中標(biāo)9臺(tái)長(zhǎng)江存儲(chǔ)蝕刻機(jī) 中微半導(dǎo)體給國(guó)產(chǎn)閃存助力
紫光旗下的長(zhǎng)江存儲(chǔ)在2019年9月份正式量產(chǎn)了國(guó)內(nèi)首個(gè)64層堆棧的3D閃存,容量256Gb,TLC芯片,2020年長(zhǎng)江存儲(chǔ)還會(huì)進(jìn)一步提升產(chǎn)能,年底將達(dá)到每月6萬(wàn)片晶圓的水平,是初期產(chǎn)能的10倍。
產(chǎn)能的擴(kuò)充將需要更多的設(shè)備,這就包括了國(guó)產(chǎn)設(shè)備。1月2日,上海中微半導(dǎo)體宣布中標(biāo)了9臺(tái)蝕刻機(jī),而2019全年他們中標(biāo)的也不過(guò)13臺(tái)。
此前,中微半導(dǎo)體的5nm蝕刻機(jī)也已經(jīng)打入臺(tái)積電的供應(yīng)鏈。中微半導(dǎo)體設(shè)備公司董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官尹志堯博士就指出,中微半導(dǎo)體正在跟隨臺(tái)積電按照摩爾定律的發(fā)展走,后者的3nm工藝已經(jīng)研發(fā)一年多了,預(yù)計(jì)2021年初就要試產(chǎn)。而中微半導(dǎo)體也在跟著這個(gè)路線走,目前已經(jīng)做到了5nm。