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SMEE攜支持PSS和電極工藝光刻機進軍LED領(lǐng)域
致力于投影光刻機研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(以下簡稱SMEE)，日前攜SSB300系列LED步進投影光刻機亮相2014廣州國際LED展。首臺LED步進投影光刻機的推出，不僅滿足了國內(nèi)LED廠家對更高品質(zhì)產(chǎn)品的
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上海市集成電路高端裝備制造企業(yè)認(rèn)定管理辦法
為了加快培育戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)，促進上海集成電路高端裝備制造業(yè)的發(fā)展，按照《關(guān)于本市進一步鼓勵軟件產(chǎn)業(yè)和集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展的若干政策》（滬府發(fā)〔2012〕26號）的規(guī)定，為落實《上海市軟件和集成電路企業(yè)設(shè)計人員專
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以光為刃，鐫刻中國產(chǎn)業(yè)的“光刻指紋”
本報記者 陳 磊 賈 婧 創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展 賀榮明清楚地記得，11年前，當(dāng)大部分專家、領(lǐng)導(dǎo)問他，中國自主研發(fā)光刻機有決心嗎？“有！”當(dāng)時的回答并無一絲猶豫?！叭缃窕叵氪耸抡嬗行┖笈?，那時候勇氣勝過理智?！?/p>
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要有“中國芯”先要“中國造”
解決“中國芯”的問題必須要解決“中國制造”的問題。集成電路制造技術(shù)融合了40多種科學(xué)技術(shù)及工程領(lǐng)域多種交叉學(xué)科和尖端制造技術(shù)，對制造裝備、精密機械、精密儀器、自動化、精細(xì)化工和新材料
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極紫外光刻2015年商用：目標(biāo)10nm
全球最大的半導(dǎo)體制造設(shè)備供應(yīng)商荷蘭ASML今天重申，極紫外(EUV)光刻技術(shù)將在2015年如期投入商用，各大半導(dǎo)體廠商都在摩拳擦掌。ASML首席執(zhí)行官兼總裁Peter Wennink公開表示：“NXE:3300B極紫外光刻掃描儀的整合
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上海微電子攜SMEE 300系列光刻機進軍LED產(chǎn)業(yè)
LED半導(dǎo)體照明網(wǎng)訊 致力于投影光刻機研發(fā)、生產(chǎn)、銷售與服務(wù)的上海微電子裝備有限公司(SHANGHAI Micro Electronic Equipment；SMEE)，日前在臺參加半導(dǎo)體展，展出了用于封裝以及LED產(chǎn)業(yè)光刻機設(shè)備。此次半導(dǎo)
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SSB500/20先進封裝光刻機亮相SEMICON-China2013
2013年3月19日至3月21日，全球最大規(guī)模的半導(dǎo)體展會——SEMICONChina2013在上海新國際博覽中心隆重舉行。 上海微電子裝備有限公司（以下簡稱SMEE）重點展示了面向IC先進封裝、3D-TSV制造領(lǐng)域的SSB500/20型步進投影
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上海微電子先進封裝光刻機獲14屆中國國際工業(yè)博覽會金獎
上海微電子裝備有限公司的先進封裝光刻機在11月10日閉幕的第14屆中國國際工業(yè)博覽會上榮獲金獎。這家企業(yè)研制的封裝光刻機已經(jīng)達到國際同等先進技術(shù)水平，累計申請發(fā)明專利180多項，國際發(fā)明專利5項。這家公司成立十
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中芯國際北京公司:向肉眼看不到的成本要效益
在中芯國際北京公司生產(chǎn)車間的一角，偌大的廠房里擺滿了2人高的光刻機。據(jù)財報顯示，9個月前，中芯國際還處于凈虧損數(shù)千萬元的狀態(tài)，9個月后，公司的產(chǎn)能利用率卻已從65%飆升至95%，實現(xiàn)了2012年二季度凈利潤約4500萬
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中國集成電路產(chǎn)業(yè)尋求自主創(chuàng)新之路
我國每年進口額最大的單項商品是什么?是石油嗎?不是。是鐵礦石?更不是。是芯片!是集成電路芯片!我國每年進口的集成電路芯片價值高達1200億美元。放眼世界，集成電路作為信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)和核心，是國民經(jīng)濟和社會發(fā)展的
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中國集成電路產(chǎn)業(yè)尋求自主創(chuàng)新之路
我國每年進口額最大的單項商品是什么?是石油嗎?不是。是鐵礦石?更不是。是芯片!是集成電路芯片!我國每年進口的集成電路芯片價值高達1200億美元。放眼世界，集成電路作為信息產(chǎn)業(yè)的基礎(chǔ)和核心，是國民經(jīng)濟和社會發(fā)展的
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IC裝備專項支撐IC產(chǎn)業(yè)發(fā)展
“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”重大專項旨在開發(fā)集成電路關(guān)鍵制造裝備，掌握具有自主知識產(chǎn)權(quán)的成套先進工藝及相關(guān)新材料技術(shù)，打破我國高端集成電路制造裝備與工藝完全依賴進口的狀況，帶動相關(guān)產(chǎn)業(yè)的技術(shù)
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片內(nèi)相位測量工具模擬光刻機
關(guān)鍵字：片內(nèi)相位測量 模擬光刻機采用特殊照明方式的高/超高數(shù)值孔徑（NA）的193nm光刻機和相位移掩膜版（PSM），使得光刻分辨率的極限達到了32nm節(jié)點。不利的因素是掩膜的復(fù)雜度正在以指數(shù)級遞增，而業(yè)界又迫切需要
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Molecular Imprints 獲提供先進光刻機和薄片圖案形成服務(wù)的合約
Molecular Imprints 獲提供先進光刻機和薄片圖案形成服務(wù)的合約，為 G450c 計劃提供支援 Molecular Imprints 獲領(lǐng)先 IC 制造商授予首個450毫米光刻系統(tǒng)訂單 德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞洲/ — 奈米
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Molecular獲提供先進光刻機和薄片圖案形成服務(wù)的合約
-- Molecular Imprints 獲提供先進光刻機和薄片圖案形成服務(wù)的合約，為 G450c 計劃提供支援 -- Molecular Imprints 獲領(lǐng)先 IC 制造商授予首個450毫米光刻系統(tǒng)訂單 德克薩斯州奧斯丁2011年11月18日電 /美通社亞
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日本人揚頭趕上：尼康光刻機市場表現(xiàn)回勇
日本尼康公司曾經(jīng)一度在高端光刻機市場上相比其對手荷蘭ASML公司有所失寵，不過最近由于高端光刻機市場需求相當(dāng)旺盛，尼康公司的光刻部門終于擺脫了兩年以來一直賠本經(jīng)營的局面。 由于市場對尼康193nm液浸式光刻工
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沉浸式光刻機供貨緊缺 臺系芯片廠制程升級受阻
據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機目前供貨十分緊缺，因此臺系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設(shè)備的時間 可能會再后延12個月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機對這些廠商轉(zhuǎn)移到38n
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沉浸式光刻機供貨緊缺 臺系內(nèi)存芯片廠制程升級受阻
據(jù)內(nèi)存業(yè)者透露，由于著名光刻設(shè)備廠商ASML生產(chǎn)的NXT:1950i沉浸式光刻機目前供貨十分緊缺，因此臺系內(nèi)存芯片廠商收到所訂購的這種設(shè)備的時間 可能會再后延12個月之久，由于NXT:1950i沉浸式光刻機對這些廠商轉(zhuǎn)移到38n
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分析師稱ASML應(yīng)該對內(nèi)存芯片供不應(yīng)求負(fù)一定責(zé)任
對于內(nèi)存廠商來說，已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn)，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時間加長，產(chǎn)品價格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上，一位分析師
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分析師稱ASML應(yīng)該對內(nèi)存芯片供不應(yīng)求負(fù)一定責(zé)任
對于內(nèi)存廠商來說，已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn)，可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺，芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準(zhǔn)備時間加長，產(chǎn)品價格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上，一位分析師
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