3月3日,中芯國(guó)際發(fā)布公告稱,2021年2月1日,公司與阿斯麥上海簽訂了經(jīng)修訂和重述的阿斯麥批量采購協(xié)議。據(jù)此,阿斯麥批量采購協(xié)議的期限從原來的2018年1月1日至2020年12月31日延長(zhǎng)至從2018年1月1日至2021年12月31日。根據(jù)阿斯麥購買單購買的阿斯麥產(chǎn)品定價(jià)乃按公平基準(zhǔn)厘定,阿斯麥購買單的總代價(jià)為12億美元。
當(dāng)美國(guó)對(duì)華為打壓方式越發(fā)無恥和露骨,直接對(duì)華為海思芯片陷入困境后,國(guó)人便開始對(duì)中芯國(guó)際抱有較高的期望。可是,從現(xiàn)階段來看,中芯國(guó)際14nm制程工藝基本無法滿足華為海思高端芯片的需求,若是荷蘭ASML公司交付高端7nm 光刻機(jī),或許還能有一絲希望。由此可見,ASML公司所提供的光刻機(jī)設(shè)備重要性不言而喻。
本月中旬,在日本東京舉辦了ITF論壇上,與ASML(阿斯麥)合作研發(fā)光刻機(jī)的比利時(shí)半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu)IMEC公布了3nm及以下制程的在微縮層面技術(shù)細(xì)節(jié)。
世界光刻機(jī)巨頭ASML亮相第三屆進(jìn)博會(huì)。作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的企業(yè),由于ASML目前仍不能向中國(guó)出口EUV光刻機(jī),所以此次展示的是其DUV光刻機(jī)。據(jù)了解,該產(chǎn)品可生產(chǎn)7nm及以上制程芯片。
臺(tái)積電是第一家將EUV(極紫外)光刻工藝商用到晶圓代工的企業(yè),目前投產(chǎn)的工藝包括N7+、N6和N5三代。
作為半導(dǎo)體生產(chǎn)中的重要設(shè)備,光刻機(jī)不可或缺,尤其是7nm以下先進(jìn)工藝生產(chǎn)離不開的EUV光刻機(jī),目前全球只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),而臺(tái)積電、三星、英特爾等晶圓生產(chǎn)大廠,都有迫切需求,因此這個(gè)市場(chǎng)出現(xiàn)了供不應(yīng)求的局面。據(jù)businesskorea報(bào)道,三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕正敦促ASML的高管盡早交付三星今年訂購的9臺(tái)的EUV光刻機(jī)。
最近,據(jù)同花順財(cái)經(jīng)消息, 荷蘭阿斯麥 ASML 首席財(cái)務(wù)官 Roger Dassen 在財(cái)報(bào)會(huì)議的視頻采訪中談及了與中芯國(guó)際等中國(guó)客戶的業(yè)務(wù)情況。
1956年,IBM發(fā)明了第一塊硬盤,其容量?jī)H5M,重量卻高達(dá)1噸。上世紀(jì)五十年代德州儀器(TI)發(fā)明了半導(dǎo)體。隨后,第一個(gè)晶體管、第一個(gè)集成電路、第一個(gè)微處理器都來自美國(guó)。
預(yù)計(jì)到明年年底,臺(tái)積電正EUV光刻機(jī)的累計(jì)采購量將達(dá)到約55臺(tái)。在今年8月舉辦的全球技術(shù)論壇期間,臺(tái)積電曾透露,在目前全球在運(yùn)行的極紫外光刻機(jī)中,臺(tái)積電擁有約一半,芯片產(chǎn)能預(yù)計(jì)占全球的60%。
9月17日,第23屆中國(guó)集成電路制造年會(huì)暨2020年廣東集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展論壇在廣州開幕。國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體知名企業(yè)悉數(shù)亮相,多位企業(yè)家、專家學(xué)者以及科研機(jī)構(gòu)代表近千人參會(huì)。對(duì)于行業(yè)“卡脖子”問題,與會(huì)嘉賓認(rèn)為,國(guó)產(chǎn)芯片替代加速,電子產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)巨大的粵港澳大灣區(qū)空間更大。
8月21日消息,據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商ASML(阿斯麥)的EUV(極紫外光刻)技術(shù)培訓(xùn)中心昨日在臺(tái)灣臺(tái)南科學(xué)園區(qū)開張,就近服務(wù)第一大客戶臺(tái)積電。 ASML ASML的EUV技術(shù)培訓(xùn)
ASML作為全世界最先進(jìn)的光刻機(jī)制造企業(yè),全球高端芯片幾乎都來自于ASML,壟斷了全球的光刻機(jī)市場(chǎng)。臺(tái)積電能在芯片領(lǐng)域遙遙領(lǐng)先就是因?yàn)橛蠥SML的光刻機(jī)供應(yīng)。
7 月 15 日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在處理器等各類芯片的制造過程中,光刻機(jī)至關(guān)重要,目前芯片制造工藝已提升到了 5nm,只有光刻機(jī)制造商阿斯麥的極紫外光刻機(jī)能滿足這一先進(jìn)工藝的要求。阿斯麥極紫外光刻
7 月 15 日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,光刻機(jī)廠商阿斯麥已發(fā)布了二季度的財(cái)報(bào),營(yíng)收超過 33 億歐元,同比環(huán)比均大幅增長(zhǎng),扭轉(zhuǎn)了一季度大幅下滑的頹勢(shì)。阿斯麥的財(cái)報(bào)是在今日發(fā)布的,財(cái)報(bào)顯示在今年二季度,他
ASML股票在1月17日上漲了7%,以199.18收盤,因?yàn)锳SML公布了過去12個(gè)月的季度銷售情況,為30.7億美元,實(shí)現(xiàn)同比增長(zhǎng)53%,超過其預(yù)期的25.2億美元。ASML實(shí)現(xiàn)了7.7億美元
日前,中國(guó)國(guó)際半導(dǎo)體技術(shù)大會(huì)(CSTIC)在上海開幕,為期19天,本次會(huì)議重點(diǎn)是探討先進(jìn)制造和封裝。 其中,光刻機(jī)一哥ASML(阿斯麥)的研發(fā)副總裁Anthony Yen表示,EUV光刻工具是目前唯一
作為半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過程中最重要的裝備,光刻機(jī)一直牽動(dòng)人心,制程工藝越先進(jìn)就要離不開先進(jìn)光刻機(jī)。ASML副總裁Anthony Yen日前表態(tài),如果沒有EUV光刻機(jī),那么芯片廠商是造不出7nm以下工藝芯片
今天又是科技板塊回血格局,HIT電池、IPv6、3D攝像頭、PCB、WiFi、氮化鎵、無線充電、邊緣計(jì)算、5G概念年、通訊行業(yè)、IDC等等板塊都成了領(lǐng)漲大軍。 這里不乏一些消息面支撐,例如歐菲光成功研發(fā)了史上最薄的潛望式連續(xù)變焦模組,模組尺寸縮短至5.9毫米。 昨天
提到荷蘭ASML公司,大家都知道他們是全球唯一的EUV光刻機(jī)供應(yīng)商,7nm及以下的工藝生產(chǎn)都要靠他們的設(shè)備。不過ASML不只是光刻機(jī)厲害,今天他們宣布了另外一個(gè)新產(chǎn)品—;—;第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)H
據(jù)6月1日消息,荷蘭ASML公司近日在官網(wǎng)宣布,完成了用于5nm及更先進(jìn)工藝的第一代HMI多光束檢測(cè)機(jī)HMI eScan1000的測(cè)試。