英特爾搶用 High-NA EUV 光刻機(jī),專家:成本高虧損恐?jǐn)U大
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英特爾搶先導(dǎo)入ASML的高數(shù)值孔徑極紫外光(High-NA EUV)設(shè)備,為外界視為是英特爾重返技術(shù)領(lǐng)導(dǎo)地位的關(guān)鍵作為。產(chǎn)業(yè)專家表示,High-NA EUV成本居高不下,英特爾搶用High-NA EUV恐面臨虧損擴(kuò)大窘境。
臺(tái)積電年度技術(shù)論壇陸續(xù)于美國(guó)及歐洲舉行,臺(tái)積電預(yù)計(jì)2026年量產(chǎn)A16技術(shù),將結(jié)合納米片晶體管及超級(jí)電軌架構(gòu),為業(yè)界關(guān)注焦點(diǎn)。
當(dāng)英特爾搶訂High-NA EUV設(shè)備,消息人士稱,ASML今年預(yù)計(jì)制造5臺(tái)High-NA EUV設(shè)備,已全數(shù)由英特爾包下。臺(tái)積電決定A16制程將持續(xù)采用既有EUV設(shè)備,不打算使用High-NA EUV設(shè)備,受到各界矚目,并引發(fā)熱烈討論。
英特爾首席執(zhí)行官帕特·基辛格(Pat Gelsinger)認(rèn)為先前反對(duì)使用ASML的EUV設(shè)備是錯(cuò)誤決策,拖累晶圓代工事業(yè)欠缺獲利能力。他指出,在采用EUV設(shè)備后,英特爾在價(jià)格、性能方面都很有競(jìng)爭(zhēng)力。外界關(guān)注英特爾搶先導(dǎo)入High-NA EUV設(shè)備,能否有助其重返技術(shù)領(lǐng)先地位。
專家表示,臺(tái)積電會(huì)決定A16制程不采用High-NA EUV設(shè)備,應(yīng)是經(jīng)過(guò)綜合評(píng)估的決策。
專家表示,臺(tái)積電應(yīng)明確知道High-NA EUV設(shè)備帶來(lái)的好處,不過(guò),在成本居高不下的情況下,通過(guò)其他方式,以滿足客戶的綜合需求。
據(jù)ASML指出,High-NA EUV設(shè)備將數(shù)值孔徑從0.33增至0.55,更具高分辨率圖像化能力,能夠提高精準(zhǔn)度,成像更清晰,有助簡(jiǎn)化制造流程,減少生產(chǎn)時(shí)間,提升生產(chǎn)效率。
臺(tái)積電業(yè)務(wù)開(kāi)發(fā)資深副總經(jīng)理暨副共同首席運(yùn)營(yíng)官?gòu)垥詮?qiáng)日前于歐洲技術(shù)論壇說(shuō),他喜歡High-NA EUV設(shè)備的性能,但不喜歡它的價(jià)格,成本非常高。
ASML每套EUV設(shè)備價(jià)格約1.8億美元,High-NA EUV設(shè)備報(bào)價(jià)高達(dá)3.8億美元,較EUV高出1倍以上,約122億元新臺(tái)幣。
專家表示,半導(dǎo)體先進(jìn)封裝重要性日益提高,將扮演關(guān)鍵配套角色,英特爾爭(zhēng)搶High-NA EUV設(shè)備,是“選錯(cuò)戰(zhàn)場(chǎng)、武器”,因?yàn)?/span>High-NA EUV設(shè)備不是未來(lái)左右輸贏的唯一關(guān)鍵。
專家說(shuō),臺(tái)積電為全球晶圓代工龍頭,客戶多、生態(tài)系完整,且資金充裕,客戶若有需求且愿意支付更高價(jià)格,臺(tái)積電勢(shì)必會(huì)采用High-NA EUV設(shè)備。
專家表示,臺(tái)積電采用High-NA EUV設(shè)備持審慎態(tài)度,應(yīng)已綜合考量必要性,英特爾若大舉采購(gòu)High-NA EUV設(shè)備,未來(lái)產(chǎn)能利用率值得觀察,預(yù)期不排除可能面臨虧損擴(kuò)大的窘境。
(科技新報(bào))