光刻機(jī)巨頭ASML在全球芯片制造產(chǎn)業(yè)中扮演著非常重要的角色，其一言一行都會對行業(yè)產(chǎn)生巨大影響。

當(dāng)?shù)貢r(shí)間11月14日，ASML在荷蘭舉辦的2024年投資者日會議上，公開發(fā)表了關(guān)于市場機(jī)遇的最新看法。雖然只是短短的幾行字，但卻釋放了多重信號，并且這一相關(guān)話題也隨后沖上了熱搜。

（圖片來源：百度熱搜）

首先，在公司長期發(fā)展戰(zhàn)略上，ASML通過對不同市場和技術(shù)情況的評估，確認(rèn)其到2030年的年收入將達(dá)到440-600億歐元，毛利率約56%-60%。

ASML總裁兼首席執(zhí)行官Christophe Fouquet表示：“我們預(yù)計(jì)，在下一個(gè)十年我們有能力將EUV技術(shù)推向更高水平，并擴(kuò)展廣泛適用的全景光刻產(chǎn)品組合，使ASML能夠充分參與和抓住人工智能機(jī)遇，從而實(shí)現(xiàn)顯著的營收和盈利增長?！?/span>

其次，在全球市場方面，ASML認(rèn)為，人工智能可能成為推動社會生產(chǎn)力和創(chuàng)新的下一個(gè)重大驅(qū)動力。人工智能的崛起為半導(dǎo)體行業(yè)帶來了顯著機(jī)遇，預(yù)計(jì)這些發(fā)展趨勢將有助于推動全球半導(dǎo)體銷售額在2030年超過1萬億美元。這意味著，在2025-2030年間，半導(dǎo)體市場的年增長率將達(dá)到9%。

最后，在談及技術(shù)趨勢時(shí)，ASML指出，到2030年內(nèi)，EUV的銷售也將有上升空間。EUV技術(shù)的可擴(kuò)展性具有持續(xù)的成本效益，有望使客戶進(jìn)一步從多重曝光轉(zhuǎn)向使用低數(shù)值孔徑（0.33 NA）EUV和高數(shù)值孔徑（0.55 NA）EUV的單次曝光工藝，以支持先進(jìn)邏輯和動態(tài)隨機(jī)存取存儲器（DRAM）的發(fā)展。

因此，ASML預(yù)計(jì)，在2025-2030年間，先進(jìn)邏輯和動態(tài)隨機(jī)存取存儲器（DRAM）對EUV光刻設(shè)備需求的年復(fù)合增長率將達(dá)到兩位數(shù)。

（圖片來源：ASML官網(wǎng)）

總之，這家巨頭維持樂觀的長期前景，以及押注人工智能的決策，讓不少投資者對半導(dǎo)體行業(yè)又充滿了希望。