光掩模屬于高端半導(dǎo)體材料，在光刻環(huán)節(jié)，利用掩膜版上已設(shè)計(jì)好的圖案，通過(guò)透光與非透光的方式進(jìn)行圖像復(fù)制，從而實(shí)現(xiàn)批量生產(chǎn)，其功能類(lèi)似相機(jī)“底片”，占據(jù)全球晶圓制造材料的12%，根據(jù)2020年晶圓制造市場(chǎng)規(guī)模349億美元測(cè)算，全球半導(dǎo)體光掩模市場(chǎng)規(guī)模在41.9億美元左右。

光掩模上游主要是光刻機(jī)、研磨基板相關(guān)抗蝕劑等，掩膜基板的生產(chǎn)完成后，進(jìn)入中游光掩模版制造商，在玻璃基板基礎(chǔ)上進(jìn)行研磨、拋光、鍍鉻、涂膠等生產(chǎn)環(huán)節(jié)，需要較高的技術(shù)門(mén)檻，而后才能成為合格的電子元器件。下游主要為半導(dǎo)體和平板顯示等，目前全球范圍內(nèi)半導(dǎo)體是主要需求結(jié)構(gòu)。

就全球光掩模板市場(chǎng)規(guī)模而言，隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體需求持續(xù)擴(kuò)張，全球光掩模板規(guī)模表現(xiàn)為穩(wěn)步增長(zhǎng)趨勢(shì)，行業(yè)整體技術(shù)壁壘深厚，產(chǎn)業(yè)集中度高，龍頭議價(jià)能力高，利潤(rùn)水平高，數(shù)據(jù)顯示，2020年全球光掩膜版市場(chǎng)規(guī)模達(dá)41.88億美元。

頂尖的晶圓制造廠商通常會(huì)使用自制的掩模版，如臺(tái)積電、英特爾、三星等龍頭廠商，晶圓廠自供以外，這部分市場(chǎng)主要為美國(guó)Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷。而國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體掩模版行業(yè)發(fā)展較為落后，除了中芯國(guó)際等代工廠會(huì)自制掩模版外，尚無(wú)商業(yè)掩模版公司可在IC領(lǐng)域掩模版實(shí)現(xiàn)較好的突破，僅部分公司在面板領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)較好的技術(shù)和客戶(hù)突破，而半導(dǎo)體領(lǐng)域極度依賴(lài)海外進(jìn)口。

光刻掩膜版(又稱(chēng)光罩，英文為Mask Reticle)，簡(jiǎn)稱(chēng)掩膜版，是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu)，再通過(guò)曝光過(guò)程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。其圖形結(jié)構(gòu)可通過(guò)制版工藝加工獲得，常用加工設(shè)備為直寫(xiě)式光刻設(shè)備，如激光直寫(xiě)光刻機(jī)、電子束光刻機(jī)等。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC(Integrated Circuit，集成電路)、FPD(Flat Panel Display，平板顯示器)、PCB(Printed Circuit Boards，印刷電路板)、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng))等。

關(guān)于光掩模基版這幾個(gè)字行業(yè)內(nèi)大佬們也是字字斟酌、修改過(guò)幾個(gè)版本，最終訂下了光掩?；妫缃貓D所示，文本提示錯(cuò)別字糾正，那我就要掰扯一下了，掩模版的版字沒(méi)有錯(cuò)，在光刻或者蝕刻圖形時(shí)，機(jī)臺(tái)都有固定的加工尺寸，所需圖形在不同規(guī)格中進(jìn)行排版，最終做出來(lái)的圖形稱(chēng)做版，一版中可以涵蓋不同的圖形，圖形整版使用或者裁切都可以.

如今，芯片需求全面強(qiáng)勁。例如，28nm 平面產(chǎn)品仍然是按節(jié)點(diǎn)計(jì)算的最大市場(chǎng)之一。聯(lián)華電子在最近一個(gè)季度的 28nm 技術(shù)收入增長(zhǎng)了 75%?！?5% 的收入同比增長(zhǎng)反映了與 5G、物聯(lián)網(wǎng)和汽車(chē)相關(guān)的強(qiáng)勁芯片需求，”聯(lián)電聯(lián)席總裁 Jason Wang 表示。

其他節(jié)點(diǎn)也有需求?！叭绻憧纯疵總€(gè)節(jié)點(diǎn)在哪里建造晶圓廠，它不僅僅是 3nm。幾乎每個(gè)節(jié)點(diǎn)都在以某種形式增加產(chǎn)能，”Toppan 的 Caverly 說(shuō)。“28nm 是一個(gè)高需求節(jié)點(diǎn)。在 40nm 到 65nm，您會(huì)看到先進(jìn)的射頻、混合信號(hào)和某些邏輯的最佳點(diǎn)。您還看到了 110nm 至 130nm 范圍內(nèi)的活動(dòng)，這是通用、混合信號(hào)和模擬類(lèi)型的產(chǎn)品?！?

8月19日上午，南湖高新區(qū)微電子產(chǎn)業(yè)又添一員“猛將”——由中芯國(guó)際創(chuàng)始人、青島恩芯創(chuàng)始人張汝京主導(dǎo)的光罩材料產(chǎn)業(yè)鏈項(xiàng)目簽約儀式在浙江嘉興科技城(南湖高新區(qū))智立方舉行?！霸?G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等產(chǎn)業(yè)快速壯大的拉動(dòng)下，全球半導(dǎo)體市場(chǎng)蓬勃發(fā)展，光罩作為芯片的關(guān)鍵原材料，市場(chǎng)需求不斷上升。”嘉興立恩半導(dǎo)體科技有限公司項(xiàng)目總聯(lián)絡(luò)人鄒才明表示，本項(xiàng)目的設(shè)立，旨在成為國(guó)內(nèi)光罩上游材料龍頭，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)該方面的技術(shù)空白。