在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后,制造越來(lái)越困難,其中最復(fù)雜的一步—;—;光刻需要用到EUV光刻機(jī)了,而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國(guó)際去年也訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī),日前該公司表示
近年來(lái),隨著國(guó)家的大力支持以及國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求的快速增長(zhǎng),國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛,而在關(guān)鍵的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進(jìn)步。 比如在硅刻蝕機(jī)領(lǐng)域,北方華創(chuàng)實(shí)現(xiàn)了14nm設(shè)備的突破,同時(shí)也在去年實(shí)現(xiàn)了適
據(jù)多家外媒報(bào)道,在IEEE國(guó)際電子設(shè)備會(huì)議(IEDM)上,一張英特爾即將推出的制造工藝的擴(kuò)展路線(xiàn)圖被透露,其中顯示,英特爾未來(lái)將推出7nm、5nm、3nm、2nm和1.4nm工藝。而這張圖是由ASML發(fā)言人在會(huì)議上展示的,ASML表示,此圖為英特爾9月在一次光刻會(huì)議上展示的。然而英特爾方面則澄清,這張圖被ASML修改過(guò)了。
今天鬧得沸沸揚(yáng)揚(yáng)的ASML光刻機(jī)對(duì)中國(guó)廠(chǎng)商斷供一事,ASML公司官方也發(fā)表了聲明,否認(rèn)了延遲出貨、斷供等說(shuō)法,稱(chēng)媒體報(bào)道有誤,ASML對(duì)全球客戶(hù)是一視同仁的。 這次外媒報(bào)道來(lái)源于日本的日經(jīng)新聞獨(dú)家新聞
11月7日消息,針對(duì)荷蘭ASML公司延遲出貨EUV光刻機(jī)的報(bào)道,中芯國(guó)際剛剛也作出了回應(yīng),稱(chēng)“極紫外光(EUV)還在紙面工作階段,未進(jìn)行相關(guān)活動(dòng)。公司先進(jìn)工藝研發(fā)進(jìn)展順利。目前,研發(fā)與生產(chǎn)的連結(jié)一切正
EUV還在紙面工作階段,未進(jìn)行相關(guān)活動(dòng)。公司先進(jìn)工藝研發(fā)進(jìn)展順利。目前,研發(fā)與生產(chǎn)的連結(jié)一切正常。客戶(hù)與設(shè)備導(dǎo)入正常運(yùn)作。
半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)可以說(shuō)是制造業(yè)的皇冠,而光刻機(jī)就是皇冠上的明珠,EUV光刻機(jī)則是明珠之光,其設(shè)計(jì)之復(fù)雜遠(yuǎn)超一般工業(yè)設(shè)備。 目前EUV光刻機(jī)只有荷蘭ASML公司能夠生產(chǎn),Q3季度他們交付了7臺(tái)EUV光刻機(jī)
臺(tái)積電今天宣布將全年的資本開(kāi)支從110億美元提升到140-150億美元,增長(zhǎng)了40%左右,希望進(jìn)一步提升7nm及5nm產(chǎn)能。 在這個(gè)領(lǐng)域,唯一能跟臺(tái)積電競(jìng)爭(zhēng)的就是三星了,但是三星的問(wèn)題在于進(jìn)展較慢,現(xiàn)
北京清芯華創(chuàng)投資公司投委會(huì)主席陳大同博士日前在報(bào)告中談到了中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)與世界一流水平的差距,其中封裝方面差距最小,最快5年追上,半導(dǎo)體制造上則需要10-15年,這部分也是國(guó)產(chǎn)最弱的一部分了。 在半導(dǎo)
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,最重要的一個(gè)過(guò)程就是光刻工藝,需要用到光刻機(jī),7nm及以下節(jié)點(diǎn)工藝則需要EUV光刻機(jī),目前只有荷蘭ASML公司能生產(chǎn),每臺(tái)售價(jià)超過(guò)1億歐元,可以說(shuō)是半導(dǎo)體行業(yè)的明珠了,是門(mén)檻非常高
半導(dǎo)體制造過(guò)程中最復(fù)雜也是最難的步驟就是光刻,光刻機(jī)也因此成為最重要的半導(dǎo)體制造設(shè)備。在7nm制程的較量中,臺(tái)積電之所以能夠領(lǐng)先,一個(gè)很重要的原因就是EUV技術(shù),在半導(dǎo)體制造的工藝中,這部分的成本就能
在2019年,臺(tái)積電和三星都準(zhǔn)備量產(chǎn)7納米的EUV工藝了,并且明年也會(huì)是5納米工藝的一個(gè)重要節(jié)點(diǎn)。要知道,在半導(dǎo)體制造的工藝中,最重要而且最復(fù)雜的就是光刻步驟,往往光這部分的成本就能占到33%左右,所
全球半導(dǎo)體設(shè)備廠(chǎng)ASML于17日公布2019年第2季財(cái)報(bào)。資料顯示,ASML第一季繳出成長(zhǎng)成績(jī)單,整體表現(xiàn)優(yōu)于市場(chǎng)預(yù)期。
近日,阿斯麥在官網(wǎng)披露的數(shù)據(jù)顯示,其在二季度的營(yíng)收為25.68億歐元,較今年一季度的22.29億歐元增加3.39億歐元,環(huán)比增長(zhǎng)率為15.2%。
6月24日晚間,臺(tái)積電發(fā)布公告稱(chēng),斥資152.79億新臺(tái)幣(約合人民幣34億元)向ASML臺(tái)灣分公司訂購(gòu)了一批機(jī)器設(shè)備。
為什么一臺(tái)最新的光刻機(jī)可以賣(mài)到超過(guò)一億美金?
晶圓制造產(chǎn)業(yè)進(jìn)入7納米制程之后,目前全世界僅剩臺(tái)積電與三星,再加上號(hào)稱(chēng)自家10納米制程優(yōu)于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手7納米制程的英特爾等,有繼續(xù)開(kāi)發(fā)能力之外,其他競(jìng)爭(zhēng)者因須耗費(fèi)大量金錢(qián)與人力物力的情況下,都已宣布放棄。
在先進(jìn)制程納米節(jié)點(diǎn)持續(xù)微縮下,光刻機(jī)是重要關(guān)鍵設(shè)備。12寸晶圓主要光刻機(jī)為ArF immersion機(jī)臺(tái),可覆蓋45nm一路往下到7nm節(jié)點(diǎn)的使用范圍,其雷射光波長(zhǎng)最小微縮到193nm;針對(duì)7nm節(jié)點(diǎn)以下的制程,EUV(Extreme Ultra-Violet)極紫外光使用光源波長(zhǎng)為13.5nm,確保先進(jìn)制程持續(xù)發(fā)展的可能性。
消息,近日有外媒報(bào)道稱(chēng)中國(guó)員工竊取荷蘭公司阿斯麥(ASML Holding N.V)商業(yè)機(jī)密并泄露給中國(guó)政府,ASML就是此前中芯國(guó)際購(gòu)買(mǎi)1.2億美元EUV光刻機(jī)的賣(mài)方,幾乎是中芯國(guó)際2017年的全部
ASML第一季度凈利潤(rùn)為3.55億歐元(約4.013億美元),低于去年同期的5.81億歐元,同比下降約39%;銷(xiāo)售額從去年同期的22.9億歐元降至22.3億歐元,毛利率為41.6%。