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High-NA EUV光刻機進展順利，0.2nm路線圖來了！
近日，在比利時安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會上，IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報告，探討了直至2036年左右的半導體工藝、技術(shù)路線圖。
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摩爾定律仍將適用，2036年芯片最小可達0.2nm
近日，在比利時安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會上，IMEC(比利時微電子研究中心)發(fā)布報告，探討了直至2036年左右的半導體工藝、技術(shù)路線圖。預估最小可達0.2nm，將在2036年實現(xiàn)
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IMEC發(fā)布報告：2036年實現(xiàn)"0.2nm"工藝
近日，在比利時安特衛(wèi)普舉辦的未來峰會上，IMEC(微電子研究中心)發(fā)布報告，探討了直至2036年左右的半導體工藝、技術(shù)路線圖。
