日經(jīng)新聞26日報導,日本山形大學時任靜士等教授已成功研發(fā)出一套可藉由印刷的方式來制造OLED面板驅(qū)動元件( 電晶體 )的新技術。報導指出,藉由利用該新技術,則只要結合作為發(fā)光體的有機化合物和塑膠制面板,則OLED面
Intel透露今年預計推出的Ivy Bridge將采用全新22nm的3D硅晶體技術,并且在接下來將進展到14nm,乃至于之后于2016年間也預計推出采用11nm制程的 “Skymont”平臺。而看起來IBM也將不甘落后,目前官方宣布已
電路的功能在光接收電路中,如果外來光引起誤動作,可靠性就會下降。用脈沖式發(fā)光,可作成能識別平均外來光和脈沖波的電路。輸出不僅有導通、截止狀態(tài),還有與驅(qū)動頻率相同的脈沖串輸出。電路工作原理流過光電晶體管
晶片微小化要幾奈米才夠看?英特爾今年量產(chǎn)22奈米元件,臺積電三年內(nèi)轉(zhuǎn)進14奈米世代,而國研院國家奈米元件實驗室于今(6)日更發(fā)表,導入銀、鍺兩種新元件材料,內(nèi)建矽基太陽能電池元件,做為未來綠能的10奈米元件世代
連于慧/臺北 全球半導體產(chǎn)業(yè)奉為圭臬的摩爾定律(Moore’s Law)發(fā)展雖有面臨瓶頸的挑戰(zhàn),然目前半導體業(yè)者仍積極發(fā)展新材料,并在制程微縮上加緊腳步,國研院國家奈米元件實驗室便表示,「三角型鍺鰭式電晶體」技術可
美國半導體研發(fā)聯(lián)盟機構Semiconductor Research (SRC)與康乃爾大學(Cornell University)合作發(fā)表一種微機電系統(tǒng)(MEMS)電晶體,并可提供給SRC聯(lián)盟成員采用,做為 CMOS 晶片上的時序(timing)解決方案。 這種 MEMS-JFE
晶片微小化要幾奈米才夠看?英特爾今年量產(chǎn)22奈米元件,臺積電三年內(nèi)轉(zhuǎn)進14奈米世代,而國研院國家奈米元件實驗室于今(6)日更發(fā)表,導入銀、鍺兩種新元件材料,內(nèi)建矽基太陽能電池元件,做為未來綠能的10奈米元件世
混合信號IC的現(xiàn)身要追溯自1980年代,而此技術的出發(fā)點當然也不出這數(shù)十年來半導體產(chǎn)業(yè)所追求的目標,亦即「小」。將類比和數(shù)位電路「混合」在一起,自然就能達到縮減占板空間的效用。隨著混合信號技術的不斷進展,此
晶圓代工大廠臺積電(TSMC)資深研發(fā)副總裁蔣尚義(Shang-Yi Chiang)在日前于美國舉行的ARM技術論壇(TechCon)上表示,在接下來十年以FinFET技術持續(xù)進行半導體制程微縮的途徑是清晰可見的,可直達 7奈米節(jié)點;但在 7奈米
據(jù)美國物理學家組織網(wǎng)近日報道,美國科學家們正在研制一種新的計算機存儲設備——鐵電晶體管隨機存取存儲器(FeTRAM),其將比現(xiàn)在的商用存儲設備更快捷,且比占主流的閃存能耗更低。研究發(fā)表在美國化學學會
近日消息,據(jù)外媒報道,在美國加州舉行的IEEE定制積體電路大會(CICC)一場專題演講上有這樣一種看法:CMOS半導體技術將在2024年7nm制程時代面臨窘境,而石墨烯可望脫穎而出,成為用來取代這項技術的最佳選擇。美國喬治
CMOS半導體技術將在2024年7nm制程時代面臨窘境,而石墨烯可望脫穎而出,成為用來取代這項技術的最佳選擇──這是根據(jù)近日于美國加州舉行的IEEE定制積體電路大會(CICC)一場專題演講上所發(fā)表的看法?!甘┮呀?jīng)展現(xiàn)出
CMOS半導體技術將在2024年7nm制程時代面臨窘境,而石墨烯可望脫穎而出,成為用來取代這項技術的最佳選擇──這是根據(jù)近日于美國加州舉行的IEEE定制積體電路大會(CICC)一場專題演講上所發(fā)表的看法。「石墨烯已經(jīng)展現(xiàn)出
林凱文/綜合外電 英特爾(Intel)于13日舉行的科技論壇(Intel Developer Forum;IDF)中展示其3D電晶體制程技術,并指出該公司于研發(fā)新制程方面領先眾對手近3年。 英特爾資深研究員Mark Bohr指出,在該公司導入應變
加拿大納米技術研究所(National Institute for Nanotechnology, NINT)和阿爾伯塔大學的研究團隊證實利用微波爐可以創(chuàng)建制造模具,用來生產(chǎn)更小更復雜的晶片,降低制造納米級電晶體的生產(chǎn)成本。根據(jù)國際半導體技術準則
在22nm,或許是16nm節(jié)點,我們將需要全新的電晶體。而在這其中,爭論的焦點在于究竟該采用哪一種技術。這場比賽將關乎到電晶體的重新定義。在22/20nm邏輯制程的開發(fā)中,業(yè)界都爭先恐后地推出各種新的電晶體技術。英特
【大紀元2011年07月18日訊】(大紀元記者王明編譯報導)隨著半導體生產(chǎn)技術日益精密,電子產(chǎn)品的體積越縮越小,未來將達到現(xiàn)在技術無法達到的地步。全球晶片制造設備主要供應商應用材料公司(Applied Materials),最
英特爾(Intel)宣布其電晶體演進的重大突破,電晶體乃是現(xiàn)代電子產(chǎn)品中十分微小的基礎元件。自從矽電晶體在50年前發(fā)明以來,首度采用三維(3D)立體結構的電晶體即將邁入量產(chǎn)。英特爾于2002年首次公開命名為Tri-Gate的革
半導體電晶體結構將正式由平面式進入三維(3D)時代。英特爾(Intel)5日宣布將于22奈米制程處理器(內(nèi)部代號為Ivy Bridge)中,首度采用3D結構的電晶體設計,除電晶體整合密度更甚以往,效能顯著提升外,由于可在更低電壓
陳玉娟/臺北 英特爾(Intel)正式宣布電晶體演進的重大突破,同時也是處理器歷史性的創(chuàng)新,全球首款立體3閘(Tri-Gate)電晶體將進入量產(chǎn)階段,并將維持科技演進的步伐,于未來繼續(xù)推動摩爾定律,預計在2012年底正式登場