利用普林斯頓大學(xué)電機(jī)工程師周郁(Stephen Chou)發(fā)明的一種新式裂紋誘導(dǎo)(fracture-induced)構(gòu)造工藝來生產(chǎn)電路圖案模具，納米壓印光刻可能得到簡化。作為納米壓印光刻設(shè)備制造商N(yùn)anonex Corp.的創(chuàng)始人，周郁期望他的最新發(fā)現(xiàn)能夠最終降低生產(chǎn)納米壓印模具的成本。

目前，納米壓印光刻的模具是利用最先進(jìn)的工藝制作的，如電子束和離子束，或者利用浸筆(dip－pen)工藝用光刻膠“畫”線。這些方法的速度很慢，每次只能在一小塊面積上制作圖案，但人們認(rèn)為值得在這上面花些時(shí)間，因?yàn)橹灰龀瞿０?，就能反?fù)使用，在許多位置上形成精細(xì)的圖案。

但是，據(jù)稱周郁的裂紋誘導(dǎo)制圖方法不僅簡單快捷，而且能夠在較大的面積上制作圖案。周郁表示：“我們把熔化的聚合物放在兩個(gè)金屬板之間，當(dāng)把它們掰開時(shí)，它就裂成規(guī)則的線條圖案，其線距符合該聚合物的厚度。”

周郁帶領(lǐng)的小組成功地利用這種方法做出了光柵，面積以平方厘米計(jì)算，而不是象過去的方法那樣以平方毫米甚至更小的單位計(jì)算。另外，研究人員預(yù)測(cè)，利用新工藝最終也可能在更大的面積上制作圖案。

“結(jié)果得到兩個(gè)互補(bǔ)的光柵，每個(gè)金屬板上有一個(gè)，”他表示，“迄今我們?cè)囼?yàn)了從13納米到40微米的各種厚度，獲得了從60納米到數(shù)百微米的半間距(half pitch)。

在試驗(yàn)了幾種不同的聚合物之后，研究人員發(fā)現(xiàn)，聚合物薄膜的厚度與隨后形成的線跡半間距有關(guān)，后者大約是兩塊金屬板之間的聚合物厚度的四倍。

周郁表示：”聚合物薄膜厚度與光柵線間距之間存在嚴(yán)格的關(guān)系，這是非常幸運(yùn)的事情，因?yàn)槿菀滓院芨叩木葋砜刂?strong>薄膜的厚度。”研究人員下一步計(jì)劃制作更細(xì)的線距光柵來測(cè)試新工藝所能達(dá)到的最精細(xì)水平。

普林斯頓大學(xué)為新工藝申請(qǐng)了專利，并將授權(quán)給Nanonex用于商業(yè)用途。