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[導(dǎo)讀]最近媒體鋪天蓋地報(bào)道三星的3nm將要投產(chǎn),而且是劃時(shí)代的GAA(環(huán)繞柵極)晶體管。“到底是騾子是馬”還不好下判斷,也許是4nm翻車讓三星痛定思痛,加快了進(jìn)度;也有可能是公關(guān)障眼法。

最近媒體鋪天蓋地報(bào)道三星的3nm將要投產(chǎn),而且是劃時(shí)代的GAA(環(huán)繞柵極)晶體管?!暗降资球呑邮邱R”還不好下判斷,也許是4nm翻車讓三星痛定思痛,加快了進(jìn)度;也有可能是公關(guān)障眼法。

在TheElec最新報(bào)道提到,三星最快本周開(kāi)始試產(chǎn)3nm工藝,第一個(gè)客戶來(lái)自中國(guó)礦機(jī)芯片廠商,名為PanSemi。

這似乎表明,PanSemi資金雄厚且膽子挺大,畢竟三星3nm初期產(chǎn)能很低。

企查查工商信息顯示,PanSemi實(shí)為上海磐矽半導(dǎo)體技術(shù)有限公司,2016年才成立,實(shí)繳注冊(cè)資本4500萬(wàn)。遺憾的是,該公司其它資料不多,官網(wǎng)十分簡(jiǎn)陋,公布的企業(yè)參保人數(shù)也僅有3人。

回到3nm本身,按照三星的說(shuō)法,與7nm制造工藝相比,3nm GAA技術(shù)的邏輯面積效率提高了45%以上,功耗降低了50%,性能提高了約35%。相較于目前應(yīng)用在5nm、7nm上最先進(jìn)成熟的FinFET晶體管,GAA可以更精確地控制電流、柵極寬度也更窄。

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