎo)體技術(shù)的行業(yè)提供原型設(shè)計(jì)平臺(tái)和未開發(fā)的未來機(jī)遇。
當(dāng)?shù)貢r(shí)間6月30日,荷蘭政府正式頒布了有關(guān)先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備的額外出口管制的新條例。光刻機(jī)巨頭ASML表示,新規(guī)只涉及部分最新的DUV型號(hào),包括TWINSCAN NXT:2000i以及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)。
比利時(shí)微電子研究中心 (IMEC) 、阿斯麥 (ASML) 共同宣布,雙方將在開發(fā)先進(jìn)高數(shù)值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗(yàn)線的下一階段加強(qiáng)合作。
業(yè)內(nèi)消息,荷蘭政府的半導(dǎo)體新規(guī)預(yù)計(jì)最快會(huì)在下周開始實(shí)施,屆時(shí) ASML 的 DUV 光刻機(jī)將被限制出口。
據(jù)報(bào)道,在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入7nm節(jié)點(diǎn)之后,EUV光刻機(jī)是少不了的關(guān)鍵設(shè)備,目前只有ASML能制造,單臺(tái)售價(jià)10億人民幣,今年底還會(huì)迎來下一代EUV光刻機(jī),價(jià)格也會(huì)大漲。