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[導(dǎo)讀]近日,在比利時(shí)安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會(huì)上,IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報(bào)告,探討了直至2036年左右的半導(dǎo)體工藝、技術(shù)路線圖。

近日,在比利時(shí)安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會(huì)上,IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報(bào)告,探討了直至2036年左右的半導(dǎo)體工藝、技術(shù)路線圖。

IMEC是一家成立于1984年的權(quán)威半導(dǎo)體研究機(jī)構(gòu),位于歐洲,研究方向包括微電子、納米技術(shù)、信息通訊系統(tǒng)技術(shù)(ICT)、芯片制程技術(shù)、元件整合、納米技術(shù)、微系統(tǒng)和元件、封裝等各個(gè)方面。

IMEC的名氣不如Intel、ARM、ASML、臺(tái)積電、三星、中芯國際等等芯片設(shè)計(jì)、制造商,但同樣是重量級(jí)玩家,尤其是在基礎(chǔ)技術(shù)研究、行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化方面扮演著至關(guān)重要的角色,與上述巨頭都有密切合作,還在與ASML合作推動(dòng)EUV光刻技術(shù)。

在談?wù)撀肪€圖之前,首先解釋一點(diǎn),X納米工藝行業(yè)都標(biāo)注為“Nx”(nanometer),而在納米之后將是“埃米”,標(biāo)注為“Ax”。事實(shí)上,2nm之后就開始使用埃米了,A14就等于1.4nm。

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6月16日消息,ASML去年底向Intel交付了全球第一臺(tái)High NA EUV極紫外光刻機(jī),同時(shí)正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右,也就是2埃米。

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2月17日消息,ASML已經(jīng)向Intel交付第一臺(tái)高NA EUV極紫外光刻機(jī),將用于2nm工藝以下芯片的制造,臺(tái)積電、三星未來也會(huì)陸續(xù)接收,可直達(dá)1nm工藝左右。

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