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半導(dǎo)體景氣將在明年2月觸底？
科技市調(diào)機構(gòu)SemicoResearchCorp.總裁JimFeldhan上周在南韓廠商DongbuHiTekCo.舉辦的類比半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者論壇(AnalogSemiconductorLeadersForum)上指出，自今(2011)年夏季開始陷入衰退的半導(dǎo)體業(yè)市況可望在明年2月觸底。
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Semico：明年2月半導(dǎo)體景氣將觸底
科技市調(diào)機構(gòu)SemicoResearchCorp.總裁JimFeldhan上周在南韓廠商DongbuHiTekCo.舉辦的類比半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者論壇(AnalogSemiconductorLeadersForum)上指出，自今(2011)年夏季開始陷入衰退的半導(dǎo)體業(yè)市況可望在明年2月觸底。
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Semico：明年2月半導(dǎo)體衰退將觸底
科技市調(diào)機構(gòu)Semico Research Corp.總裁Jim Feldhan上周在韓國廠商Dongbu HiTekCo.舉辦的模擬半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)者論壇(Analog Semiconductor LeadersForum)上指出，自今(2011)年夏季開始陷入衰退的半導(dǎo)體業(yè)市況可望在明年2月
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ASML認為明年芯片產(chǎn)業(yè)可能放緩
荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備商ASML日前公布第3季財報，雖然獲利成長，但預(yù)測明年芯片業(yè)成長放緩而拒絕作出財測。該公司認為只有跟平板計算機和智能型手機相關(guān)的芯片設(shè)備明年才會見到成長。ASML第3季凈利年增32％至3.552億歐元，優(yōu)
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分析師稱英特爾明年資本支出減少20億
9月1日消息，據(jù)國外媒體報道，由于個人電腦(PC)需求減少，華爾街分析師認為英特爾將削減今明兩年的資本支出。花旗集團(Citigroup)分析師Timothy Arcuri表示，英特爾已改變意圖，未來計劃讓Fab24直接轉(zhuǎn)至14或10納米工
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IMEC用EUV曝光裝置成功曝光晶圓
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV(extreme ultraviolet)曝光裝置NXE:3100進行曝光。該EUV曝光裝置配備了日本牛尾電機的全資子公司德國XTREME technologies GmbH公司生產(chǎn)的LA-DPP(laser assisted discharge produced plas
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IMEC利用配備LA-DPP光源的EUV曝光裝置成功曝光晶圓
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV（extremeultraviolet）曝光裝置NXE:3100進行曝光。該EUV曝光裝置配備了日本牛尾電機的全資子公司德國XTREMEtechnologiesGmbH公司生產(chǎn)的LA-DPP（laserassisteddischargeproducedplasma）
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IMEC利用配備LA-DPP光源的EUV曝光裝置成功曝光晶圓
IMEC宣布，成功利用ASML的EUV（extreme ultraviolet）曝光裝置NXE:3100進行曝光。該EUV曝光裝置配備了日本牛尾電機的全資子公司德國XTREME technologies GmbH公司生產(chǎn)的LA-DPP（laser assisted discharge produced p
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IMEC利用配備LA-DPP光源的EUV曝光裝置曝光晶圓
比利時IMEC宣布，成功利用荷蘭阿斯麥（ASML Holding N.V.）公司生產(chǎn)的試制及少量生產(chǎn)用（Pre-Production Tool：PPT）EUV（extreme ultraviolet）曝光裝置“NXE:3100”在晶圓上進行了曝光。該EUV曝光裝置配備了日本
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臺積電擴大研發(fā)團隊 加速20納米制程開發(fā)
被臺積電視為下世代主力的20納米制程，目前研發(fā)工作主要需克服的困難，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季將良率快速提升。為加速20納米制程研發(fā)工作，臺積電將研發(fā)單位集中到新竹12廠，并擴大研發(fā)團隊，包含許
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諾基亞西門子與私募談判失敗 售股交易告吹
（林靖東）北京時間7月13日消息，據(jù)國外媒體報道，諾基亞和西門子與私募公司進行了12個月的售股談判近日以失敗告終，兩家公司放棄了將所持諾西網(wǎng)絡(luò)公司股份出售出去的打算。 兩家公司在周三公布了談判失敗的消息
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臺積電擴大研發(fā)團隊 加速20納米制程開發(fā)
被臺積電視為下世代主力的20納米制程，目前研發(fā)工作主要需克服的困難，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季將良率快速提升。為加速20納米制程研發(fā)工作，臺積電將研發(fā)單位集中到新竹12廠，并擴大研發(fā)團隊，包含許
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荷蘭芯片設(shè)備供應(yīng)商ASML Q2凈利同比增長81%
荷蘭芯片設(shè)備供應(yīng)商ASML公司在本周三表示，該公司今年第二財季的凈利潤比去年同期增長了近81%至4.32億歐元（合6.07億美元），去年同期該公司的凈利潤為2.39億歐元。ASML公司第二財季的銷售額比去年同期增長了53%至15
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臺積電擴大研發(fā)團隊 加速20奈米制程開發(fā)
蘇芳禾／臺北 被臺積電視為下世代主力的20奈米制程，目前研發(fā)工作主要需克服的困難，在于良率提升和成本下降，希望能在下一季將良率快速提升。為加速20奈米制程研發(fā)工作，臺積電將研發(fā)單位集中到新竹12廠，并擴大研發(fā)
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光源供應(yīng)商看好EUV導(dǎo)入量產(chǎn)時程
盡管紫外光微影(EUV)的一再延遲，已讓人對于它的實際商用時程產(chǎn)生疑問，但 EUV 光源供應(yīng)商 Cymer 表示，隨著可提高晶圓產(chǎn)出的新一代光源技術(shù)日漸成熟，預(yù)估最快在14nm節(jié)點， EUV 將可望導(dǎo)入晶圓的量產(chǎn)中。Cymer迄今已
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瑞晶成為30納米制程轉(zhuǎn)換最快的臺灣DRAM廠
瑞晶董事會日前通過30納米制程轉(zhuǎn)換資本支出18.15億元決議案，并沖刺單月產(chǎn)能到年底達到8.8萬片，成為邁向30納米制程進展最快的臺系DRAM廠。此外，董事會也通過，向臺灣歐力士公司申請機器設(shè)備售后租回融資約10億元，
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瑞晶成30納米制程轉(zhuǎn)換最快的臺灣DRAM廠
瑞晶董事會日前通過30納米制程轉(zhuǎn)換資本支出18.15億元決議案，并沖刺單月產(chǎn)能到年底達到8.8萬片，成為邁向30納米制程進展最快的臺系DRAM廠。此外，董事會也通過，向臺灣歐力士公司申請機器設(shè)備售后租回融資約10億元，
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臺積電臺聯(lián)電分別拋出設(shè)備大訂單
日本東京電子(TEL)日前收到來自聯(lián)電的一筆后繼設(shè)備訂單，價值約為三千零五十萬美元，這是TEL今年迄今為止收到的來自聯(lián)電的最大一筆設(shè)備訂單，TEL接獲來自聯(lián)電的上一筆訂單是在今年四月，價值為一千九百十萬美元。與此
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臺積電加入EIDEC聯(lián)盟
臺積電與日本瑞薩電子(Renesas)決定加入以研發(fā)次世代半導(dǎo)體制造技術(shù)為目標的EUVL基板開發(fā)中心(EIDEC)。EIDEC是由東芝(Toshiba)領(lǐng)軍，由11間日本企業(yè)共同出資設(shè)立，致力于研究深紫外線(EUV)微影技術(shù)。目前EIDEC已經(jīng)和
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ASML單價近一億美元的EUV光刻機訂單已達10臺 預(yù)計2012年開始正式交貨
2010年浸潤式微米光刻機臺設(shè)備(Immersion Scanner)大缺貨，形成DRAM產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)進40納米工藝的天險，隨著缺貨問題解決，ASML針對20納米工藝，推出深紫外光(EUV)機臺，目前已有10臺訂單在手，預(yù)計2012年將正式交貨；不過，
