[導(dǎo)讀]巴斯夫創(chuàng)造出一種先進的電鍍銅化學(xué)品,可滿足現(xiàn)今及未來芯片科技的需求。巴斯夫與IBM于2007年6月開始這一聯(lián)合開發(fā)項目,這項創(chuàng)新的化學(xué)品解決方案是其直接成果。這種解決方案的表現(xiàn)超越了市場上現(xiàn)有的其它化學(xué)品。
巴斯夫創(chuàng)造出一種先進的電鍍銅化學(xué)品,可滿足現(xiàn)今及未來芯片科技的需求。巴斯夫與IBM于2007年6月開始這一聯(lián)合開發(fā)項目,這項創(chuàng)新的化學(xué)品解決方案是其直接成果。這種解決方案的表現(xiàn)超越了市場上現(xiàn)有的其它化學(xué)品。
兩家公司正擴展他們的合作計劃,以確定量產(chǎn)所需的參數(shù)。相關(guān)的技術(shù)、化學(xué)品和材料預(yù)計可于2010年中期上市供應(yīng)。
巴斯夫全球電子材料業(yè)務(wù)部研發(fā)部門的資深經(jīng)理兼該項目負責人DieterMayer表示:“我們?yōu)檫@一創(chuàng)新的化學(xué)品感到興奮無比。巴斯夫與IBM團隊選擇了一種新的方式,通過對于沉積銅物理特性的了解來設(shè)計分子添加劑系統(tǒng)。利用巴斯夫與IBM強大的資源,我們已經(jīng)克服了在電鍍銅方面的主要挑戰(zhàn),朝著制造更小、更快、更可靠芯片的目標又邁進了一步。”
實現(xiàn)無缺陷的電導(dǎo)線沉積是成功沉積銅工藝最關(guān)鍵的條件。在電鍍銅沉積工藝中,傳統(tǒng)的等向性充填(conformalfill) 會在形體的上、下、外圍產(chǎn)生同樣的銅沉積率,形成接縫及缺陷。通過采用巴斯夫的化學(xué)品可以實現(xiàn)快速的充填,一般稱為“超填孔(superfill)”,可以將銅快速的充填至細小的通孔及溝槽,制造出無缺陷的銅導(dǎo)線。通過超填充的方式,底部的銅沉積率會比頂部及外圍更高。
銅導(dǎo)線可顯著改善芯片效能,這種高傳導(dǎo)性金屬的沉積是建構(gòu)多層互連結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵性工藝。時下最先進的芯片技術(shù)被稱為32納米技術(shù)節(jié)點,而下一代的22納米技術(shù)預(yù)期將于2011年推出。當芯片尺寸越來越小,互連結(jié)構(gòu)日趨復(fù)雜,要制造出高性能的芯片就更需要專門的化學(xué)知識。同時,純熟完善的化學(xué)工藝解決方案也是必不可少的。
巴斯夫的電鍍銅化學(xué)品已經(jīng)可以應(yīng)用在32納米和22納米的芯片技術(shù)中,能明顯改善芯片銅導(dǎo)線的可靠性,提升芯片的性能和質(zhì)量。
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