業(yè)界已逐漸考慮擺脫傳統(tǒng)的引線封裝,接受結(jié)構(gòu)更為復(fù)雜的陣列組態(tài)基板封裝技術(shù),卻也面臨先天性散熱、高密度等挑戰(zhàn),若能克服困難,這個(gè)下一世代的封裝技術(shù)可望提升眾多應(yīng)用元件的整體效能,展現(xiàn)封裝技術(shù)新契機(jī)。 電
1 前言 本文試圖綜述自二十世紀(jì)九十年代以來(lái)迅速發(fā)展的新型微電子封裝技術(shù),包括焊球陣列封裝(BGA)、芯片尺寸封裝(CSP)、圓片級(jí)封裝(WLP)、三維封裝(3D)和系統(tǒng)封裝(SIP)等項(xiàng)技術(shù)。介紹它們的發(fā)展?fàn)顩r和技術(shù)特點(diǎn)
設(shè)備廠萬(wàn)潤(rùn)表示,由于面板廠擴(kuò)產(chǎn)集中于下半年裝機(jī),預(yù)估第3季將會(huì)是營(yíng)收高峰,帶動(dòng)整體下半年?duì)I收走高,目前來(lái)看,第2季由于被動(dòng)組件廠擴(kuò)產(chǎn),帶動(dòng)訂單涌入,預(yù)期第2季營(yíng)收將優(yōu)于首季。 萬(wàn)潤(rùn)指出,第1季受惠于被動(dòng)
李洵穎 DRAM的世代交替帶動(dòng)了先進(jìn)封裝技術(shù)的發(fā)展,以往DDR DRAM及利基型SDRAM產(chǎn)品,其封裝型態(tài)均為超薄小型晶粒承載封裝(TSOP),自DDR2產(chǎn)品封裝型態(tài)已改變?yōu)殚l球陣列封裝(BGA),延續(xù)至2010年主流自DDR2逐步由DDR3取代
近年來(lái)LED產(chǎn)業(yè)開始逐漸從喧囂的照明革命中冷靜下來(lái),中國(guó)LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展日趨成熟和理智。發(fā)光二極管(LED)的發(fā)光效能也在過(guò)往的十年間已大幅提升,從過(guò)去的20流明每瓦增加到最近的150流明每瓦,當(dāng)前高功率LED已達(dá)到適用于
近年來(lái)LED產(chǎn)業(yè)開始逐漸從喧囂的照明革命中冷靜下來(lái),中國(guó)LED產(chǎn)業(yè)發(fā)展日趨成熟和理智。發(fā)光二極管(LED)的發(fā)光效能也在過(guò)往的十年間已大幅提升,從過(guò)去的20流明每瓦增加到最近的150流明每瓦,當(dāng)前高功率LED已達(dá)到適用
2010年,半導(dǎo)體封裝業(yè)界,以銅引線鍵合為代表的低成本封裝技術(shù)吸引了眾多目光。雖然將來(lái)有望出現(xiàn)基于TSV(硅貫通孔)的三維積層等創(chuàng)新技術(shù),但目前的通貨緊縮對(duì)策成為最重要的課題。2010年1月,SEMI公布了關(guān)于銅引線
LED照明將成為第二個(gè)帶動(dòng)LED行業(yè)迅速成長(zhǎng)的應(yīng)用產(chǎn)品。LED行業(yè)的爆發(fā)性成長(zhǎng)源于多年來(lái)的市場(chǎng)培養(yǎng)和技術(shù)累計(jì),根據(jù)DIGITIMESResearch最新統(tǒng)計(jì),高亮度LED市場(chǎng)規(guī)模將由2010年82.5億美元,成長(zhǎng)至2011年的126億美元,年成
2010年,半導(dǎo)體封裝業(yè)界,以銅引線鍵合為代表的低成本封裝技術(shù)吸引了眾多目光。雖然將來(lái)有望出現(xiàn)基于TSV(硅貫通孔)的三維積層等創(chuàng)新技術(shù),但目前的通貨緊縮對(duì)策成為最重要的課題。 2010年1月,SEMI公布了關(guān)于銅
2010年,半導(dǎo)體封裝業(yè)界,以銅引線鍵合為代表的低成本封裝技術(shù)吸引了眾多目光。雖然將來(lái)有望出現(xiàn)基于TSV(硅貫通孔)的三維積層等創(chuàng)新技術(shù),但目前的通貨緊縮對(duì)策成為最重要的課題。2010年1月,SEMI公布了關(guān)于銅引線鍵
2010年,半導(dǎo)體封裝業(yè)界,以銅引線鍵合為代表的低成本封裝技術(shù)吸引了眾多目光。雖然將來(lái)有望出現(xiàn)基于TSV(硅貫通孔)的三維積層等創(chuàng)新技術(shù),但目前的通貨緊縮對(duì)策成為最重要的課題。2010年1月,SEMI公布了關(guān)于銅引線
在計(jì)算機(jī)內(nèi)存產(chǎn)品工藝中,內(nèi)存的封裝技術(shù)是內(nèi)存制造工藝中最關(guān)鍵一步,采用不同封裝技術(shù)的內(nèi)存條,在性能上存在較大差距。只有高品質(zhì)的封裝技術(shù)才能生產(chǎn)出完美的內(nèi)存產(chǎn)品。本文就主要介紹兩種新型封裝技術(shù)--BLP和Tin
2010年,半導(dǎo)體封裝業(yè)界,以銅引線鍵合為代表的低成本封裝技術(shù)吸引了眾多目光。雖然將來(lái)有望出現(xiàn)基于TSV(硅貫通孔)的三維積層等創(chuàng)新技術(shù),但目前的通貨緊縮對(duì)策成為最重要的課題。 2010年1月,SEMI公布了關(guān)于銅
黃金期貨價(jià)格續(xù)攀新高,一度挑戰(zhàn)歷史新高價(jià)位,而銅價(jià)則處于檔震溫格局。對(duì)封裝業(yè)而言,銅價(jià)相對(duì)穩(wěn)定,金價(jià)持續(xù)飆升,將影響封裝毛利,預(yù)期金線和銅線封裝價(jià)格差異幅度拉大,從過(guò)去15%將拉大到25%;同時(shí),金漲銅穩(wěn)的
1996年,Nichia公司的Nakamura等首次使用藍(lán)光led結(jié)合黃色熒光粉轉(zhuǎn)化合成了白光LED。他所采用的黃色熒光粉為Y3Al5O12:Ce3+(簡(jiǎn)稱YAG:Ce3+),這種熒光粉在470nm波段附近有較強(qiáng)的寬帶吸收,然后激發(fā)出540nm附近的黃光,L
據(jù)日經(jīng)新聞報(bào)導(dǎo),富士通(FujitsuLtd.)集團(tuán)旗下半導(dǎo)體子公司富士通半導(dǎo)體(FujitsuSemiconductor;原名為富士通微電子)計(jì)劃于今(2010)年內(nèi)將采用先端半導(dǎo)體封裝技術(shù)的日本三重工廠部份生產(chǎn)設(shè)備移至中國(guó)大陸相關(guān)公司&ldq
日經(jīng)新聞27日?qǐng)?bào)導(dǎo),富士通(Fujitsu Ltd.)集團(tuán)旗下半導(dǎo)體子公司富士通半導(dǎo)體(Fujitsu Semiconductor;原名為富士通微電子)計(jì)劃于今(2010)年內(nèi)將采用先端半導(dǎo)體封裝技術(shù)的日本三重工廠部份生產(chǎn)設(shè)備移至中國(guó)大陸相關(guān)公
臺(tái)系一線封測(cè)廠不僅致力于銅制程競(jìng)賽,亦兼顧高階封裝技術(shù),由于電子產(chǎn)品大吹輕薄風(fēng),功能益趨多元復(fù)雜,半導(dǎo)體高階制程備受青睞,使得高密度封裝技術(shù)包括晶圓級(jí)封裝(WLP)、層迭式封裝(PoP)、多芯片封裝(MCP)等,成為
臺(tái)系一線封測(cè)廠不僅致力于銅制程競(jìng)賽,亦兼顧高階封裝技術(shù),由于電子產(chǎn)品大吹輕薄風(fēng),功能益趨多元復(fù)雜,半導(dǎo)體高階制程備受青睞,使得高密度封裝技術(shù)包括晶圓級(jí)封裝(WLP)、層迭式封裝(PoP)、多芯片封裝(MCP)等,成為
隨著封裝技術(shù)未來(lái)將進(jìn)入3D IC時(shí)代,半導(dǎo)體封裝專利授權(quán)廠商Tessera認(rèn)為,若臺(tái)灣廠商可掌握3D IC趨勢(shì),并結(jié)合臺(tái)灣集中的IC產(chǎn)業(yè)鏈,3D IC技術(shù)將有機(jī)會(huì)領(lǐng)先全球。其中硅穿孔(TSV)挾著成本便宜等優(yōu)勢(shì),未來(lái)成長(zhǎng)潛力十足,