英特爾宣布與ASML控股公司簽署一系列價(jià)值總計(jì)33億歐元(約41億美元)的協(xié)議,以加速450毫米晶圓技術(shù)和超紫外線(EUV)光刻技術(shù)的開發(fā),力爭(zhēng)提前兩年實(shí)現(xiàn)支持這些技術(shù)的光刻設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,從而為半導(dǎo)體制造商大幅
臺(tái)積電昨(10)日證實(shí),已收到ASML投資邀請(qǐng),正審慎評(píng)估參股可能性。設(shè)備商指出,臺(tái)積電因應(yīng)英特爾入股ASML,已備好3套劇本,包括也加入?yún)⒐葾SML、自行研發(fā)投入更先進(jìn)技術(shù)、投資其它先進(jìn)技術(shù)設(shè)備廠。業(yè)界研判,臺(tái)積電
為了加快在450mm技術(shù)和EUV光刻技術(shù)方面的發(fā)展速度,Intel公司最近與設(shè)備廠商ASML公司達(dá)成了一攬子總合作金額高達(dá)41億美元的協(xié)議。作為協(xié)議的一部分,Intel將首先購(gòu)買總值約21億美元的ASML股票,將來為配合ASML公司為
臺(tái)積電周二表示,已收到荷蘭芯片設(shè)備制造商ASML的投資邀請(qǐng),目前臺(tái)積電正在對(duì)此進(jìn)行評(píng)估。臺(tái)積電發(fā)言人伊麗莎白·孫(Elizabeth Sun)稱,這是一份聯(lián)合投資邀請(qǐng),臺(tái)積電通過投資可以換取ASML部分股份。ASML CEO埃
英特爾公司日前宣布與ASML控股公司簽署一系列價(jià)值總計(jì)33億歐元(約41億美元)的協(xié)議,以加速450毫米晶圓技術(shù)和超紫外線(EUV)光刻技術(shù)的開發(fā),力爭(zhēng)提前兩年實(shí)現(xiàn)支持這些技術(shù)的光刻設(shè)備的產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用,從而為半導(dǎo)體制造商
臺(tái)積電昨(10)日證實(shí),已收到ASML投資邀請(qǐng),正審慎評(píng)估參股可能性。設(shè)備商指出,臺(tái)積電因應(yīng)英特爾入股ASML,已備好3套劇本,包括也加入?yún)⒐葾SML、自行研發(fā)投入更先進(jìn)技術(shù)、投資其它先進(jìn)技術(shù)設(shè)備廠。 業(yè)界研判,臺(tái)積
英特爾投資微影設(shè)備廠艾司摩爾(ASML)41億美元,希望提早2年展開18吋晶圓及極紫外光(EUV)微影新制程投產(chǎn),獲英特爾投資的家登(3680)確定躋身供應(yīng)商之列,下半年將獲英特爾及ASML大訂單。 家登是國(guó)內(nèi)首家參與
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)出現(xiàn)重大變局,全球最大半導(dǎo)體制造商英特爾表示,將對(duì)荷蘭晶片設(shè)備供應(yīng)商艾司摩爾(ASML)投資41億美元(約新臺(tái)幣1,230億元),讓下一代晶片制程技術(shù)提早兩年實(shí)現(xiàn),臺(tái)積電同時(shí)也收到艾司摩爾的入股邀約,已
ASML宣布客戶合作投資計(jì)劃,旨在加快ASML在未來五年內(nèi)的EUV光刻技術(shù)以及來450mm晶圓技術(shù)的發(fā)展速度。作為這項(xiàng)計(jì)劃的一部分,ASML最多可發(fā)行總額的25%的少數(shù)股權(quán)給客戶。據(jù)悉,Intel是這項(xiàng)計(jì)劃的第一參與者,該公司將
半導(dǎo)體制程技術(shù)可望于2015年邁入14奈米(nm)制程及18吋晶圓的時(shí)代。艾司摩爾(ASML)發(fā)動(dòng)客戶共同集資計(jì)畫(Co-Investment Program),邀請(qǐng)客戶參與其先進(jìn)微影(Lithography)設(shè)備研發(fā)投資,其中英特爾(Intel)已率先加入,透
為加速18吋(450 mm) 晶圓與極端紫外光源(EUV)微影技術(shù)的開發(fā)工作,英特爾 ( Intel Corporation )于美國(guó)股市9日盤后宣布與歐洲半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)龍頭ASML Holding NV簽訂總額達(dá)33億歐元 (相當(dāng)于41億美元)的研發(fā)經(jīng)費(fèi)、股權(quán)投
針對(duì)英特爾今天宣布將向荷蘭電子芯片設(shè)備制造商阿斯麥ASML注資,iSuppli半導(dǎo)體首席分析師顧文軍(微博)對(duì)新浪科技表示,這一方面凸顯芯片設(shè)備產(chǎn)業(yè)處境艱難,同時(shí)也意味著設(shè)備在芯片技術(shù)的作用越來越重要。英特爾周一稱
北京時(shí)間7月10日消息,英特爾宣布,向阿斯麥公司(ASML)研發(fā)項(xiàng)目投資10億美元,用于開發(fā)更先進(jìn)的芯片。同時(shí),英特爾還投資21億美元收購(gòu)阿斯麥10%的股份,并承諾再購(gòu)買5%的股份,總計(jì)33億歐元(41億美元)。由于購(gòu)買
評(píng)論:英特爾與AMD前景迥異
王怡蘋/臺(tái)北 近來從半導(dǎo)體、面板及印刷電路板(PCB)產(chǎn)業(yè)制程來看,均逐漸開始重視生產(chǎn)過程中的環(huán)保問題,從廢氣、廢水減排回收及生產(chǎn)過程的節(jié)省能源等面向來看,都已成為各產(chǎn)業(yè)在產(chǎn)能配置時(shí)的考量,例如晶圓大廠臺(tái)積
王怡蘋/慕尼黑 繼全球5大半導(dǎo)體廠英特爾(Intel)、臺(tái)積電、三星電子(Samsung Electronics)、IBM及Global Foundries于2011年9月宣布組成聯(lián)盟G450C(Global 450 Consortium),投入18吋(450mm)晶圓研發(fā),歐洲設(shè)備及材料供
數(shù)十年來,光刻一直是關(guān)鍵的芯片生產(chǎn)技術(shù),今天它仍然很重要。不過,EUV技術(shù)的一再延遲已經(jīng)讓整個(gè)業(yè)界麻木了,擺脫光刻技術(shù)的沮喪看來遙遙無期。今天的193nm浸沒式光刻技術(shù)仍然遠(yuǎn)遠(yuǎn)領(lǐng)先,業(yè)界一度認(rèn)為193nm浸沒式光刻
長(zhǎng)久以來看好可作為芯片制造業(yè)的下一大步── 超紫外光(EUV)光刻技術(shù)事實(shí)上還未能準(zhǔn)備好成為主流技術(shù)。這意味著急于利用EUV制造技術(shù)的全球芯片制造商們正面臨著一個(gè)可怕的前景──他們必須使用較以往更復(fù)雜且昂貴的技
2011年半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)的購(gòu)并案頻傳,日前全球第4大設(shè)備廠科林研發(fā)(LamResearch)迅速宣布購(gòu)并全球第10名的諾發(fā)(Novellus),科林研發(fā)將全部以股票交易的形式收購(gòu)諾發(fā),此交易的總價(jià)值約為33億美元,公司合并后將保留使用
艾司摩爾(ASML)宣布與東京威力科創(chuàng)(TEL)簽署合作協(xié)議,以加快極紫外光微影(EUV Lithography)設(shè)備商用進(jìn)展。根據(jù)協(xié)議,東京威力科創(chuàng)將提供最新的EUV涂布機(jī)(Coater)和顯影機(jī)(Developer)給艾司摩爾,并共同研究提高EUV微