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[導(dǎo)讀]據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日深圳市發(fā)改委發(fā)布了一則關(guān)于促進(jìn)半導(dǎo)體與集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干措施的意見征求稿,文件中的主要幾條談及了促進(jìn)半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)域支持、核心技術(shù)突破等多項(xiàng)內(nèi)容,這也表達(dá)了發(fā)改委對半導(dǎo)體集成電路技術(shù)依賴的決心,這個(gè)文件或?qū)㈤_啟半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的全產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化。

據(jù)業(yè)內(nèi)消息,近日深圳市發(fā)改委發(fā)布了一則關(guān)于促進(jìn)半導(dǎo)體與集成電路產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干措施的意見征求稿,文件中的主要幾條談及了促進(jìn)半導(dǎo)體集成電路產(chǎn)業(yè)的領(lǐng)域支持、核心技術(shù)突破等多項(xiàng)內(nèi)容,這也表達(dá)了發(fā)改委對半導(dǎo)體集成電路技術(shù)依賴的決心,這個(gè)文件或?qū)㈤_啟半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的全產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化。

據(jù)悉,隨著國務(wù)院相關(guān)方面關(guān)于集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的戰(zhàn)略部署不斷推進(jìn),深圳市作為集成電路的核心產(chǎn)業(yè)的核心地點(diǎn),不得不以最快的速度開始推進(jìn)整個(gè)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和落實(shí),這次的文件配合之前的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)集群計(jì)劃行動(dòng)的文件,制定了多項(xiàng)措施。

其中最主要的就是前三點(diǎn),適用機(jī)構(gòu)和重點(diǎn)支持領(lǐng)域、全面提升產(chǎn)業(yè)鏈核心環(huán)節(jié)以及加速突破基礎(chǔ)支撐環(huán)節(jié)。

首先就是適用機(jī)構(gòu)和重點(diǎn)支持領(lǐng)域,文件提出重點(diǎn)支持高端通用芯片、專用芯片和核心芯片、化合物半導(dǎo)體芯片等芯片設(shè)計(jì);硅基集成電路制造;氮化鎵、碳化硅等化合物半導(dǎo)體制造;高端電子元器件制造;晶圓級封裝、三維封裝、Chiplet(芯粒)等先進(jìn)封裝測試技術(shù);EDA 工具、關(guān)鍵 IP 核技術(shù)開發(fā)與應(yīng)用;光刻、刻蝕、離子注入、沉積、檢測設(shè)備等先進(jìn)裝備及關(guān)鍵零部件生產(chǎn);以及核心半導(dǎo)體材料研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化。

還要重點(diǎn)突破 CPU、GPU、DSP、FPGA 等高端通用芯片的設(shè)計(jì),布局人工智能芯片、邊緣計(jì)算芯片等專用芯片的開發(fā)。以 5G 通信產(chǎn)業(yè)為牽引,全面突破射頻前端芯片、基帶芯片、光電子芯片等核心芯片。

有關(guān)方面會(huì)積極協(xié)調(diào)深圳支持建設(shè)的集成電路生產(chǎn)線和中試線開放一定產(chǎn)能,服務(wù)深圳中小設(shè)計(jì)企業(yè)的流片需求。支持集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)加大新產(chǎn)品研發(fā)力度,重點(diǎn)支持集成電路設(shè)計(jì)企業(yè)流片和掩模版制作。

同時(shí)支持建設(shè)高端片式電容器、電感器、電阻器等電子元器件生產(chǎn)線。支持代表新發(fā)展方向的半導(dǎo)體與集成電路制造重大項(xiàng)目落戶,鼓勵(lì)既有集成電路生產(chǎn)線改造升級。

加快 MOSFET 模塊等功率器件、高密度存儲器封裝技術(shù)的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,重點(diǎn)突破晶圓級、系統(tǒng)級、凸塊、倒裝、硅通孔、面板級扇出型、三維、真空、Chiplet(芯粒)等先進(jìn)封裝核心技術(shù),以及脈沖序列測試、IC 集成探針卡等先進(jìn)晶圓級測試技術(shù)。

然后就是加速突破基礎(chǔ)支撐環(huán)節(jié),主要是加快EDA核心技術(shù)攻關(guān)。推動(dòng)模擬、數(shù)字、射頻集成電路等 EDA 工具軟件實(shí)現(xiàn)全流程國產(chǎn)化。支持開展先進(jìn)工藝制程、新一代智能、超低功耗等 EDA 技術(shù)的研發(fā)。

在現(xiàn)有骨干企業(yè)基礎(chǔ)上加快光掩模、光刻膠、聚酰亞胺、濺射靶材、高純度化學(xué)試劑、電子氣體、蝕刻液、清洗劑、拋光液、電鍍液功能添加劑、氟化冷卻液、陶瓷粉體等半導(dǎo)體材料的研發(fā)生產(chǎn);同時(shí)進(jìn)行集成電路關(guān)鍵設(shè)備及零部件研發(fā),推進(jìn)檢測設(shè)備、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕設(shè)備、清洗設(shè)備、高真空泵等高端設(shè)備部件和系統(tǒng)集成開展持續(xù)研發(fā)和技術(shù)攻關(guān)。

這將基本表明了在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域的決心和政策扶持,大量的資金投入都會(huì)進(jìn)入半導(dǎo)體的各種細(xì)分產(chǎn)業(yè)鏈來擺脫現(xiàn)階段對國外核心技術(shù)的依賴,從EDA到光刻膠,從上游到下游,這份文件的發(fā)布表明,將開啟半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的全產(chǎn)業(yè)國產(chǎn)化。

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