被美國全方位芯片制裁后，俄羅斯竟然要開造先進(jìn)制程光刻機(jī)了?!

是的，就是那個芯片制造中最最最核心的設(shè)備(甚至沒有之一)，全球僅一家公司ASML有能力生產(chǎn)最先進(jìn)EUV級別，一臺能賣好幾億元、核心技術(shù)被美國壟斷的光刻機(jī)。

而且，這次俄羅斯的計劃，看起來有點像那么回事——

有人、有錢、有目標(biāo)。

人，項目由有著蘇聯(lián)硅谷中心之稱、以微電子專業(yè)見長的俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)承接。

錢，首期投資6.7億盧布資金。

目標(biāo)，挑戰(zhàn)當(dāng)前最先進(jìn)的EUV(極紫外)級別。

但即便如此，因為制造光刻機(jī)登天之難、以及俄羅斯的資源儲備，網(wǎng)友們對這個消息并不太信：

確定不是個玩笑?!

巧的是，就在這消息放出前一天，俄羅斯最大芯片制造商Mikron被美國制裁。更早之前，俄羅斯為數(shù)不多的其他幾家芯片廠也已經(jīng)全方位被制裁。

所以現(xiàn)在的俄羅斯芯片，到底什么水平?真的能有底氣搞出先進(jìn)制程光刻機(jī)嗎?

無掩膜X射線光刻機(jī)?

我們先來看看計劃本身的難度如何。

據(jù)俄媒報道，俄羅斯工貿(mào)部委托MIET開發(fā)“一種無掩膜X射線光刻機(jī)”，跟日常我們提到的EUV光刻機(jī)還有點不同。

首先的不同在于光源的選擇。

一種是極紫外光線，波長在13.5nm;而X射線波長介于0.01nm到10nm之間。

按照現(xiàn)有的常見思路，光刻機(jī)是特定波長的光透過用來放大的掩膜，再通過透鏡的縮小，將集成電路圖精確“投影”在硅片上。