說起ASMLHoldingN.V.(阿斯麥),你可能會感覺到很陌生,但是Intel、三星、海力士、臺積電、中芯國際等等這些聲名顯赫的巨頭,之所以一直能不斷把半導體工藝推向前進,很大程度上都要感謝這家來自荷蘭的全球光刻設備頂
英特爾宣布與ASML控股公司簽署一系列價值總計33億歐元(約41億美元)的協(xié)議,以加速450毫米晶圓技術和超紫外線(EUV)光刻技術的開發(fā),力爭提前兩年實現(xiàn)支持這些技術的光刻設備的產業(yè)化應用,從而為半導體制造商大幅
臺積電昨(10)日證實,已收到ASML投資邀請,正審慎評估參股可能性。設備商指出,臺積電因應英特爾入股ASML,已備好3套劇本,包括也加入參股ASML、自行研發(fā)投入更先進技術、投資其它先進技術設備廠。業(yè)界研判,臺積電
為了加快在450mm技術和EUV光刻技術方面的發(fā)展速度,Intel公司最近與設備廠商ASML公司達成了一攬子總合作金額高達41億美元的協(xié)議。作為協(xié)議的一部分,Intel將首先購買總值約21億美元的ASML股票,將來為配合ASML公司為
臺積電周二表示,已收到荷蘭芯片設備制造商ASML的投資邀請,目前臺積電正在對此進行評估。臺積電發(fā)言人伊麗莎白·孫(Elizabeth Sun)稱,這是一份聯(lián)合投資邀請,臺積電通過投資可以換取ASML部分股份。ASML CEO埃
英特爾公司日前宣布與ASML控股公司簽署一系列價值總計33億歐元(約41億美元)的協(xié)議,以加速450毫米晶圓技術和超紫外線(EUV)光刻技術的開發(fā),力爭提前兩年實現(xiàn)支持這些技術的光刻設備的產業(yè)化應用,從而為半導體制造商
臺積電昨(10)日證實,已收到ASML投資邀請,正審慎評估參股可能性。設備商指出,臺積電因應英特爾入股ASML,已備好3套劇本,包括也加入參股ASML、自行研發(fā)投入更先進技術、投資其它先進技術設備廠。 業(yè)界研判,臺積
英特爾投資微影設備廠艾司摩爾(ASML)41億美元,希望提早2年展開18吋晶圓及極紫外光(EUV)微影新制程投產,獲英特爾投資的家登(3680)確定躋身供應商之列,下半年將獲英特爾及ASML大訂單。 家登是國內首家參與
半導體產業(yè)出現(xiàn)重大變局,全球最大半導體制造商英特爾表示,將對荷蘭晶片設備供應商艾司摩爾(ASML)投資41億美元(約新臺幣1,230億元),讓下一代晶片制程技術提早兩年實現(xiàn),臺積電同時也收到艾司摩爾的入股邀約,已
ASML宣布客戶合作投資計劃,旨在加快ASML在未來五年內的EUV光刻技術以及來450mm晶圓技術的發(fā)展速度。作為這項計劃的一部分,ASML最多可發(fā)行總額的25%的少數股權給客戶。據悉,Intel是這項計劃的第一參與者,該公司將
半導體制程技術可望于2015年邁入14奈米(nm)制程及18吋晶圓的時代。艾司摩爾(ASML)發(fā)動客戶共同集資計畫(Co-Investment Program),邀請客戶參與其先進微影(Lithography)設備研發(fā)投資,其中英特爾(Intel)已率先加入,透
為加速18吋(450 mm) 晶圓與極端紫外光源(EUV)微影技術的開發(fā)工作,英特爾 ( Intel Corporation )于美國股市9日盤后宣布與歐洲半導體設備業(yè)龍頭ASML Holding NV簽訂總額達33億歐元 (相當于41億美元)的研發(fā)經費、股權投
針對英特爾今天宣布將向荷蘭電子芯片設備制造商阿斯麥ASML注資,iSuppli半導體首席分析師顧文軍(微博)對新浪科技表示,這一方面凸顯芯片設備產業(yè)處境艱難,同時也意味著設備在芯片技術的作用越來越重要。英特爾周一稱
北京時間7月10日消息,英特爾宣布,向阿斯麥公司(ASML)研發(fā)項目投資10億美元,用于開發(fā)更先進的芯片。同時,英特爾還投資21億美元收購阿斯麥10%的股份,并承諾再購買5%的股份,總計33億歐元(41億美元)。由于購買
評論:英特爾與AMD前景迥異
王怡蘋/臺北 近來從半導體、面板及印刷電路板(PCB)產業(yè)制程來看,均逐漸開始重視生產過程中的環(huán)保問題,從廢氣、廢水減排回收及生產過程的節(jié)省能源等面向來看,都已成為各產業(yè)在產能配置時的考量,例如晶圓大廠臺積
王怡蘋/慕尼黑 繼全球5大半導體廠英特爾(Intel)、臺積電、三星電子(Samsung Electronics)、IBM及Global Foundries于2011年9月宣布組成聯(lián)盟G450C(Global 450 Consortium),投入18吋(450mm)晶圓研發(fā),歐洲設備及材料供
數十年來,光刻一直是關鍵的芯片生產技術,今天它仍然很重要。不過,EUV技術的一再延遲已經讓整個業(yè)界麻木了,擺脫光刻技術的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸沒式光刻技術仍然遠遠領先,業(yè)界一度認為193nm浸沒式光刻
長久以來看好可作為芯片制造業(yè)的下一大步── 超紫外光(EUV)光刻技術事實上還未能準備好成為主流技術。這意味著急于利用EUV制造技術的全球芯片制造商們正面臨著一個可怕的前景──他們必須使用較以往更復雜且昂貴的技
2011年半導體設備業(yè)的購并案頻傳,日前全球第4大設備廠科林研發(fā)(LamResearch)迅速宣布購并全球第10名的諾發(fā)(Novellus),科林研發(fā)將全部以股票交易的形式收購諾發(fā),此交易的總價值約為33億美元,公司合并后將保留使用