上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 (宏力半導(dǎo)體),專(zhuān)注于差異化技術(shù)的半導(dǎo)體制造業(yè)領(lǐng)先企業(yè)之一,發(fā)布其先進(jìn)的0.13微米嵌入式閃存制程。 宏力半導(dǎo)體的新0.13微米嵌入式閃存制程結(jié)合了其已經(jīng)量產(chǎn)的自對(duì)準(zhǔn)分柵閃存技術(shù)和自身
上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 (宏力半導(dǎo)體),專(zhuān)注于差異化技術(shù)的半導(dǎo)體制造業(yè)領(lǐng)先企業(yè)之一,發(fā)布其先進(jìn)的0.13微米嵌入式閃存制程。 宏力半導(dǎo)體的新0.13微米嵌入式閃存制程結(jié)合了其已經(jīng)量產(chǎn)的自對(duì)準(zhǔn)分柵閃存技術(shù)和自身
上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 (宏力半導(dǎo)體),專(zhuān)注于差異化技術(shù)的半導(dǎo)體制造業(yè)領(lǐng)先企業(yè)之一,發(fā)布其先進(jìn)的0.13微米嵌入式閃存制程。宏力半導(dǎo)體的新0.13微米嵌入式閃存制程結(jié)合了其已經(jīng)量產(chǎn)的自對(duì)準(zhǔn)分柵閃存技術(shù)和自身的
上海宏力半導(dǎo)體制造有限公司 (宏力半導(dǎo)體),發(fā)布其先進(jìn)的0.13微米嵌入式閃存制程。宏力半導(dǎo)體的新0.13微米嵌入式閃存制程結(jié)合了其已經(jīng)量產(chǎn)的自對(duì)準(zhǔn)分柵閃存技術(shù)和自身的0.13微米邏輯技術(shù)。該授權(quán)閃存技術(shù)具有單元尺寸
臺(tái)積電日前宣布完成0.18微米嵌入式閃存(0.18-micron embFlash)制程認(rèn)證,此制程因有低漏電的特性,因此適用于手持式裝置與汽車(chē)電子等芯片應(yīng)用上,有助于臺(tái)積電爭(zhēng)取更多新客戶(hù),預(yù)計(jì)今年第3季就可以量產(chǎn)。 臺(tái)積電目前
純晶圓代工廠之一,上海華虹NEC電子有限公司(以下簡(jiǎn)稱(chēng)“華虹NEC”)日前宣布,與多家智能卡行業(yè)龍頭設(shè)計(jì)公司的合作順利進(jìn)行?;谌A虹NEC的0.13微米嵌入式閃存工藝(“EF130”)生產(chǎn)的SIM卡產(chǎn)品完成產(chǎn)品的可靠性測(cè)試
IBM獲英飛凌130納米嵌入式閃存工藝使用許可
臺(tái)積電將銅工藝引入0.13微米嵌入式閃存芯片
海宏力半導(dǎo)體制造有限公司近日宣布,在過(guò)去的2006年,其晶圓出貨量和營(yíng)業(yè)額較2005年的增長(zhǎng)率均超過(guò)100%。2007年伊始,在半導(dǎo)體行業(yè)普遍低迷的情況下,宏力依然延續(xù)06年第四季度的增長(zhǎng)勢(shì)頭,產(chǎn)能利用持續(xù)滿(mǎn)載,且
英特爾有限公司今天宣布, 將擴(kuò)展其N(xiāo)OR閃存產(chǎn)品線,以滿(mǎn)足不斷增長(zhǎng)的數(shù)十億美元嵌入式市場(chǎng)的需要。英特爾公司計(jì)劃引入3伏(3V)版本的英特爾StrataFlash®嵌入式存儲(chǔ)架構(gòu)。英特爾還透露,將以首款串行外圍接口(Ser
Infineon 130納米嵌入式閃存微控制器實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)