眾所周知，芯片是事關國家核心競爭力的重要產(chǎn)業(yè)，也是中國實現(xiàn)偉大復興的一道坎。沒有芯片話語權我國的科技行業(yè)就會受到很大的牽制，產(chǎn)業(yè)升級戰(zhàn)略就無法推進。

這兩年受美國打壓華為的警醒，國內加強了對芯片領域的布局，并提出了到2025年實現(xiàn)芯片自主化70%的目標。

目前我國每年進口的芯片超過3000億美元，如果國產(chǎn)芯片能滿足70%的需求，那就能省2000億美元左右的外匯，不僅有產(chǎn)業(yè)的戰(zhàn)略意義，經(jīng)濟效益也非?？捎^。

因此國內各行各業(yè)對芯片領域難得的團結一致，共同推進國產(chǎn)芯片上下游產(chǎn)業(yè)鏈的布局。

在科研和人才培養(yǎng)方面，包括清華、北大、華中科大等一批頂尖大學紛紛成立了集成電路學院，一方面集中高校的科研力量和資源向芯片產(chǎn)業(yè)鏈攻關，另一方面也能夠為國內芯片企業(yè)培養(yǎng)人才，做到產(chǎn)學研的良好結合。

作為手機數(shù)碼的核心零件，芯片的重要性不言而喻，中國每年進口芯片總額甚至超過能源，可見對半導體芯片的依賴性有多高。可隨著美國阻撓下，全球半導體行業(yè)陷入動蕩，原本和華為密切合作的美光、臺積電等巨頭，目前無法為華為供應5G芯片，最終導致華為手機無法正常生產(chǎn)。華為芯片危機爆發(fā)之后，也是讓國人認識到芯片重要性，各大科技公司踴躍加入芯片自研隊伍，中芯國際正式“提速”，開始擴展產(chǎn)線，盡量滿足國內內需。

隨著全球半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展越來越快，諸如臺積電、三星這樣的晶圓代工“大廠”，紛紛開啟了在先進制程工藝上的競賽。

三星搶先臺積電一步，將GAA晶體管技術運用于3nm工藝，并對外展示了自己基于3nm代工工藝的存儲芯片。此舉，意味著全球芯片代工領域的發(fā)展，將會進一步提速。

由于《瓦森納協(xié)定》以及美國的干涉，中國內地企業(yè)想要進口一臺EUV光刻機過來卻困難重重。中芯早在多年之前，就對ASML采購了一臺EUV光刻機，但最終遲遲無法完成交付。

為了進一步提升國產(chǎn)芯片的占比，芯片制造設備成為了當下國內最急需突破的產(chǎn)品。

在芯片制造過程中，不僅僅需要高精度的光刻機，還需要刻蝕機、離子注入機、清洗機等設備的輔助，才能夠完整的制造出高品質的芯片。

可以說，任何一個環(huán)節(jié)出現(xiàn)差錯，就會導致生產(chǎn)出來的芯片無法進行使用。好的芯片制造設備，可以極大程度的提升芯片代工環(huán)節(jié)的良品率，但現(xiàn)如今的局面是，很多尖端的芯片制造設備，都被國外企業(yè)掌握在自己手中，想要采購過來十分困難。

咱們現(xiàn)在芯片的情況各位大家應該都清楚了，核心本身就是我們國家核心競爭力必不可少的項目之一。而沒有芯片自主制造能力的我們著實在國際上受到了不少約束。而這兩年因為國外打壓的情況，更是讓我們警醒了，所有的東西還是自己的好。目前，我國已經(jīng)開始加強布局，爭取在25年的時候實現(xiàn)芯片自給自足。

如果我們真的實現(xiàn)了芯片自給自足，那么在芯片進口方面我們就節(jié)省一大筆地指出，這筆支出就可以完全投入到另一方向的研究。所帶來的結果可是完全不同的。而國內只要是高端科技企業(yè)，現(xiàn)在基本上都擰成了一股繩，憋著一股勁去研發(fā)高端技術產(chǎn)業(yè)鏈。難得的見到了一致和平發(fā)展。而在高端技術人才方面，清華，北大和華中科大聚集了一批國內頂尖人才開始了攻關高技術產(chǎn)業(yè)鏈的問題。也為以后給各行各業(yè)輸出高技術人才打下了堅實的基礎。而除了這些之外，國產(chǎn)芯片的利好消息是一波接著一波，先是龍芯發(fā)布了新一代的完全國產(chǎn)CPU，龍芯3A5000，這款CPU的性能已經(jīng)可以和英特爾I5-6代的性能相媲美了。至此，我們的電腦芯片領域終于可以松一口氣了，距離擺脫英特爾和AMD也不過只是時間問題了，未來就看龍芯的研發(fā)和對市場的把控了。

我國的，芯片半導體企業(yè)、科研機構與國內高校三方聯(lián)手，傾力合作，立志要將生產(chǎn)制造芯片的所有有關的設備都研究開發(fā)出來，勢必要讓我國的芯片半導體企業(yè)擺脫國外的制約，打破國外企業(yè)的壟斷。

正是在這種大環(huán)境下，那些被國外壟斷的設備技術接連不斷地傳來破冰的喜訊。光刻機領域的突破，更是令國內的芯片半導體企業(yè)興奮不已，要知道在光刻機領域，一直是由荷蘭的阿斯麥公司所壟斷，實質是由美國所掌控。其公司旗下的EUV光刻機是當今全球最為先進的光刻機。如今，我國的上海微電子將光刻機實現(xiàn)了國產(chǎn)化，雖然只是28nm光刻機，比起荷蘭的7nmEUV光刻機有些差距，但也是極其良好的開端，以后自然會實現(xiàn)高端光刻機的國產(chǎn)化。

此外，還有一些設備迎來了重大突破，比如，中國電科的28nm全譜系離子注入機，南大光電的Krf高端光刻膠，這些和上海微電子的光刻機一般，都是在28nm的精度水準。不過此時仍是28nm及其以上芯片的主流市場，所以說這些中低端設備的突破是有著極大的意義和作用的。