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[導(dǎo)讀]硅器件彌補(bǔ)性能差距盡管砷化鎵有上述公認(rèn)的缺點(diǎn),但與硅器件相比其卓越的噪聲系數(shù)和三階截取(IP3)線性度會勝過這些不足。然而,隨著當(dāng)今新技術(shù)發(fā)展的優(yōu)勢逐漸克服傳統(tǒng)的局限

硅器件彌補(bǔ)性能差距

盡管砷化鎵有上述公認(rèn)的缺點(diǎn),但與硅器件相比其卓越的噪聲系數(shù)和三階截取(IP3)線性度會勝過這些不足。然而,隨著當(dāng)今新技術(shù)發(fā)展的優(yōu)勢逐漸克服傳統(tǒng)的局限,硅器件已經(jīng)是GaAs較強(qiáng)的競爭對手,可以提供更經(jīng)濟(jì)和更可靠的解決方案。

IDT公司的F2912等新一代RF開關(guān)采用SOI技術(shù),可以在或靠近PA裝配線的非常高的溫度環(huán)境下可靠地工作。這些新的硅基開關(guān)在溫度高達(dá)+120℃時仍具有卓越的性能(0.4dB插入損耗,+65dBm IP3,60dB隔離度)。

 

 

類似于IDT F1240等新一代硅中頻(IF)可變增益放大器通過集成FlatNoise 技術(shù)已經(jīng)使信噪比(SNR)實(shí)現(xiàn)了突破性改進(jìn)。 即使在增益降低時,F(xiàn)latNoise技術(shù)可確保噪聲系數(shù)保持很低(圖2b)。而過去,伴隨著增益每1dB的降低,工程師就不得不接受1dB噪聲系數(shù)的降低。其結(jié)果是,該系統(tǒng)的SNR可以實(shí)現(xiàn)最多2dB的改善,同時仍然保持非常高的線性度。

 

 

線性度是最近在硅器件中得到顯著改善的另一個重要參數(shù)。 IDT公司的F0480硅基RF VGA采用了全新的Zero-DistortionTM(零失真)技術(shù),能夠?qū)崿F(xiàn)大于40dBm的OIP3,2000MHz帶寬,以及在只有100 mA靜態(tài)電流下的23dB調(diào)整范圍??傮w而言,提高VGA的線性度和帶寬使設(shè)計師在實(shí)現(xiàn)接收系統(tǒng)時具有更高的靈活性。

 

 

IDT公司通過開發(fā)Glitch-Free(無干擾)技術(shù)還克服了一個影響數(shù)字步進(jìn)衰減器的重要缺陷。Glitch-Free技術(shù)降低了眾所周知發(fā)生在MSB態(tài)從10dB轉(zhuǎn)變到0.5dB時出現(xiàn)的瞬態(tài)過沖。在發(fā)射器等精密電平設(shè)置環(huán)境下,該技術(shù)可確保增益平滑地過渡到相鄰的設(shè)置。從歷史經(jīng)驗(yàn)看,較大的10dB干擾(glitch)已經(jīng)能夠損害下游的功率放大器。此外,傳統(tǒng)的DSA需要很長的時間實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定,這可降低時域雙工(TDD)系統(tǒng)的處理性能(turnaround performance)。通過近乎消除這種過沖,Glitch-Free技術(shù)顯著提高了系統(tǒng)的可靠性,并允許實(shí)現(xiàn)更靈活的TDD系統(tǒng)。

結(jié)論

GaAs放大器和開關(guān)所特有的高線性度和良好的噪聲特性使得這項技術(shù)成為以往高性能射頻設(shè)備設(shè)計師的默認(rèn)選擇。盡管硅基器件在可靠性、集成度和成本等方面有優(yōu)秀表現(xiàn),但GaAs在某些方面的優(yōu)良性能使其建立了先入為主的市場地位。最近,硅基器件的可靠性、集成度和成本因素變得越來越重要,使人們對于硅器件重新產(chǎn)生了興趣。由于采用了SOI、Zero-Distortion、Glitch-Free和其他新技術(shù),硅基器件在噪聲性能和線性度方面有了很大改進(jìn),這種技術(shù)目前已經(jīng)是一個非常有吸引力的替代砷化鎵方案。

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