國(guó)家集成電路創(chuàng)新中心將主導(dǎo)中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖的制定
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中新網(wǎng)10月18日消息,上海舉辦了“2019中國(guó)(上海)集成電路創(chuàng)新峰會(huì)”此次大會(huì)旨在通過專業(yè)研討,總結(jié)中國(guó)集成電路發(fā)展所取得的重大成就和成功經(jīng)驗(yàn),分析比較與先進(jìn)地區(qū)、與國(guó)際先進(jìn)水平的差距,科學(xué)研判集成電路技術(shù)、產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢(shì)方向,探討在建設(shè)科技強(qiáng)國(guó)的征途中,集成電路作為國(guó)之重器如何通過加強(qiáng)合作與自主發(fā)展,實(shí)現(xiàn)在技術(shù)上、產(chǎn)業(yè)上不被“卡脖子”,更好地服務(wù)國(guó)家戰(zhàn)略,為推動(dòng)上海集成電路更好地發(fā)展提供智力支持,與會(huì)專家透露,上海市將牽頭制定“中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖”(下稱“路線圖”),去年在上海揭牌的國(guó)家集成電路創(chuàng)新中心將主導(dǎo)路線圖制定。
根據(jù)復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院院長(zhǎng)、國(guó)家集成電路創(chuàng)新中心總經(jīng)理張衛(wèi)介紹,路線圖包括六大部分,分別是集成電路制造技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì)、先進(jìn)光刻工藝發(fā)展趨勢(shì)、邏輯工藝技術(shù)、存儲(chǔ)器技術(shù)、超越摩爾特制化技術(shù)、第三代功率半導(dǎo)體技術(shù)。
張衛(wèi)表示,路線圖借鑒了ITRS模式,并將結(jié)合中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)實(shí)際,嘗試預(yù)測(cè)中國(guó)集成電路技術(shù)發(fā)展的路徑選擇和規(guī)劃周期,最終為產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供幫助。
ITRS即美國(guó)半導(dǎo)體協(xié)會(huì)于1992年編寫的半導(dǎo)體技術(shù)路線圖,累計(jì)發(fā)布9個(gè)版本,對(duì)國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展起到了重要的指導(dǎo)作用。
張衛(wèi)強(qiáng)調(diào),編制路線圖是一種嘗試,通過路線圖試圖明確未來集成電路產(chǎn)業(yè)技術(shù)發(fā)展的目標(biāo)、方向、重點(diǎn)、關(guān)鍵問題和時(shí)間節(jié)點(diǎn)等。