-
22納米后EUV光刻還是電子束光刻？市場(chǎng)看法存分歧
浸潤(rùn)式微顯影雙重曝光能進(jìn)一步延伸摩爾定律的壽命至32納米，不過(guò)，22納米以下究竟哪種技術(shù)得以出頭，爭(zhēng)議不斷。據(jù)了解，臺(tái)積電目前正積極研發(fā)22納米以下直寫(xiě)式多重電子束(MEBDW)方案，并已有具體成果，但積極推動(dòng)深紫
-
納米壓印光刻：有望降低生產(chǎn)納米壓印模具成本
利用普林斯頓大學(xué)電機(jī)工程師周郁(Stephen Chou)發(fā)明的一種新式裂紋誘導(dǎo)(fracture-induced)構(gòu)造工藝來(lái)生產(chǎn)電路圖案模具，納米壓印光刻可能得到簡(jiǎn)化。作為納米壓印光刻設(shè)備制造商N(yùn)anonex Corp.的創(chuàng)始人，周郁期望他的最
-
光刻行業(yè)遭雙重打擊 下一代技術(shù)面臨難題
曾經(jīng)看來(lái)大有希望的遠(yuǎn)紫外(EUV)光刻技術(shù)面臨著重重困難，193納米沉浸式技術(shù)似乎成為了必然的選擇，但成本高昂，而且很難延伸到16納米節(jié)點(diǎn)以下。半導(dǎo)體光刻工藝正面臨著技術(shù)和成本方面的雙重壓力。 半導(dǎo)體光刻工藝面臨
- 挑戰(zhàn)趣味測(cè)試，了解PI電機(jī)驅(qū)動(dòng)IC超能力
- 分享設(shè)計(jì)槽點(diǎn)，尋找華邦電子為您帶來(lái)的小確幸
- 我與貿(mào)澤不得不說(shuō)的秘密，如何讓選型和設(shè)計(jì)更輕松與愜意？
- 得捷芯聞解碼研習(xí)站第一期：探索能源采集芯片的奧義
- ST超低功耗MCU來(lái)襲，挑戰(zhàn)趣味游戲，見(jiàn)證STM32U3的電池增壽能力
- PI邀您探索神秘節(jié)能空間，點(diǎn)亮你的專(zhuān)屬“智慧客廳”
- 基恩士新型顯微系統(tǒng)產(chǎn)品“VHX-X1系列”來(lái)襲，填寫(xiě)有獎(jiǎng)問(wèn)卷
