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[導(dǎo)讀]在22nm,或許是16nm節(jié)點(diǎn),我們將需要全新的晶體管。而在這其中,爭(zhēng)論的焦點(diǎn)在于究竟該采用哪一種技術(shù)。這場(chǎng)比賽將關(guān)乎到晶體管的重新定義。在22/20nm邏輯制程的開發(fā)中,業(yè)界都爭(zhēng)先恐后地推出各種新的晶體管技術(shù)。英特

在22nm,或許是16nm節(jié)點(diǎn),我們將需要全新的晶體管。而在這其中,爭(zhēng)論的焦點(diǎn)在于究竟該采用哪一種技術(shù)。這場(chǎng)比賽將關(guān)乎到晶體管的重新定義。在22/20nm邏輯制程的開發(fā)中,業(yè)界都爭(zhēng)先恐后地推出各種新的晶體管技術(shù)。英特爾柵極(tri-gate)元件已取得重大進(jìn)展。許多研究人員也正努力推動(dòng)FinFET元件的研究工作。而包括ARM在內(nèi)的多個(gè)主要的歐洲組織,以及美國的Globalfoundries則專注于研發(fā)完全耗盡型SOI(fully-depletedSOI,F(xiàn)DSOI)技術(shù)。不過,最近新創(chuàng)業(yè)者SuVolta和富士通也提出了另外一種嶄新的選擇。

晶體管設(shè)計(jì)會(huì)對(duì)所有下游的設(shè)計(jì)工作帶來深遠(yuǎn)影響──從制程設(shè)計(jì)到物理設(shè)計(jì)都包括在內(nèi),其涵蓋領(lǐng)域甚至包含了邏輯設(shè)計(jì)師在功率和時(shí)序收斂方面的權(quán)衡。

問題在哪里?

為何制程工程師們痛下決心革新晶體管設(shè)計(jì)?最簡(jiǎn)單的回答是短溝道效應(yīng)。不斷追逐摩爾定律(Moore‘sLaw)的結(jié)果是MOSFET溝道長(zhǎng)度不斷縮減。這種收縮提高了晶體管密度,以及其他的固定因素和開關(guān)速度等。但問題是,縮短這些溝道卻也帶來了諸多嚴(yán)重問題。針對(duì)這些問題,我們可以簡(jiǎn)單地歸納為:當(dāng)漏極愈接近源極,柵極便愈來愈難以夾斷(pinchoff)溝道電流(圖1)。這將導(dǎo)致亞閾值漏電流。

自90nm節(jié)點(diǎn)以來,這場(chǎng)對(duì)抗漏電流的戰(zhàn)役已經(jīng)持續(xù)許久。向全high-k/金屬柵極(HKMG)的轉(zhuǎn)移,讓柵極能在不讓漏電流失控的情況下更好地控制溝道電流。但到了22nm節(jié)點(diǎn),許多人認(rèn)為,平面MOSFET將輸?shù)暨@場(chǎng)戰(zhàn)役。目前還沒有辦法在足夠的性能條件下提供良好的漏電流控制?!癏KMG解決了柵極漏電流,”一位專家表示。“現(xiàn)在,我們必須解決溝道漏電流了?!?BR>
平面晶體管:又一次?

并非所有人都同意平面MOSFET將走入歷史。其中最主要的代表是臺(tái)積電,該公司2月起在20nm制程中采用平面晶體管。但此舉召來了許多強(qiáng)烈反對(duì),包括來自Globalfoundries的警告。設(shè)計(jì)人員對(duì)短溝道平面MOSFET的所有缺點(diǎn)都已經(jīng)很熟悉了??磥?,重新調(diào)整單元庫和硬IP模組還比較干脆。漏電流和閾值的變異或許會(huì)比在28nm時(shí)更糟,但設(shè)計(jì)師們現(xiàn)在有了更多可用工具,包括改進(jìn)過的電源管理、變異容錯(cuò)電路,以及統(tǒng)計(jì)時(shí)序分析等,都可協(xié)助他們應(yīng)對(duì)這些問題。而當(dāng)把所有問題端上臺(tái)面時(shí),代工廠必須知道,他們的主要客戶──FPGA供應(yīng)商、網(wǎng)絡(luò)IC巨擘,甚至包括ARM在內(nèi),會(huì)提出什么樣的問題。

不過,仍有許多人持懷疑態(tài)度?!芭_(tái)積電表示會(huì)在20nm節(jié)點(diǎn)使用替換性金屬柵極(replacement-metal-gate)平面制程,”Novellus公司副總裁GirishDixit觀察道,“但這個(gè)決定可能已經(jīng)改變。HKMG可以控制漏電流,但平面晶體管仍然具有I-on/I-off特征缺陷。”若臺(tái)積電的早期采用者發(fā)現(xiàn)自己因?yàn)槠矫婢w管而處于競(jìng)爭(zhēng)劣勢(shì),他們可能會(huì)逼迫這家代工巨擘改采FinFET半節(jié)點(diǎn)。而這種對(duì)峙態(tài)勢(shì)也可能出現(xiàn)在移動(dòng)市場(chǎng),在這個(gè)領(lǐng)域,ARM的無晶圓硅晶伙伴們將面臨來自英特爾采用最新22nm三柵極Atom處理器的競(jìng)爭(zhēng)。

Fin的崛起

有關(guān)下一代晶體管的爭(zhēng)論已經(jīng)持續(xù)了10年之久,但英特爾在五月宣布的22nm三柵極制程象征著新晶體管技術(shù)的一大進(jìn)展。不過,英特爾的大動(dòng)作或許是為了回應(yīng)ARM在移動(dòng)領(lǐng)域的快速擴(kuò)張態(tài)勢(shì),而非完全著重在原先對(duì)新晶體管技術(shù)的電路設(shè)計(jì)、大幅降低訊號(hào)雜訊的討論范疇之中。
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