摩爾定律最后一只攔路虎已被清除?
該公司聲稱(chēng),其超晶格增強(qiáng)了通道平面內(nèi)的載流子遷移率,同時(shí)阻止與芯片平面垂直的門(mén)泄漏。ICInsights公司技術(shù)副總裁TrevorYancey表示:“它們將單層放下來(lái),有些層傳導(dǎo)性很強(qiáng),但它們輪流交替阻擋垂直方向上流動(dòng)的電流,因此緩解了門(mén)泄漏?!?BR>
Mears聲稱(chēng)其超晶格在晶體管通道生長(zhǎng)期間,僅用額外的幾個(gè)步驟即可被添加到現(xiàn)有的CMOS工藝內(nèi)。
半導(dǎo)體技術(shù)藍(lán)圖試圖匯總芯片制造資源來(lái)解決阻礙摩爾定律發(fā)展的問(wèn)題。Semico的Marshall表示:“在應(yīng)變硅之前前景黯淡,沒(méi)有人能預(yù)見(jiàn)如何保持性能同時(shí)降低功耗?!睉?yīng)變硅減少了有效的電子質(zhì)量,因此增加了遷移率,使過(guò)渡到65納米成為可能。絕緣硅也在65納米節(jié)點(diǎn),通過(guò)電氣絕緣的相鄰器件和創(chuàng)新器件布局,增強(qiáng)了CMOS電路性能。但應(yīng)變硅和絕緣硅技術(shù)都沒(méi)有解決門(mén)泄漏問(wèn)題,采用高K介電質(zhì)甚至金屬門(mén)或許有可能緩解這一問(wèn)題。
Mears即將上任的CEONeilVasant表示:“我們的技術(shù)能被增添到應(yīng)變硅、絕緣硅或者甚至是體CMOS,其它技術(shù)可以在未來(lái)5年或10年內(nèi)隨著生產(chǎn)準(zhǔn)備就緒,與我們的技術(shù)一起交相輝映?!?