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[導(dǎo)讀]東芝在半導(dǎo)體制造技術(shù)相關(guān)國際會(huì)議“2010 Symposium on VLSI Technology”上宣布,其與日本CovalentMaterials、美國Tier Logic Inc.以及TeiTechnology共同在CMOS邏輯電路上以非晶硅TFT技術(shù)實(shí)現(xiàn)了SRAM的三維積層,即“

東芝在半導(dǎo)體制造技術(shù)相關(guān)國際會(huì)議“2010 Symposium on VLSI Technology”上宣布,其與日本CovalentMaterials、美國Tier Logic Inc.以及TeiTechnology共同在CMOS邏輯電路上以非晶硅TFT技術(shù)實(shí)現(xiàn)了SRAM的三維積層,即“三維FPGA”(3DFPGA)(論文編號(hào):21.1)。

現(xiàn)有的FPGA,其用戶邏輯(UserLogic)用邏輯電路和線路布局(Configuration)用SRAM采用二維排列結(jié)構(gòu)。而3D-FPGA,是以非晶硅TFT技術(shù)形成線路布局SRAM,并積層在已形成用戶邏輯用邏輯電路的9層銅布線CMOS芯片上。據(jù)稱,由此可將FPGA的芯片面積縮小至現(xiàn)有產(chǎn)品的一半左右。東芝表示,“有望實(shí)現(xiàn)與半導(dǎo)體制造技術(shù)推進(jìn)兩代相當(dāng)?shù)某杀鞠鳒p效果”。

據(jù)稱,設(shè)備廠商可以利用3D FPGA,在不變更LSI設(shè)計(jì)的情況下過渡至系統(tǒng)(Cell Base)LSI。其方法是采用3DFPGA進(jìn)行試制,待設(shè)計(jì)確定后,只將該3DFPGA中形成線路布局用SRAM的非晶硅TFT部分替換為掩模ROM即可,無需重新設(shè)計(jì)便可獲得系統(tǒng)LSI。

此次,東芝等試制了在利用90nm工藝9層銅布線技術(shù)的底層上,層積了非晶硅TFT技術(shù)的26Mbit SRAM芯片。此次試制芯片在底層雖使用了90nm工藝的CMOS技術(shù),“但預(yù)計(jì)可以微細(xì)化至40nm工藝”(東芝)。(記者:大石 基之)

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