今年 6 月的時(shí)候，荷蘭政府正式宣布了針對先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)，即相關(guān)企業(yè)(ASML)在出口先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備之前必須獲得政府的許可證，否則將被禁止。該規(guī)定已于上周五（9 月 1 日）生效，但近日荷蘭政府通過了 ASML 的許可證，即年底之前 ASML 的先進(jìn)浸沒式深紫外光刻設(shè)備 (DUV) 將繼續(xù)出口中國。

ASML 的發(fā)言人表示，出口限制確實(shí)從 9 月份開始實(shí)施，但該公司已獲得在今年年底之前向中國運(yùn)送受限制芯片制造機(jī)器的許可。這表明年底之前的這段時(shí)間是一個(gè)緩沖期，預(yù)計(jì)從明年開始將不會(huì)起獲得出口三款先進(jìn)浸沒式深紫外光刻設(shè)備 (DUV) 型號的出口許可證。

也就是說，在新的出口管制條例下，今年年底前ASML仍然能夠履行與客戶簽訂的合同，之后就大概率不被允許了。但 ASML 表示出口管制條例不會(huì)對其 2023 年財(cái)務(wù)展望或長期展望產(chǎn)生實(shí)質(zhì)性影響。

據(jù)悉，當(dāng)時(shí)的出口新規(guī)只涉及部分最新的 DUV(深紫外)型號，包括 TWINSCAN NXT:2000i 以及后續(xù)推出的浸潤式光刻系統(tǒng)，EUV(極紫外)光刻系統(tǒng)在此前就已經(jīng)受到限制，而其他系統(tǒng)的發(fā)運(yùn)未受荷蘭政府管控。

根據(jù) ASML 官網(wǎng)顯示，其浸潤式 DUV 光刻系統(tǒng)包括NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i 和 TWINSCAN NXT:2050i 三款設(shè)備。它們能夠進(jìn)行 38nm-45nm 制程工藝的晶圓加工，這其中 2000i 和 2050i 兩款是出口限制新規(guī)中點(diǎn)名的設(shè)備產(chǎn)品。

此外，能夠進(jìn)行 45nm 以上晶圓加工的，比如 65nm-220nm 制程的干式 DUV 光刻設(shè)備(TWINSCAN XT:400L、XT:1460K、NXT:870等型號)均不在荷蘭政府的出口管制清單之內(nèi)。

ASML 執(zhí)行副總裁兼首席商務(wù)官 Christophe·Fouquet 在接受采訪時(shí)表示，全球半導(dǎo)體供應(yīng)鏈當(dāng)中，任何單一國家想要與別人分開是極其困難和需要巨大成本的。

美國從去年開始，在半導(dǎo)體領(lǐng)域?qū)嵤┝艘幌盗袑θA出口管制措施，然而并未達(dá)到其預(yù)期效果。隨后美國開始游說拉攏荷蘭日本等幾個(gè)重度參與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的國家來加強(qiáng)其措施。

今年第二季度，日本正式出臺(tái)半導(dǎo)體出口管制措施，包含半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中的光刻、刻蝕、熱處理、清洗、檢測等 6 大類 23 種半導(dǎo)體制造設(shè)備/材料，清單中受管制物品在向中國大陸和俄羅斯等地區(qū)出口時(shí)，需要獲得日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)省的許可證。