數(shù)多晶圓代工廠中,坐落于臺積電憑借一己之力拿下全球60%的晶圓產(chǎn)量,坐穩(wěn)晶圓代工廠的頭一把交椅。除了臺積電,來自大陸第一的芯片巨頭,中芯國際這顆新星也在冉冉升起。
8月27日,中芯國際發(fā)布2020年上半年財報,公司營收創(chuàng)下歷史新高,達到131.61億,同比增長29.4%,其中歸屬上市公司股東的凈利潤為13.86億元,相較于2019年同期暴增329.8%。
短短半年凈賺近14億元,中芯國際的吸金能力雖不及臺積電,但也是業(yè)內(nèi)的佼佼者。至于芯國際上半年營收增長的主要原因,則是晶圓出貨數(shù)量增加所導致,據(jù)悉,中芯國際上半年銷售晶圓的數(shù)量達280萬片,同比增長19.7%。
在成熟應(yīng)用平臺的需求,一如既往強勁的同時,中芯國際還在持續(xù)推進研發(fā)進度,其中最值得一提的當屬7nm工藝節(jié)點。因為種種原因,中芯國際目前仍停留在14nm工藝節(jié)點,對比已經(jīng)量產(chǎn)5nm工藝的臺積電,差距不是一星半點。
雖然中芯國際在7nm工藝的量產(chǎn)上遲遲未取得突破,但對于中芯國際來說7nm芯片技術(shù)其實并不遙遠。不過,7nm工藝在中國芯片被稱為N+1,相較于14nm工藝芯片,功耗降低57%,邏輯編輯縮小63%,SOC面積減少55%。
7nm工藝相比14nm工藝更先進,性能功耗有更好的表現(xiàn),這是眾所周知的事情,但需要注意的是,無論臺積電還是三星的7nm工藝芯片,都需要EUV光刻機,而中芯國際的N+1技術(shù),卻并不需要EUV光刻機。
中芯國際可利用193nm波長的光刻機,輔以浸潤式技術(shù),等效于134nm的波長,最終實現(xiàn)7nm的精度。EUV光刻機目前只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),不僅價格昂貴還產(chǎn)量有限,受美方制裁影響,中芯國際2018年購買的光刻機至今仍未到貨。
倘若中芯國際的7nm工藝,不需要ASML得EUV光刻機即可實現(xiàn)量產(chǎn),這無疑讓國產(chǎn)芯片看到曙光。
值得注意的是,在8月有消息人士稱,中芯國際將在2021年開始為低功率器件生產(chǎn)7nm芯片。
除了N+1技術(shù)外,中芯國際還有N+2技術(shù)。雖然N+2技術(shù)具體的性能參數(shù)還未曝光,但業(yè)內(nèi)人士頻頻猜測,N+2技術(shù)正是5nm工藝技術(shù),預計在2025年實現(xiàn)量產(chǎn)。