作為半導(dǎo)體制造中的核心裝備之一，光刻機(jī)至關(guān)重要，7nm以下工藝所需的EUV光刻機(jī)只有ASML公司能生產(chǎn)，售價(jià)達(dá)到10億以上，不過今年EUV的勢(shì)頭熄火了，DUV光刻機(jī)需求反而暴漲。

ASML公司日前發(fā)布了Q2季度財(cái)報(bào)，單季度營(yíng)收達(dá)到69.02億歐元，同比增長(zhǎng)27.10%，環(huán)比增長(zhǎng)2.31%，接近此前的指引上限并創(chuàng)歷史新高。

實(shí)現(xiàn)凈利潤(rùn)19.42億歐元，同比增長(zhǎng)37.62%，環(huán)比減少0.72%。

公司單季度的毛利率為51.3%，高于指引，同比提升2.2pct，環(huán)比提升0.7pct，主要是浸沒式DUV設(shè)備快速出貨帶來的;凈利率為28.1%，同比提升2.1pct，環(huán)比降低0.9pct。

在ASML出售的設(shè)備中，EUV光刻機(jī)的營(yíng)收占比這次大幅降低了，只占37%，當(dāng)季總出貨量為113臺(tái)，EUV從上季度的17臺(tái)減少到了12臺(tái)，ASML對(duì)EUV業(yè)務(wù)的增長(zhǎng)預(yù)期也從40%減少到25%。

EUV減少主要跟當(dāng)前的半導(dǎo)體市場(chǎng)環(huán)境有關(guān)，各大晶圓廠的先進(jìn)工藝投資都在放緩。

另一方面，傳統(tǒng)的DUV光刻機(jī)需求反而大漲，全年出貨量可能比之前預(yù)計(jì)的375臺(tái)還要多，營(yíng)收增長(zhǎng)50%以上。

其中一個(gè)重要原因就是中國(guó)客戶的需求爆發(fā)，除了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)能建設(shè)的需要之外，還有一個(gè)因素就是下半年荷蘭就會(huì)限制部分光刻機(jī)出口，國(guó)內(nèi)客戶提前下單鎖定。