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[導讀]為繼續(xù)增進大家對太陽能電池片制作流程的認識,本文將對太陽能電池片制作流程中的去磷硅玻璃、等離子刻蝕及酸洗、鍍減反射膜、絲網(wǎng)印刷這幾個環(huán)節(jié)予以介紹。

太陽能電池因其綠色環(huán)保的特性,廣受大眾青睞??梢哉f,太陽能電池是現(xiàn)在以及未來的主要電池類型之一。上篇文章中,小編對太陽能電池片的部分制作流程有所闡述。為繼續(xù)增進大家對太陽能電池片制作流程的認識,本文將對太陽能電池片制作流程中的去磷硅玻璃、等離子刻蝕及酸洗、鍍減反射膜、絲網(wǎng)印刷這幾個環(huán)節(jié)予以介紹。如果你對太陽能電池抑或太陽能電池片具有興趣,不妨繼續(xù)往下閱讀哦。

一、去磷硅玻璃

該工藝用于太陽能電池片生產(chǎn)制造過程中,通過化學腐蝕法也即把硅片放在氫氟酸溶液中浸泡,使其產(chǎn)生化學反應生成可溶性的絡和物六氟硅酸,以去除擴散制結(jié)后在硅片表面形成的一層磷硅玻璃。在擴散過程中,POCL3與O2反應生成P2O5淀積在硅片表面。P2O5與Si反應又生成SiO2和磷原子,

這樣就在硅片表面形成一層含有磷元素的SiO2,稱之為磷硅玻璃。去磷硅玻璃的設備一般由本體、清洗槽、伺服驅(qū)動系統(tǒng)、機械臂、電氣控制系統(tǒng)和自動配酸系統(tǒng)等部分組成,主要動力源有氫氟酸、氮氣、壓縮空氣、純水,熱排風和廢水。氫氟酸能夠溶解二氧化硅是因為氫氟酸與二氧化硅反應生成易揮發(fā)的四氟化硅氣體。若氫氟酸過量,反應生成的四氟化硅會進一步與氫氟酸反應生成可溶性的絡和物六氟硅酸。

二、等離子刻蝕

由于在擴散過程中,即使采用背靠背擴散,硅片的所有表面包括邊緣都將不可避免地擴散上磷。PN結(jié)的正面所收集到的光生電子會沿著邊緣擴散有磷的區(qū)域流到PN結(jié)的背面,而造成短路。因此,必須對太陽能電池周邊的摻雜硅進行刻蝕,以去除電池邊緣的PN結(jié)。通常采用等離子刻蝕技術完成這一工藝。等離子刻蝕是在低壓狀態(tài)下,反應氣體CF4的母體分子在射頻功率的激發(fā)下,產(chǎn)生電離并形成等離子體。等離子體是由帶電的電子和離子組成,反應腔體中的氣體在電子的撞擊下,除了轉(zhuǎn)變成離子外,還能吸收能量并形成大量的活性基團?;钚苑磻鶊F由于擴散或者在電場作用下到達SiO2表面,在那里與被刻蝕材料表面發(fā)生化學反應,并形成揮發(fā)性的反應生成物脫離被刻蝕物質(zhì)表面,被真空系統(tǒng)抽出腔體。

三、鍍減反射膜

拋光硅表面的反射率為35%,為了減少表面反射,提高電池的轉(zhuǎn)換效率,需要沉積一層氮化硅減反射膜。工業(yè)生產(chǎn)中常采用PECVD設備制備減反射膜。PECVD即等離子增強型化學氣相沉積。它的技術原理是利用低溫等離子體作能量源,樣品置于低氣壓下輝光放電的陰極上,利用輝光放電使樣品升溫到預定的溫度,然后通入適量的反應氣體SiH4和NH3,氣體經(jīng)一系列化學反應和等離子體反應,在樣品表面形成固態(tài)薄膜即氮化硅薄膜。一般情況下,使用這種等離子增強型化學氣相沉積的方法沉積的薄膜厚度在70nm左右。這樣厚度的薄膜具有光學的功能性。利用薄膜干涉原理,可以使光的反射大為減少,電池的短路電流和輸出就有很大增加,效率也有相當?shù)奶岣摺?

四、絲網(wǎng)印刷

太陽電池經(jīng)過制絨、擴散及PECVD等工序后,已經(jīng)制成PN結(jié),可以在光照下產(chǎn)生電流,為了將產(chǎn)生的電流導出,需要在電池表面上制作正、負兩個電極。制造電極的方法很多,而絲網(wǎng)印刷是制作太陽電池電極最普遍的一種生產(chǎn)工藝。絲網(wǎng)印刷是采用壓印的方式將預定的圖形印刷在基板上,該設備由電池背面銀鋁漿印刷、電池背面鋁漿印刷和電池正面銀漿印刷三部分組成。其工作原理為:利用絲網(wǎng)圖形部分網(wǎng)孔透過漿料,用刮刀在絲網(wǎng)的漿料部位施加一定壓力,同時朝絲網(wǎng)另一端移動。油墨在移動中被刮刀從圖形部分的網(wǎng)孔中擠壓到基片上。由于漿料的粘性作用使印跡固著在一定范圍內(nèi),印刷中刮板始終與絲網(wǎng)印版和基片呈線性接觸,接觸線隨刮刀移動而移動,從而完成印刷行程。

以上便是此次小編帶來的“太陽能電池”相關內(nèi)容,通過本文,希望大家對太陽能電池片制作流程具備一定的了解。如果你喜歡本文,不妨持續(xù)關注我們網(wǎng)站哦,小編將于后期帶來更多精彩內(nèi)容。最后,十分感謝大家的閱讀,have a nice day!

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