臺(tái)積電準(zhǔn)備啟動(dòng)首臺(tái)EUV光刻機(jī)

時(shí)間：2011-09-11 09:01:54

關(guān)鍵字：臺(tái)積電 EUV光刻機(jī) BSP 節(jié)點(diǎn)

手機(jī)看文章

掃描二維碼
隨時(shí)隨地手機(jī)看文章

[導(dǎo)讀]臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司（“臺(tái)積電”）即將在兩周后啟動(dòng)首臺(tái)EUV光刻機(jī)。這表示臺(tái)積電的下一步將是評(píng)估用于生產(chǎn)下一代芯片的三種光刻機(jī)。臺(tái)積電納米成像部副總裁林本堅(jiān)表示：“臺(tái)積電是唯一一家

臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司（“臺(tái)積電”）即將在兩周后啟動(dòng)首臺(tái)EUV光刻機(jī)。這表示臺(tái)積電的下一步將是評(píng)估用于生產(chǎn)下一代芯片的三種光刻機(jī)。

臺(tái)積電納米成像部副總裁林本堅(jiān)表示：“臺(tái)積電是唯一一家愿意冒險(xiǎn)嘗試使用三種光刻機(jī)的企業(yè)。”

臺(tái)積電最近正在測(cè)試Mapper Lithography BV公司的電子束直寫系統(tǒng)的原型版并取得了不錯(cuò)的結(jié)果。臺(tái)積電打算在明年安裝KLA Tencor公司的電子束曝光機(jī)，林本堅(jiān)說(shuō)。

最后，臺(tái)積電只從中采用一種機(jī)器，或?qū)⑹状问褂迷?4nm節(jié)點(diǎn)上。林本堅(jiān)表示：“我們希望能在不到兩年的時(shí)間里決定出最好的一種。”

臺(tái)積電從ASML公司購(gòu)買了型號(hào)為3100的EUV光刻系統(tǒng)，于兩周后首度啟用。

工程師們已經(jīng)在EUV光刻技術(shù)上苦研多年，但光刻設(shè)備的生產(chǎn)能力至今仍遠(yuǎn)低于商業(yè)水平，而生產(chǎn)成本卻高于1.2億美元。林本堅(jiān)表示，他對(duì)電子束光刻系統(tǒng)寄予很高的期望，因?yàn)檫@種系統(tǒng)不需要用到面罩，因而降低了復(fù)雜性和成本。

上周，GlobalFoundries公司表示已購(gòu)買了ASML公司的3300系統(tǒng)，并于明年安裝。GlobalFoundries公司打算在20nm節(jié)點(diǎn)測(cè)試該系統(tǒng)，希望能用于14nm節(jié)點(diǎn)的商用芯片生產(chǎn)。

根據(jù)半導(dǎo)體貿(mào)易協(xié)會(huì)的數(shù)據(jù)顯示，臺(tái)灣是半導(dǎo)體資本設(shè)備的最大市場(chǎng)。臺(tái)灣今年的半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模有望達(dá)到106.2億美元，高于韓國(guó)的79.8億美元。（翻譯：Laven）

1 2

附原文：TSMC ready to flip the switch on EUV

TAIPEI – Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. will switch on its first extreme ultraviolet machine in two weeks. The milestone marks the next step in the foundry's goal of evaluating three competing lithography machines for making next-generation chips.