日前,IBM宣布造出了全球第一顆2nm工藝的半導(dǎo)體芯片。
據(jù)摩爾定律延續(xù),由14nm,7nm,再到5nm,芯片制程工藝技術(shù)一直在突破。在5nm剛剛起步實(shí)現(xiàn)大規(guī)模突破的時(shí)候,臺(tái)積電對(duì)于2nm芯片工藝技術(shù)的研發(fā)就已經(jīng)實(shí)現(xiàn)重大突破,并開始向1nm制程邁進(jìn)。
據(jù)臺(tái)媒透露,有別于3nm與5nm采用鰭式場(chǎng)效晶體管(FinFET)架構(gòu),臺(tái)積電2nm改采全新的多橋通道場(chǎng)效晶體管(MBCFET)架構(gòu),研發(fā)進(jìn)度超前。根據(jù)臺(tái)積電近年來整個(gè)先進(jìn)制程的布局,業(yè)界估計(jì),臺(tái)積電2nm將在2023下半年推出,有助于其未來持續(xù)拿下蘋果、輝達(dá)等大廠先進(jìn)制程大單,狠甩三星。
8月26日消息,據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,臺(tái)積電正規(guī)劃建2nm及3nm廠,未來資本支出有望高達(dá)新臺(tái)幣1.2兆元(約合人民幣2822億元),臺(tái)積電供應(yīng)商漢唐、帆宣將受惠。 臺(tái)積電 臺(tái)積電昨日在技術(shù)論壇說明最新建
根據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道,近日臺(tái)積電在2nm研發(fā)上取得重大突破,目前已找到路徑,將切入全環(huán)柵場(chǎng)效應(yīng)晶體管GAA,這是臺(tái)積電繼從鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管FinFET技術(shù)取得全球領(lǐng)先地位之后,向另一全新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)邁進(jìn)
7月13日消息,據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,臺(tái)積電沖刺先進(jìn)制程,在2nm研發(fā)有重大突破,已成功找到路徑,將切入環(huán)繞式柵極技術(shù)(gate-all-around,簡(jiǎn)稱GAA)技術(shù)。 臺(tái)積電 臺(tái)媒稱,三星已決定在3n
據(jù)報(bào)道,臺(tái)積電在 2nm 研發(fā)有重大突破,并且已成功找到路徑,臺(tái)積電2nm預(yù)計(jì)將在2023至2024推出,該技術(shù)為切入環(huán)繞式柵極技術(shù) (gate-all-around,簡(jiǎn)稱 GAA技術(shù))。盡管5nm剛實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)不久,臺(tái)積電和三星就開始瞄準(zhǔn)更先進(jìn)的制程。
據(jù)7月13日消息,臺(tái)灣媒體報(bào)道,臺(tái)積電沖刺先進(jìn)制程,在2nm研發(fā)有重大突破,已成功找到路徑,將切入環(huán)繞式柵極技術(shù)(gate-all-around,簡(jiǎn)稱GAA)技術(shù)。
根據(jù)臺(tái)積電的規(guī)劃,他們今年上半年就會(huì)量產(chǎn)5nm EUV工藝,下半年產(chǎn)能會(huì)提升到7-8萬片晶圓/月,今年的產(chǎn)能主要是供給蘋果和華為。臺(tái)積電的3nm工藝工藝今年也會(huì)啟動(dòng)建設(shè),三星更是搶先宣布了3nm GA
近日,中科院對(duì)外宣布,中國(guó)科學(xué)家研發(fā)出了新型垂直納米環(huán)柵晶體管,這種新型晶體管被視為2nm及一下工藝的主要技術(shù)候選。這意味著此項(xiàng)技術(shù)成熟后,國(guó)產(chǎn)2nm芯片有望成功“破冰”,意義重大。 目前最為先進(jìn)的
隨著高通驍龍865使用臺(tái)積電N7+工藝量產(chǎn),臺(tái)積電的7nm工藝又多了一個(gè)大客戶,盡管三星也搶走了一部分7nm EUV訂單,不過整體來看臺(tái)積電在7nm節(jié)點(diǎn)上依然是搶占了最多的客戶訂單,遠(yuǎn)超三星。 接下來
11月2日,全球第一大晶圓代工廠臺(tái)積電舉行了公司成立33周年慶典,董事長(zhǎng)、聯(lián)席CEO劉德音談到了臺(tái)積電的先進(jìn)工藝規(guī)劃,最先進(jìn)的2nm工藝也進(jìn)入了先導(dǎo)規(guī)劃中,明年則會(huì)量產(chǎn)5nm工藝。 劉德音談到了臺(tái)積電
在今天開幕的科技創(chuàng)新論壇會(huì)議上,臺(tái)積電研發(fā)負(fù)責(zé)人、技術(shù)研究副總經(jīng)理黃漢森除了探討未來半導(dǎo)體工藝延續(xù)到0.1nm的可能之外,還宣布了一個(gè)重要消息—;—;臺(tái)積電已經(jīng)啟動(dòng)2nm工藝研發(fā),預(yù)計(jì)四年后問世。 在
臺(tái)積電董事會(huì)已經(jīng)批準(zhǔn)了大約65億美元(折合人民幣460億元)的資本撥款投資,將用于新工藝研發(fā)與升級(jí)、新工廠建設(shè)與產(chǎn)能擴(kuò)充等等。 臺(tái)積電上個(gè)月曾披露,今年的資本支出總額將超過110億美元,高于早先預(yù)計(jì)的
臺(tái)積電董事會(huì)已經(jīng)批準(zhǔn)了大約65億美元(折合人民幣460億元)的資本撥款投資,將用于新工藝研發(fā)與升級(jí)、新工廠建設(shè)與產(chǎn)能擴(kuò)充等等。 臺(tái)積電上個(gè)月曾披露,今年的資本支出總額將超過110億美元,高于早先預(yù)計(jì)的
臺(tái)積電10納米量產(chǎn)目前已進(jìn)入量產(chǎn),2年后將進(jìn)入7納米,不到5年將進(jìn)入3納米、2納米。