什么是光刻機呢?光刻機又叫掩模對準(zhǔn)曝光機，光刻系統(tǒng)等，用光來制作一個圖形工藝，將掩模版上的圖形轉(zhuǎn)移光刻膠上的過程將器件或電路結(jié)構(gòu)臨時復(fù)制到硅片上的過程。學(xué)姐說的可能大家不太明白，學(xué)姐給你們換句通俗易懂的話，光刻機其實就是制造芯片的機器，芯片大家都知道吧?，F(xiàn)在的手機電腦都有芯片，如果沒有光刻機，那么就造不出電腦和手機了，可見這個光刻機作用有多大。

放眼全世界，能自主研發(fā)生產(chǎn)芯片的光刻機企業(yè)也就這三家，日本的佳能和尼康還有荷蘭的ASML公司。這三年一年能生產(chǎn)約300臺光刻機，荷蘭ASML公司占比達(dá)到60%，另外ASML的10nm芯片生產(chǎn)技術(shù)不對外公布，連咱們都買不到啊!ASML這家公司市值約1000億美元，約16000位員工，而高端研發(fā)人員就達(dá)到6000余名，這配置無敵了!這16000多人一起研究出了世界頂級光刻機—EUV光刻機，這機器每臺都在1億美元以上，我國的中芯國際花了7億人民幣在ASML公司買了一臺EUV光刻機，三星和英特爾還有臺積電等頂級芯片商業(yè)都在ASML買光刻機。

自從華為等中企被老美斷供芯片后，國內(nèi)便掀起了造芯浪潮，去年國家更是制定了于2025年實現(xiàn)芯片70%自主率的目標(biāo)。

但若想實現(xiàn)芯片自主，首要條件便是突破EUV光刻機的限制。在明確了核心問題后，中科院等頂尖科研機構(gòu)紛紛跑步入場，成立了專項技術(shù)攻關(guān)小組，不僅如此，就連國內(nèi)許多有實力的半導(dǎo)體公司也均在光刻領(lǐng)域著重發(fā)力。

二月底，清華大學(xué)宣布突破了光源技術(shù)，波長可從太赫茲覆蓋到極紫外波段，極紫外光正是EUV光刻機最核心的技術(shù)。

值得一提的是，EUV光刻機又被稱為極紫外光刻機。清華大學(xué)自研的極紫外光源意味著我國在EUV光刻機領(lǐng)域的研發(fā)邁出了一大步。

除了光源技術(shù)外，近日，國產(chǎn)企業(yè)上海新陽宣布了高端光刻膠的好消息。高端光刻膠是EUV光刻機最重要的原材料，此前一直被日美企業(yè)所壟斷，是我們實現(xiàn)芯片自主的另一個“攔路虎”。

據(jù)上海新陽的光刻膠項目推進(jìn)速度來看，在明年，國產(chǎn)的193nm Arf光刻膠就能小規(guī)模銷售，2023年便可實大批量產(chǎn)和正式商用。

目前，國內(nèi)最先進(jìn)的芯片制造商中芯國際已經(jīng)具備生產(chǎn)7nm芯片的工藝技術(shù)，但很多設(shè)備依然依賴進(jìn)口，最典型的就是光刻機。眾所周知，光刻機的研發(fā)難度極大，就連全球光刻機制造技術(shù)最強的企業(yè)ASML一年的產(chǎn)能也只有幾十臺。

光刻機的成功制造，是集眾家之所長而得到的結(jié)晶，在一臺光刻機設(shè)備中，光零件就多達(dá)近十萬個，而且這些零部件分別來自全球各國，更難的是，光刻機制造過程中的良率極低，所以研發(fā)成本極高，以至于每臺設(shè)備售價高達(dá)近十億。

近日，中芯國際突然宣布與荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)簽訂修訂后的采購協(xié)議，期限延長至今年年底。值得一提的是，這條消息還直接沖上了熱搜，熱度一直居高不下。要知道，我們等待這一刻不知道等了多久，中芯國際停留在14nm工藝上的時間同樣也很久了，如果這次交易能夠順利的話，那么中芯國際在芯片生產(chǎn)上的水平就又能提升一大截。

具體來看，中芯國際在3月3日發(fā)布的公告中稱，其已經(jīng)與阿斯麥(上海)機電設(shè)備有限公司簽訂了經(jīng)修訂和重述的批量采購協(xié)議，期限延長至2021年12月31日。除了期限延長之外，中芯國際還在公告中披露了此前的購買金額。根據(jù)批量采購協(xié)議，中芯國際已于去年3月16日至今年3月2日的12個月期間，就購買用于生產(chǎn)晶圓的阿斯麥產(chǎn)品與阿斯麥集團(tuán)簽訂購買單，總代價約為12億美元。

ASML提供的高端光刻機受到很多芯片制造企業(yè)的搶購，臺積電、三星、英特爾成為了ASML主要的EUV光刻機采購客戶。但其實中國大陸企業(yè)也曾向?qū)Ψ讲少廍UV光刻機，只不過受到了美國的阻撓，未能成功采購。就眼前的局勢來看，國產(chǎn)芯片的短板主要體現(xiàn)在制造，但是，芯片制造涉及到的工藝流程卻十分復(fù)雜，牽涉到的核心設(shè)備眾多，并且每一樣都必不可少。據(jù)不完全統(tǒng)計，在中芯國際的一條12英寸圓晶生產(chǎn)線上，就用到了22臺擴(kuò)散設(shè)備、42臺CVD設(shè)備、15臺涂膠去膠設(shè)備、8臺光刻設(shè)備、25臺刻蝕設(shè)備、13臺離子注入設(shè)備、24臺PVD設(shè)備、50臺檢測設(shè)備。

芯片短缺一直是阻礙中國科學(xué)技術(shù)發(fā)展的難題，很多核心技術(shù)所需要的芯片都依賴于海外供貨。然而，國與國之間除“合作共贏”之外，還有“競爭”，加上美國的各種從中阻攔，國企想要真正從海外購取所需芯片，并非那么容易。對此，不少企業(yè)開始著力于自主研發(fā)，而據(jù)爆料，華為也已入局光刻機研發(fā)制造。

在半導(dǎo)體領(lǐng)域內(nèi)，相比于其他一些國家，我國一直比較薄弱。美國更是借著中國這技術(shù)短板，各種“使絆子”。但這也讓國人更加清楚自己的問題，徹底清醒向半導(dǎo)體領(lǐng)域進(jìn)軍。特別是近幾年，中國在光刻領(lǐng)域不斷取得新的突破，“龍芯”新架構(gòu)的發(fā)布，芯片產(chǎn)業(yè)的落地等等，都說明國家對半導(dǎo)體領(lǐng)域發(fā)展的決心和態(tài)度。而唯有自己實現(xiàn)自主造芯，中國才能不再仰仗他國技術(shù)，獨立自主。