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[導(dǎo)讀] (全球TMT2021年12月2日訊)新思科技(Synopsys, Inc.)近日宣布,其完整的EDA流程已獲得三星全新4LPP(4納米低功耗+)工藝認(rèn)證。4LPP工藝是三星獨(dú)特FinFET技術(shù)的全新實(shí)施工藝,能夠提升SoC芯片密度、性能和功耗,為當(dāng)前高需求的應(yīng)用(包括高性能計算...

(全球TMT2021年12月2日訊)新思科技(Synopsys, Inc.)近日宣布,其完整的EDA流程已獲得三星全新4LPP(4納米低功耗+)工藝認(rèn)證。4LPP工藝是三星獨(dú)特FinFET技術(shù)的全新實(shí)施工藝,能夠提升SoC芯片密度、性能和功耗,為當(dāng)前高需求的應(yīng)用(包括高性能計算、AI和5G基礎(chǔ)設(shè)施)提供支持。

新思科技完整EDA流程率先獲得三星4LPP工藝認(rèn)證

經(jīng)三星4LPP工藝認(rèn)證的新思科技解決方案包括完整的數(shù)字、模擬、混合信號實(shí)施以及簽核流程。此外,新思科技與三星的合作還包括在三星多裸晶芯片集成(MDI™)?流程中采用新思科技3DIC Compiler解決方案,MDI流程已經(jīng)在4LPP技術(shù)上得到了驗(yàn)證。3DIC Compiler是完整覆蓋從初步規(guī)劃到簽核的3D解決方案,可處理包含數(shù)千億晶體管的復(fù)雜性,并推動功耗、性能和面積(PPA)方面的優(yōu)化。新思科技同時在開發(fā)面向4LPP工藝的DesignWare? 基礎(chǔ)IP和接口IP的產(chǎn)品組合,為開發(fā)者在該工藝上開發(fā)的芯片提供低延遲、高帶寬和低功耗解決方案。

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