Molecular Imprints 獲提供先進(jìn)光刻機(jī)和薄片圖案形成服務(wù)的合約，為 G450c 計(jì)劃提供支援
Molecular Imprints 獲領(lǐng)先 IC 制造商授予首個(gè)450毫米光刻系統(tǒng)訂單
德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞洲/ — 奈米圖案系統(tǒng)和解決方案的市場和技術(shù)領(lǐng)先商 Molecular Imprints, Inc. 今天宣布，該公司已從一家領(lǐng)先的 IC 制造商處獲得了一份合約，打造行業(yè)首個(gè) 450毫米 光刻系統(tǒng)。 此次購買包括一項(xiàng)多年期薄片圖案形成服務(wù)合約以及其它450毫米奈米壓印系統(tǒng)的選擇權(quán)。Molecular Imprints 的專有 Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) 技術(shù)以及優(yōu)質(zhì) 壓印掩膜 的商業(yè)推出是選擇該公司作為行業(yè)向450毫米晶圓過渡中堅(jiān)力量的決定因素。



Molecular Imprints 總裁兼首席執(zhí)行官 Mark Melliar-Smith 表示：“半導(dǎo)體設(shè)備和制造商供應(yīng)鏈必須及早獲得完全圖案化的優(yōu)質(zhì)450毫米晶圓，及時(shí)開發(fā)和優(yōu)化其產(chǎn)品和工藝，以實(shí)現(xiàn)過渡。除了更大的基板尺寸之外，晶圓上日益增加的小設(shè)備功能必須能夠一直應(yīng)用到未來，用作原始設(shè)備制造商和工藝開發(fā)工具。我們的 J-FIL? 技術(shù)是現(xiàn)在唯一的光刻解決方案，可滿足行業(yè)向450毫米過渡的廣泛需求。我們期待利用我們的能力在所要求的設(shè)計(jì)規(guī)則下及時(shí)實(shí)現(xiàn)向450毫米的過渡?！?br>

鑒于193i 光刻技術(shù)已被強(qiáng)制采用復(fù)雜的復(fù)式圖案制程來制作如今的半導(dǎo)體，極遠(yuǎn)紫外光刻 (EUV) 又不知何時(shí)可以啟用，MII 的 J-FIL 技術(shù)被用于啟動(dòng)向450毫米的過渡就不足為奇了。J-FIL 已展示了刻線邊緣粗糙度 (<2nm LER, 3 sigma) 和臨界尺寸均勻性 (1.2nm CDU, 3 sigma) 不同尋常的24奈米圖案結(jié)構(gòu)，可擴(kuò)展至小于18奈米，使用簡單的單一圖案工藝。J-FIL 通過避免高耗電 x 射線光源、復(fù)雜的光學(xué)透鏡和鏡子以及尚未開發(fā)的超靈敏光致抗蝕劑實(shí)現(xiàn)的內(nèi)在擁有成本優(yōu)勢使其非常符合450毫米計(jì)劃重要的生產(chǎn)力目標(biāo)。

作為該450毫米合約的一部分，Molecular Imprints 將于明年下半年開始提供光刻系統(tǒng)和后來的晶圓服務(wù)。五年期晶圓服務(wù)合約需要向 G450C 聯(lián)盟提供數(shù)千個(gè)完全圖案化的450毫米晶圓，并可選擇按需購買其它 J-FIL 壓印系統(tǒng)。

Molecular Imprints, Inc. 簡介

Molecular Imprints, Inc. (MII) 是半導(dǎo)體和硬碟 (HDD) 行業(yè)高解析度及低擁有成本奈米圖案系統(tǒng)和解決方案的技術(shù)領(lǐng)先商。MII 將利用其擁有 IntelliJet? 材料應(yīng)用的創(chuàng)新 Jet and Flash? Imprint Lithography (J-FIL?) 技術(shù)成為儲存和快閃記憶體設(shè)備高量圖案形成解決方案的全球市場和技術(shù)領(lǐng)先商，同時(shí)推動(dòng)新興市場的顯示器、清潔能源、生物技術(shù)等行業(yè)。MII 通過提供價(jià)格適中、相容且可擴(kuò)展至小于10奈米解析度水準(zhǔn)的全方位奈米圖案解決方案促進(jìn)奈米刻度圖案的形成。諮詢詳情或在 twitter 上參閱該公司，請參訪： www.molecularimprints.com。